JPH02214672A - 厚膜感熱ヘッドの製造方法 - Google Patents

厚膜感熱ヘッドの製造方法

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Publication number
JPH02214672A
JPH02214672A JP3358989A JP3358989A JPH02214672A JP H02214672 A JPH02214672 A JP H02214672A JP 3358989 A JP3358989 A JP 3358989A JP 3358989 A JP3358989 A JP 3358989A JP H02214672 A JPH02214672 A JP H02214672A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
trimming
thermal head
heating treatment
protective film
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3358989A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuo Honda
本田 龍夫
Yasuaki Suzuki
安昭 鈴木
Makoto Tsumura
誠 津村
Tadashi Ito
廉 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koki Holdings Co Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Koki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Koki Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP3358989A priority Critical patent/JPH02214672A/ja
Publication of JPH02214672A publication Critical patent/JPH02214672A/ja
Priority to US07/576,101 priority patent/US5072284A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感熱プリンタに用いられる感熱ヘッドの製造
プロセスに係り、特に厚膜感熱ヘッドの高画質化を達成
するのに好適な熱処理方法に関する。
〔従来の技術〕
厚膜感熱ヘッドはペースト状の抵抗材料をスクリーン印
刷により所定のパターンに印刷し、その後焼成すること
で発熱抵抗体を形成する。しかし抵抗体の抵抗値ばらつ
きが大きくなる欠点があり、この抵抗値ばらつきを低減
する方法として、特開昭63−59’557号に記載の
ように、抵抗値ばらつきを均一化する方法を用いている
〔発明が解決しようとする課題〕
厚膜感熱ヘッドは第3図に示すように個別電極1と共通
電極2が交互に配置され、両方の電極間を被うように発
熱抵抗体3が設けられる。発熱抵抗体3は酸化ルテニウ
ムとガラスを主成分とした抵抗体ペーストをスクリーン
印刷により形成し、高温で焼成する。そのため、各ドツ
トの抵抗値が不均一となり、一定電圧を印加してプリン
トすると濃度むらが発生する。この抵抗値ばらつきを低
減する方法として発熱抵抗体3のそれぞれに電圧パルス
を印加し、抵抗値を降下させ均一化するトリミング法が
ある。あらかじめ共通電極2とコモン線4を接続してト
リミングを実施すると、2つの発熱部を同時にトリミン
グするので抵抗値は所定の値にすることが可能だが、実
際に通電すると左右の発熱分布が異なる。従って厚膜感
熱ヘッドを用いて多値記録を行うには、共通電極を分離
してトリミングを行い、トリミング終了後に共通電極を
コモン線に接続しなければならない。コモン線の接続に
用いられる材料は、プリント時のコモン線の電圧降下を
考慮して高温で焼成する必要がある。
上記従来技術は、トリミング後の熱処理について配慮が
されておらず、第5図に示すようにトリミングにより抵
抗値ばらつきを低減したにもがかわらず、コモン線焼成
後の抵抗ばらつきが大きくなる問題がある。
本発明の目的は、トリミング後の抵抗値変化を小さくす
ることにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、保護膜形成後に保護膜焼成温度以下の温度
で加熱処理を行い、さらにトリミング後にもう一度加熱
処理をすることで厚膜感熱ヘッドを抵抗値ばらつきを大
幅に低減することができる。
[作用〕 加熱処理は、抵抗体及び保護膜焼成時にガラスと酸化ル
テニウム間に発生する微小な熱的歪やトリミング時に発
生する機械的歪を緩和する作用があるので抵抗値ばらつ
きを低減することができる。
〔実施例〕
以下1本発明の一実施例を第1図により説明する。
一般的には抵抗体焼成及び保護膜焼成後にトリミングを
実施して抵抗値の均一化を図るが、本実施例においては
トリミング前に保護膜焼成温度以下の加熱処理を行い焼
成時に発生した酸化ルテニウムとガラス界面の熱的微小
歪を緩和する。加熱処理のあとにトリミングを実施する
が、その後にさらに加熱処理を実施して、トリミング時
に発生した機械的な歪を緩和する。トリミング後の加熱
処理はコモン線材料の焼成温度と合せて実施してもよい
。本実施例のようなプロセスを実施すれば、抵抗ばらつ
きの低減することができる。
第2図に他の実施例を示す、抵抗体焼成及び保護膜焼成
後に抵抗体の粗調整トリミングを行う。
たとえば初期抵抗値の20%をトリミングによって降下
させるとき、粗調整トリミング量はその80〜90%と
する。その後、保護膜焼成温度以下の加熱処理を行い、
微調整トリミングを行い。
残りの10〜20%抵抗値を降下させ、設定した抵抗値
になるまでトリミングを実施する。トリミング終了後に
さらに加熱処理を行い抵抗5体の機械的歪を除去し、コ
モン線を接続する。コモン線の接続は加熱処理と併用し
てもよい、このようにトリミングを複数回実施すること
で抵抗値を設定した値に極力近づけることが可能となり
、トリミング後に加熱処理をすることで抵抗体の歪を緩
和することができるので、コモン線接続後の抵抗ばらつ
きを改善できる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、厚膜ヘッド内の抵抗ばらつきを大幅に
低減することが可能となり、各ドツトの発熱分布を一定
にすることができるので、多階調。
高画質化を図れる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す図、第2図は本発明の
他の実施例を示す図、第3図、第4図は従来の厚膜ヘッ
ド構造を示す図、第5図は処理工程の抵抗ばらつき変化
を示す図である。 1・・・個別電極、2・・・共通電極、3・・・発熱抵
抗体、4・・・コモン線。 第 図 第351 第4図 第2図 第 図 郊 理 工 穫

