JPH0221507A - 導電性シート - Google Patents
導電性シートInfo
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- JPH0221507A JPH0221507A JP3667088A JP3667088A JPH0221507A JP H0221507 A JPH0221507 A JP H0221507A JP 3667088 A JP3667088 A JP 3667088A JP 3667088 A JP3667088 A JP 3667088A JP H0221507 A JPH0221507 A JP H0221507A
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Landscapes
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- Non-Insulated Conductors (AREA)
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明は導電性シートに関する。さらに詳しくは、面方
向ならびに厚さ方向に導電性を有する導電性シートに関
する。
向ならびに厚さ方向に導電性を有する導電性シートに関
する。
[従来の技#FI]
従来から樹脂に導電性材料(例えばカーボン)を練り込
み製膜した導電性プラスチックフィルム(たとえば、米
国特許第4103066号)が知られている。
み製膜した導電性プラスチックフィルム(たとえば、米
国特許第4103066号)が知られている。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、前記従来例における導電性シートには次
のごとき問題点がある。
のごとき問題点がある。
(ロ)電気抵抗値が高い。
(イ)通気性がない。
(つ)導電性材料を練り込むことによりフィルム樹脂の
特性が損なわれる。
特性が損なわれる。
に)装飾性か良くない。
((ホ)コストが高い。
本発明は、前記の点に鑑み、樹脂特性を損なうことなく
、電気伝導性1通気性、装飾性に優れ、その上にコスト
が低く、積層プリント回路の縦方向導通用、液晶、ビオ
ロゲ・ン等の塗布基材に用いて看板やマーキングシート
や乾電池チエッカ−等に用いる他、シールド材などに使
用するのに適した導電性シートを提供することを目的と
する。
、電気伝導性1通気性、装飾性に優れ、その上にコスト
が低く、積層プリント回路の縦方向導通用、液晶、ビオ
ロゲ・ン等の塗布基材に用いて看板やマーキングシート
や乾電池チエッカ−等に用いる他、シールド材などに使
用するのに適した導電性シートを提供することを目的と
する。
[問題点を解決するための手段]
本発明の導電性シートは1貫通孔を有する基材の表裏両
面に金属蒸着層が形成され、該貫通孔の少なくとも一部
は該貫通孔の内壁にも金属蒸着層か形成されていて、該
表裏両面の金属蒸着層が貫通孔を通して電気的に接続さ
れてなることを特徴としている。
面に金属蒸着層が形成され、該貫通孔の少なくとも一部
は該貫通孔の内壁にも金属蒸着層か形成されていて、該
表裏両面の金属蒸着層が貫通孔を通して電気的に接続さ
れてなることを特徴としている。
[作 用]
基材は貫通孔を有し、基材の表裏両面に金属蒸着層を形
成する場合に該貫通孔の内壁にも金属蒸着層が形成され
るので該金属蒸着層を介して基材の表裏間に電気伝導性
を得ることかできる作用だけでなく、孔の数、孔の大き
さ、金属蒸着層の厚さ、基材の厚さにより電気伝導性を
制御できるという作用もある。また通気性、滑り性を制
御できるという作用もある。更にまた金属蒸着層の金属
の種類を換えることにより金属の特性を生かすことかで
き、金属蒸着層によりその表面は金属特有の金属光沢を
有していて装飾性に優れるという作用もある。
成する場合に該貫通孔の内壁にも金属蒸着層が形成され
るので該金属蒸着層を介して基材の表裏間に電気伝導性
を得ることかできる作用だけでなく、孔の数、孔の大き
さ、金属蒸着層の厚さ、基材の厚さにより電気伝導性を
制御できるという作用もある。また通気性、滑り性を制
御できるという作用もある。更にまた金属蒸着層の金属
の種類を換えることにより金属の特性を生かすことかで
き、金属蒸着層によりその表面は金属特有の金属光沢を
有していて装飾性に優れるという作用もある。
[実施例]
つぎに図面に基き本発明の導電性シートを説明する。
第1図および第2図はいずれも本発明の導電性シートの
実施例を示す概略部分断面図であり、第1図に示したも
のは、貫通孔(2)を有する基材(1)の表裏両面に金
属蒸着層(3)が形成され、該貫通孔(2)の少なくと
も一部は該貫通孔(2)の内壁■にも金属蒸着層(3)
か形成されていて、該表裏両面の金属蒸着層(3)が貫