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、絶縁基板上に配置した通電用の電極と主走査方向に
    印刷された帯状の抵抗体と保護層から成る厚膜感熱ヘッ
    ドにおいて、保護膜焼成後に加熱処理をした後に電極間
    に所定の電圧を加え抵抗体のパルストリミングを行い抵
    抗値を一定の範囲にしたことを特徴とする厚膜感熱ヘッ
    ドの製造方法。 2、上記加熱処理温度が、保護膜焼成温度以下であるこ
    とを特徴とする特許請求範囲第1項記載の厚膜感熱ヘッ
    ドの製造方法。 3、上記厚膜感熱ヘッドにおいて保護膜焼成後1回目の
    パルストリミングを行い、その後加熱して再度パルスト
    リミングを行うことを特徴とする厚膜感熱ヘッドの製造
    方法。 4、1回目のパルストリミングが抵抗値の粗調整、2回
    目のパルストリミングが抵抗値の微調整であることを特
    徴とする特許請求範囲第3項記載の厚膜ヘッドの製造方
    法。
JP3358989A 1988-11-25 1989-02-15 厚膜感熱ヘッドの製造方法 Pending JPH02214672A (ja)

Priority Applications (2)

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JP3358989A JPH02214672A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 厚膜感熱ヘッドの製造方法
US07/576,101 US5072284A (en) 1988-11-25 1990-08-31 Solid state image pickup device

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JP3358989A JPH02214672A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 厚膜感熱ヘッドの製造方法

Publications (1)

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JPH02214672A true JPH02214672A (ja) 1990-08-27

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ID=12390696

Family Applications (1)

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JP3358989A Pending JPH02214672A (ja) 1988-11-25 1989-02-15 厚膜感熱ヘッドの製造方法

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JP (1) JPH02214672A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6010754A (en) * 1991-05-16 2000-01-04 Rohm Co., Ltd. Thermal head producing method
JP2006228781A (ja) * 2005-02-15 2006-08-31 Toppan Printing Co Ltd 部品内蔵用抵抗素子の製造方法
CN110181949A (zh) * 2019-06-11 2019-08-30 山东华菱电子股份有限公司 一种薄膜热敏打印头的修阻方法及装置

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JP2006228781A (ja) * 2005-02-15 2006-08-31 Toppan Printing Co Ltd 部品内蔵用抵抗素子の製造方法
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