通孔(2)を通して電気的に接続された導電性シートて
あって本発明の導電性シートの基本構成を示し、第2図
に示したものは本発明の導電性シートの他の実施悪様例
の構成を示す9図において、(1)は基材であり、(2
)は基材(1)に設けられた貫通孔であり、(四は基材
(1)に設けられた金属蒸着層てあり、(4)は貫通孔
(2)の内壁てあり、(5)は金属蒸着層(3)の面上
に設けられた導電性接着剤層である。
実施例を示す概略部分断面図であり、第1図に示したも
のは、貫通孔(2)を有する基材(1)の表裏両面に金
属蒸着層(3)が形成され、該貫通孔(2)の少なくと
も一部は該貫通孔(2)の内壁■にも金属蒸着層(3)
か形成されていて、該表裏両面の金属蒸着層(3)が貫
通孔(2)を通して電気的に接続された導電性シートて
あって本発明の導電性シートの基本構成を示し、第2図
に示したものは本発明の導電性シートの他の実施悪様例
の構成を示す9図において、(1)は基材であり、(2
)は基材(1)に設けられた貫通孔であり、(四は基材
(1)に設けられた金属蒸着層てあり、(4)は貫通孔
(2)の内壁てあり、(5)は金属蒸着層(3)の面上
に設けられた導電性接着剤層である。
基材(1)としては、ある程度の自己保持性を有するも
のであればいずれも用いられるか、例えばポリエステル
系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、
ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、セルロー
スアセチイト系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩
化ビニル系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリイミ
ド系樹脂、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂などの樹脂類
またはセロハン紙、洋紙、和紙、不織布などのフィルム
状物またはシート状物などがあげられ、これらは単層で
もよく2枚以上貼り合せたものであってもよい。
のであればいずれも用いられるか、例えばポリエステル
系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、
ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、セルロー
スアセチイト系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩
化ビニル系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリイミ
ド系樹脂、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂などの樹脂類
またはセロハン紙、洋紙、和紙、不織布などのフィルム
状物またはシート状物などがあげられ、これらは単層で
もよく2枚以上貼り合せたものであってもよい。
特に基材(1)としては前記樹脂類のフィルム状物の場
合、その厚さには特に制限はないか通常6〜250Mの
範囲が好ましい、厚さが6μs未満では孔あけ加工及び
蒸着作業性が悪く実用的でない、厚さか250μsを超
えるとこれまた孔あけ加工および蒸着作業性が悪く実用
的でない。
合、その厚さには特に制限はないか通常6〜250Mの
範囲が好ましい、厚さが6μs未満では孔あけ加工及び
蒸着作業性が悪く実用的でない、厚さか250μsを超
えるとこれまた孔あけ加工および蒸着作業性が悪く実用
的でない。
また前記セロハン紙、洋紙、和紙、不織布なとのシート
状物の場合、その坪量には特に制限はないか通常10〜
1000g/■2の範囲が好ましい6坪量が10g/m
”未満では製品の強度か弱く実用性かない。
状物の場合、その坪量には特に制限はないか通常10〜
1000g/■2の範囲が好ましい6坪量が10g/m
”未満では製品の強度か弱く実用性かない。
坪量が1000g/■2を超えると蒸着装置中での放出
ガス陽が多く蒸着効率が悪く実用的でない。
ガス陽が多く蒸着効率が悪く実用的でない。
貫通孔(2)としては、その孔の大きさには特に制限は
なく基材(11の厚さにもよるか通常50〜1000μ
s(直径換算)の範囲か好ましく、基材(1)の厚みが
厚くなるほど孔の大きさも大きくした方か電気伝導性か
向上し好ましい、また貫通孔(2)の数には特に制限は
なく所望する電気抵抗値にあわせて基材(1)の厚み、
孔の大きさ、金属蒸着層(3)の厚さおよび金属の種類
などを考慮して決定され、通常1万〜200万個7.2
の範囲から適宜選択される。
なく基材(11の厚さにもよるか通常50〜1000μ
s(直径換算)の範囲か好ましく、基材(1)の厚みが
厚くなるほど孔の大きさも大きくした方か電気伝導性か
向上し好ましい、また貫通孔(2)の数には特に制限は
なく所望する電気抵抗値にあわせて基材(1)の厚み、
孔の大きさ、金属蒸着層(3)の厚さおよび金属の種類
などを考慮して決定され、通常1万〜200万個7.2
の範囲から適宜選択される。
金属蒸着層(3)に用いる金属蒸着層としては1例えば
金、銀、アルミニウム、銅、ニッケル、亜鉛、ガリウム
、インジウム、錫、珪素、クロム、チタン、白金、パラ
ジウム、ニッケルークロム、ステンレススチール、ハス
テロイなどの単体または混合物あるいは合金などからな
る金属を蒸着したものがあげられ、特に金、銀、銅、ア
ルミニウム、白金、ニッケル、パラジウムが電気伝導性
と蒸着か容易な点から好ましく用いられる。特に金属蒸
着層(6)としては前記金属を蒸着したものでその厚さ
には特に制限されるものではないか10〜1100nの
範囲か好ましい。厚さがIOr+■未満では電気伝導性
ならびに金属光沢か不充分て実用性がなく、一方厚さが
1100nを超えても金属薄膜と基材とのV、着強度の
点、作業性の点、金属光沢の点に変りかないので経済性
に劣り実用的てない。
金、銀、アルミニウム、銅、ニッケル、亜鉛、ガリウム
、インジウム、錫、珪素、クロム、チタン、白金、パラ
ジウム、ニッケルークロム、ステンレススチール、ハス
テロイなどの単体または混合物あるいは合金などからな
る金属を蒸着したものがあげられ、特に金、銀、銅、ア
ルミニウム、白金、ニッケル、パラジウムが電気伝導性
と蒸着か容易な点から好ましく用いられる。特に金属蒸
着層(6)としては前記金属を蒸着したものでその厚さ
には特に制限されるものではないか10〜1100nの
範囲か好ましい。厚さがIOr+■未満では電気伝導性
ならびに金属光沢か不充分て実用性がなく、一方厚さが
1100nを超えても金属薄膜と基材とのV、着強度の
点、作業性の点、金属光沢の点に変りかないので経済性
に劣り実用的てない。
本願明細書において蒸着とは、真空蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンブレーティング法などの通常の金属など
(合金および金属化合物も含む、以下同様)の薄膜形成
方法によって金属などの薄膜を形成することを意味する
。尚、金属蒸着層は腐食防止、コストダウン、任意の色
調を得るなどのために1層に限らず、2層以上で構成す
るようにしてもよい。
ング法、イオンブレーティング法などの通常の金属など
(合金および金属化合物も含む、以下同様)の薄膜形成
方法によって金属などの薄膜を形成することを意味する
。尚、金属蒸着層は腐食防止、コストダウン、任意の色
調を得るなどのために1層に限らず、2層以上で構成す
るようにしてもよい。
金属落着層(3)とはこれら金属の薄膜形成方法によっ
て形成された金属の薄膜の全てを含むものとする。
て形成された金属の薄膜の全てを含むものとする。
本発明の導電性シートにおいて要すれば導電性接着剤層
(5)が用いられる。導電性接着剤層(5)は。
(5)が用いられる。導電性接着剤層(5)は。
金属蒸着層(3および被接着体に対して接着性に優れて
いることか要求される。かかる要求を満たす接着剤とし
ては1例えばポリエチレン樹脂系、ポリアミド樹脂系、
ポリエステル樹脂系、ポリブチラール樹脂系、ポリ酢酸
ビニル樹脂系、セルロース樹脂系、ポリメチルメタクリ
レート樹脂系、ポリビニルエーテル樹脂系、ポリカーボ
ネート樹脂系、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩素化
ポリプロピレン樹脂系、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、アクリル樹脂系、アクリル−塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、天然ゴム、人造ゴムなど単独またはブレン
ド物の溶剤型接着剤やエマルジョン型接着剤に金属の粉
末(銀、銅、アルミニウム、ニッケル等)、非金属粉末
(無定形カーボン、グラファイト)、一部てはあるが酸
化錫、酸化インジウム等の金属酸化物などの導電性材料
が添加混合されたものが用いられる。導電性材料の添加
量はその接着剤に期待する電気導電性の程度によって適
宜決定される。
いることか要求される。かかる要求を満たす接着剤とし
ては1例えばポリエチレン樹脂系、ポリアミド樹脂系、
ポリエステル樹脂系、ポリブチラール樹脂系、ポリ酢酸
ビニル樹脂系、セルロース樹脂系、ポリメチルメタクリ
レート樹脂系、ポリビニルエーテル樹脂系、ポリカーボ
ネート樹脂系、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩素化
ポリプロピレン樹脂系、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、アクリル樹脂系、アクリル−塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、天然ゴム、人造ゴムなど単独またはブレン
ド物の溶剤型接着剤やエマルジョン型接着剤に金属の粉
末(銀、銅、アルミニウム、ニッケル等)、非金属粉末
(無定形カーボン、グラファイト)、一部てはあるが酸
化錫、酸化インジウム等の金属酸化物などの導電性材料
が添加混合されたものが用いられる。導電性材料の添加
量はその接着剤に期待する電気導電性の程度によって適
宜決定される。
導電性接着剤層(へ)の厚さには特に制限されるものて
はないか5〜20μsの範囲が好ましい、厚さが5−未
満ては充分な接着強度が得られずまた表面抵抗値が高く
なり実用性でない、一方厚さか20μsを超えると溶剤
が残留したり、後の各種加工工程中て導電性接着剤層(
へ)の流動化か生じるなどして工程の流れを妨げるので
実用性がない。
はないか5〜20μsの範囲が好ましい、厚さが5−未
満ては充分な接着強度が得られずまた表面抵抗値が高く
なり実用性でない、一方厚さか20μsを超えると溶剤
が残留したり、後の各種加工工程中て導電性接着剤層(
へ)の流動化か生じるなどして工程の流れを妨げるので
実用性がない。
また金属蒸着層(器自体は機械的強度が弱く摩擦による
損傷などを受けやすく特に銀、アルミニウム、銅は腐食
されやすいので金属蒸着層(3)の面上に導電性腐食防
止層を設けるようにしてもよい。
損傷などを受けやすく特に銀、アルミニウム、銅は腐食
されやすいので金属蒸着層(3)の面上に導電性腐食防
止層を設けるようにしてもよい。
その厚さには特に制限はないが5〜20趨の範囲か好ま
しい、厚さか5μs未満では腐食防止効果か小さく表面
抵抗値も高く導電性腐食防止層としての実用性がない、
一方厚さが20趨を超えても効果に変りがなく経済的で
なく実用性かない。
しい、厚さか5μs未満では腐食防止効果か小さく表面
抵抗値も高く導電性腐食防止層としての実用性がない、
一方厚さが20趨を超えても効果に変りがなく経済的で
なく実用性かない。
かかる導電性腐食防止層を形成するための樹脂塗料とし
ては1例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化
性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれかからなる塗料か用
いられ、例えばアクリル樹脂系、スチレン樹脂系、アク
リル−スチレン共重合体、塩化ビニル樹脂系、酢酸ビニ
ル樹脂系、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミ
ド樹脂系、ポリビニル−ブチラール共重合体、ポリカー
ボネート樹脂系、ニトロセルロース樹脂系、セルロース
アセテート樹脂系、ウレタン樹脂系、尿素樹脂系、メラ
ミン樹脂系、尿素−メラミン樹脂系、エポキシ樹脂系、
アルキッド樹脂系、アミノアルキッド樹脂系、ロジン変
性マレイン酸樹脂などの単独または混合物からなる樹脂
塗料に、全屈粉末(銀、銅、アルミニウム、ニッケル等
)、非金属粉末(無定形カーボン、グラファイト)、一
部であるか酸化錫、酸化インジウム等の金属酸化物など
の導電性材料が添加混合されたものか用いられる。導電
性材料の添加量はその接着剤に期待する電気導電性の程
度によって適宜決定される。
ては1例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化
性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれかからなる塗料か用
いられ、例えばアクリル樹脂系、スチレン樹脂系、アク
リル−スチレン共重合体、塩化ビニル樹脂系、酢酸ビニ
ル樹脂系、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミ
ド樹脂系、ポリビニル−ブチラール共重合体、ポリカー
ボネート樹脂系、ニトロセルロース樹脂系、セルロース
アセテート樹脂系、ウレタン樹脂系、尿素樹脂系、メラ
ミン樹脂系、尿素−メラミン樹脂系、エポキシ樹脂系、
アルキッド樹脂系、アミノアルキッド樹脂系、ロジン変
性マレイン酸樹脂などの単独または混合物からなる樹脂
塗料に、全屈粉末(銀、銅、アルミニウム、ニッケル等
)、非金属粉末(無定形カーボン、グラファイト)、一
部であるか酸化錫、酸化インジウム等の金属酸化物など
の導電性材料が添加混合されたものか用いられる。導電
性材料の添加量はその接着剤に期待する電気導電性の程
度によって適宜決定される。
導電性接着剤層(へ)の厚さには特に制限はないが5〜
20趨の範囲が好ましい、厚さが51未満では充分な接
着強度か得られず抵抗値が高く実用性がなく、一方厚さ
が20μsを超えると溶剤か残留したり、後の各種加工
工程中で導電性接着剤層(5)の流動化か生しるなどし
て工程の流れを妨げるので実用件がない。
20趨の範囲が好ましい、厚さが51未満では充分な接
着強度か得られず抵抗値が高く実用性がなく、一方厚さ
が20μsを超えると溶剤か残留したり、後の各種加工
工程中で導電性接着剤層(5)の流動化か生しるなどし
て工程の流れを妨げるので実用件がない。
導電性腐食防止層の形成は、前記導電性腐食防止層を形
成する為の樹脂塗料をロールコーティング法、グラビア
コーティング法、リバースコーティング法、スプレィコ
ーティング法、デイツプコーティング法などのよくしら
れた一般的なコーティング法により塗布し、乾燥(熱硬
化性樹脂。
成する為の樹脂塗料をロールコーティング法、グラビア
コーティング法、リバースコーティング法、スプレィコ
ーティング法、デイツプコーティング法などのよくしら
れた一般的なコーティング法により塗布し、乾燥(熱硬
化性樹脂。
電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などの場合は硬化
)することによつて行なうことができるほか、あらかじ
め製膜されたフィルムを貼合することによっても行なう
ことができる。
)することによつて行なうことができるほか、あらかじ
め製膜されたフィルムを貼合することによっても行なう
ことができる。
実施例1
厚さ38趨のポリエチレンテレフタレートフィルムに熱
針を用いて孔(孔の直径100μs、孔の分布密度10
万個/m”)を穿孔した有孔フィルムの両面上に高周波
加熱真空蒸着法でアルミニウムを蒸着して夫々厚さ70
n−の金属蒸着層を形成して、本発明の導電性シートを
得た。
針を用いて孔(孔の直径100μs、孔の分布密度10
万個/m”)を穿孔した有孔フィルムの両面上に高周波
加熱真空蒸着法でアルミニウムを蒸着して夫々厚さ70
n−の金属蒸着層を形成して、本発明の導電性シートを
得た。
得られた導電性シートは、例えばシールド材として用い
るのに適し両面に導通が有るのでアースが容易に施工で
きる。またそのシールド効果はSOOMIIzで55d
B(TtL界波について、以下同じ)であった。
るのに適し両面に導通が有るのでアースが容易に施工で
きる。またそのシールド効果はSOOMIIzで55d
B(TtL界波について、以下同じ)であった。
実施例2
厚さ 125μsのポリエチレンテレフタレートフィル
ムに熱針な用いて孔(孔の直径250−1孔の分布密度
30万個/■2)を穿孔した有孔フィルム表面上に、水
溶性塗料で金属蒸着層を必要としない部分に塗布し厚さ
3μsの図形を描いた0次いで該図形を描いた面上に高
周波加熱真空蒸着法でアルミニウムを蒸着して厚さ70
n■の金属蒸着層を形成し、次いで水洗を行ない水溶性
塗料の図形およびその面上の金属蒸着層を溶解除去して
所望図形の金属蒸着層を形成した0次いで該有孔フィル
ム裏面上に高周波加熱真空蒸着法でアルミニウムを蒸着
して厚さ70n■の金属蒸着層を形成して本発明の導電
性シートを得た。
ムに熱針な用いて孔(孔の直径250−1孔の分布密度
30万個/■2)を穿孔した有孔フィルム表面上に、水
溶性塗料で金属蒸着層を必要としない部分に塗布し厚さ
3μsの図形を描いた0次いで該図形を描いた面上に高
周波加熱真空蒸着法でアルミニウムを蒸着して厚さ70
n■の金属蒸着層を形成し、次いで水洗を行ない水溶性
塗料の図形およびその面上の金属蒸着層を溶解除去して
所望図形の金属蒸着層を形成した0次いで該有孔フィル
ム裏面上に高周波加熱真空蒸着法でアルミニウムを蒸着
して厚さ70n■の金属蒸着層を形成して本発明の導電
性シートを得た。
得られた導電性シートは、例えば液晶、ビオロゲン等の
塗布基材として用いるのに適し両面に導通か有るのでこ
れに液晶、ビオロゲン等の塗布面と反対面から電流を通
すことによって液晶分子が配向し、ビオロゲンは電極か
らの電子注入によって還元され無色→青色→紫色と変色
していくので看板やカッティングシートや電池チエッカ
−などに使用できる。
塗布基材として用いるのに適し両面に導通か有るのでこ
れに液晶、ビオロゲン等の塗布面と反対面から電流を通
すことによって液晶分子が配向し、ビオロゲンは電極か
らの電子注入によって還元され無色→青色→紫色と変色
していくので看板やカッティングシートや電池チエッカ
−などに使用できる。
実施N3
厚さ 188μsのポリエチレンテレフタレートフィル
ムにレーザーを用いて孔(孔の直径600−1孔の分布
密度50万個/■2)を穿孔した有孔フィルムの両面上
にスパッタリング蒸着法でニッケルを蒸着して夫々厚さ
60n■の金属蒸着層を形成して、本発明の導電性シー
トを得た。
ムにレーザーを用いて孔(孔の直径600−1孔の分布
密度50万個/■2)を穿孔した有孔フィルムの両面上
にスパッタリング蒸着法でニッケルを蒸着して夫々厚さ
60n■の金属蒸着層を形成して、本発明の導電性シー
トを得た。
得られた導電性シートは両面間に導通が有るので例えば
積層プリント回路用基板に用いるのに適している。
積層プリント回路用基板に用いるのに適している。
比較例1
厚さ38μsのポリエチレンテレフタレートフィルムを
穿孔しなかったほかは実施例1と同様にしてフィルムの
両面上に高周波加熱真空蒸着法でアルミニウムを蒸着し
て夫々厚さ?On諺の金属蒸着層を形成して両面金属蒸
着シートを得た。
穿孔しなかったほかは実施例1と同様にしてフィルムの
両面上に高周波加熱真空蒸着法でアルミニウムを蒸着し
て夫々厚さ?On諺の金属蒸着層を形成して両面金属蒸
着シートを得た。
得られた両面金属蒸着シートは、例えばシールド材とし
て用いられるがその効果は500MHzで40dBであ
った。また両面間に導通性がないのでアースの施工が煩
雑であった。
て用いられるがその効果は500MHzで40dBであ
った。また両面間に導通性がないのでアースの施工が煩
雑であった。
得られた本発明の導電性シートにおける両面間の導通性
と孔の直径、孔の分布密度、フィルムの厚さ、金属蒸着
層の厚さとの関係は第1表〜第4表に示す通りであった
。第1表はフィルムの厚さ、金属蒸着層の厚さ、孔の直
径がそれぞれ25μs、80n讃、 100μs一定の
時の孔の分布密度(万個/12)と両面間の導通性(Ω
/cm”)との関係を、第2表はフィルムの厚さ、金居
蒸M層の厚さ、孔の分布密度がそれぞれ25μs、80
n■。
と孔の直径、孔の分布密度、フィルムの厚さ、金属蒸着
層の厚さとの関係は第1表〜第4表に示す通りであった
。第1表はフィルムの厚さ、金属蒸着層の厚さ、孔の直
径がそれぞれ25μs、80n讃、 100μs一定の
時の孔の分布密度(万個/12)と両面間の導通性(Ω
/cm”)との関係を、第2表はフィルムの厚さ、金居
蒸M層の厚さ、孔の分布密度がそれぞれ25μs、80
n■。
90万個/諺2一定の時の孔の孔の直径(趨)と両面間
の導通性(Ω/cm’)との関係を、第3表はフィルム
の厚さ、孔の直径、孔の分布密度かそれぞれ25μs、
ioog、90万個/會2一定の時の金属蒸着層の厚
さ(n■)と両面間の導通性(Ω/C■2)との関係を
、第4表は金属蒸着層の厚さ、孔の直径、孔の分布密度
がそれぞれ80n■、100μs、90万個/■!一定
の時のフィルムの厚さ(μs)と両面間の導通性(Ω/
C間2)との関係を測った [発明の効果] 実施例1.実施例2、実施例3および比較例1で説明し
たように本発明によれば、表裏両面間に導通性を有する
全く新規な優れた導電性シートを得ることができる。
の導通性(Ω/cm’)との関係を、第3表はフィルム
の厚さ、孔の直径、孔の分布密度かそれぞれ25μs、
ioog、90万個/會2一定の時の金属蒸着層の厚
さ(n■)と両面間の導通性(Ω/C■2)との関係を
、第4表は金属蒸着層の厚さ、孔の直径、孔の分布密度
がそれぞれ80n■、100μs、90万個/■!一定
の時のフィルムの厚さ(μs)と両面間の導通性(Ω/
C間2)との関係を測った [発明の効果] 実施例1.実施例2、実施例3および比較例1で説明し
たように本発明によれば、表裏両面間に導通性を有する
全く新規な優れた導電性シートを得ることができる。
第
第
表
表
第1表
第
表
第1図は本発明の導電性シートの基本構成を示す断面図
、第2図は本発明の導電性シートの他の実施態様例の構
成を示す断面図である。 (図面の符号) (1)二基材 (2):貫通孔 (3):金属蒸着層 G4):内壁 (5):導電性接着剤層 第 1 図
、第2図は本発明の導電性シートの他の実施態様例の構
成を示す断面図である。 (図面の符号) (1)二基材 (2):貫通孔 (3):金属蒸着層 G4):内壁 (5):導電性接着剤層 第 1 図
Claims (1)
- 1 貫通孔を有する基材の表裏両面に金属蒸着層が形成
され、該貫通孔の少なくとも一部は該貫通孔の内壁にも
金属蒸着層が形成されていて、該表裏両面の金属蒸着層
が貫通孔を通して電気的に接続されてなる導電性シート
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63036670A JP2668234B2 (ja) | 1988-02-19 | 1988-02-19 | 導電性シート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63036670A JP2668234B2 (ja) | 1988-02-19 | 1988-02-19 | 導電性シート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0221507A true JPH0221507A (ja) | 1990-01-24 |
| JP2668234B2 JP2668234B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=12476291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63036670A Expired - Lifetime JP2668234B2 (ja) | 1988-02-19 | 1988-02-19 | 導電性シート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2668234B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7183204B2 (en) | 2002-11-20 | 2007-02-27 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device including gate electrode for applying tensile stress to silicon substrate, and method of manufacturing the same |
| US7199049B2 (en) | 2004-07-27 | 2007-04-03 | Seiko Epson Corporation | Methods for forming contact hole, for manufacturing circuit board and for manufacturing electro-optical device |
| US11266225B2 (en) | 2018-12-13 | 2022-03-08 | Milwaukee Electric Tool Corporation | Lanyard clip |
| CN115534433A (zh) * | 2022-10-27 | 2022-12-30 | 李露 | 一种石墨改性岩棉板的制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5160997A (ja) * | 1974-11-25 | 1976-05-27 | Mitsubishi Plastics Ind | Dodenfuirumu |
-
1988
- 1988-02-19 JP JP63036670A patent/JP2668234B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5160997A (ja) * | 1974-11-25 | 1976-05-27 | Mitsubishi Plastics Ind | Dodenfuirumu |
Cited By (6)
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| US7183204B2 (en) | 2002-11-20 | 2007-02-27 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device including gate electrode for applying tensile stress to silicon substrate, and method of manufacturing the same |
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| CN100394558C (zh) * | 2004-07-27 | 2008-06-11 | 精工爱普生株式会社 | 接触孔的形成方法、电路基板和电光学装置的制造方法 |
| US7459793B2 (en) | 2004-07-27 | 2008-12-02 | Seiko Epson Corporation | Methods for forming contact hole, for manufacturing circuit board and for manufacturing electro-optical device |
| US11266225B2 (en) | 2018-12-13 | 2022-03-08 | Milwaukee Electric Tool Corporation | Lanyard clip |
| CN115534433A (zh) * | 2022-10-27 | 2022-12-30 | 李露 | 一种石墨改性岩棉板的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2668234B2 (ja) | 1997-10-27 |
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