JPH0221532A - 電子管用酸化物カソード - Google Patents
電子管用酸化物カソードInfo
- Publication number
- JPH0221532A JPH0221532A JP63173224A JP17322488A JPH0221532A JP H0221532 A JPH0221532 A JP H0221532A JP 63173224 A JP63173224 A JP 63173224A JP 17322488 A JP17322488 A JP 17322488A JP H0221532 A JPH0221532 A JP H0221532A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- barium strontium
- cathode
- nickel
- strontium carbonate
- coated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Solid Thermionic Cathode (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子管用酸化物カソードに関する。
従来、炭酸バリウムストロンチウム粒子にニッケルを数
ミクロンないし十数ミクロン被覆したコーテッドパーテ
ィクル（以下ＣＰと記す）をニッケル基板に塗布したコ
ーテッドパーティクルカソード（以下ＣＰＣと記す）は
、炭酸バリウムストロンチウムをニッケル基板に塗布し
た酸化物カソードに比べ多くの電子放出量を得ることが
可能である。
ミクロンないし十数ミクロン被覆したコーテッドパーテ
ィクル（以下ＣＰと記す）をニッケル基板に塗布したコ
ーテッドパーティクルカソード（以下ＣＰＣと記す）は
、炭酸バリウムストロンチウムをニッケル基板に塗布し
た酸化物カソードに比べ多くの電子放出量を得ることが
可能である。
ＣＰは、炭酸バリウムストロンチウムと酢酸アミルとの
溶液中に攪拌しながら、炭酸ニッケルを還元することに
より得られるニッケルガスを、通気することにより得ら
れる。
溶液中に攪拌しながら、炭酸ニッケルを還元することに
より得られるニッケルガスを、通気することにより得ら
れる。
ＣＰは、ニッケル基板に塗布した後、真空中でカソード
分解、つまり、約９００ないし１０００℃に加熱される
。加熱により、炭酸バリウムストロンチウムは、炭酸ガ
スと酸化バリウムストロンチウムに分解される６発生し
た炭酸ガスは、被覆するニッケル層を破り放出される。
分解、つまり、約９００ないし１０００℃に加熱される
。加熱により、炭酸バリウムストロンチウムは、炭酸ガ
スと酸化バリウムストロンチウムに分解される６発生し
た炭酸ガスは、被覆するニッケル層を破り放出される。
故に、カソード分解後のＣＰＣは酸化バリウムストロン
チウムが、その一部をニッケル層に被覆され、ニッケル
基板上に並ぶ状態となる。
チウムが、その一部をニッケル層に被覆され、ニッケル
基板上に並ぶ状態となる。
上述した従来のＣＰＣは、電子を放出する酸化バリウム
ストロンチウム粒子表面の一部にニッケルが被覆してい
る。故に、酸化物カソードに較べ、電子を放出しうる有
効表面積が少ない為、ガスボイゾニングに弱いという欠
点がある。
ストロンチウム粒子表面の一部にニッケルが被覆してい
る。故に、酸化物カソードに較べ、電子を放出しうる有
効表面積が少ない為、ガスボイゾニングに弱いという欠
点がある。
また、ＣＰの製造上の問題から、被覆するニッケル膜厚
のコントロールが難かしい。これは、上述した電子を放
出しうる有効表面積をロット間のばらつきなく確保する
ことを困難にしており、常に、均一な電子放出能力をも
つＣＰＣが得られにくいという欠点がある。
のコントロールが難かしい。これは、上述した電子を放
出しうる有効表面積をロット間のばらつきなく確保する
ことを困難にしており、常に、均一な電子放出能力をも
つＣＰＣが得られにくいという欠点がある。
本発明の目的はロット間のばらつきがなく均一な電子放
出能力をもつ電子管用酸化物カソードを提供することに
ある。
出能力をもつ電子管用酸化物カソードを提供することに
ある。
本発明は、ニッケル基板上に電子放射物質を塗布した電
子管用酸化物カソードにおいて、前記電子放射物質が炭
酸バリウムストロンチウム粒子表面に数ミクロンないし
十数ミクロンのニッケルを被覆したコーテッドパーティ
クルに１％ないし５Ｏ％の炭酸バリウムストロンチウム
粒子が添加されている。
子管用酸化物カソードにおいて、前記電子放射物質が炭
酸バリウムストロンチウム粒子表面に数ミクロンないし
十数ミクロンのニッケルを被覆したコーテッドパーティ
クルに１％ないし５Ｏ％の炭酸バリウムストロンチウム
粒子が添加されている。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例のカソード分解前の部分断面
図である。
図である。
第１図に示すように、１はＣＰで、炭酸バリウムストロ
ンチウム粒子表面にニッケルが被覆されている。２は炭
酸バリウムストロンチウム粒子で、全塗布重量に対し、
２０％を占める。３はニッケル基板で、ニッケル中に約
０．１％のジルコニウム、マグネシウム等の活性剤が含
有されている。尚、塗布物はカソード基板に対し拡大し
て記載している。
ンチウム粒子表面にニッケルが被覆されている。２は炭
酸バリウムストロンチウム粒子で、全塗布重量に対し、
２０％を占める。３はニッケル基板で、ニッケル中に約
０．１％のジルコニウム、マグネシウム等の活性剤が含
有されている。尚、塗布物はカソード基板に対し拡大し
て記載している。
第２図は本発明の一実施例のカソード分解後の部分断面
である。
である。
第２図に示すように、１１はカソード分解後のＣＰで酸
化バリウムストロンチウム粒子表面の一部にニッケルが
被覆されている。１２は酸化バリウムストロンチウムで
ある。３はニッケル基板である。
化バリウムストロンチウム粒子表面の一部にニッケルが
被覆されている。１２は酸化バリウムストロンチウムで
ある。３はニッケル基板である。
カソード分解後のカソード表面には、表面の一部がニッ
ケルに被覆された酸化バリウムストロンチウムとニッケ
ルに被覆されていない酸化バリウムストロンチウム粒子
が混在している。この二一ッケルが被覆していない炭酸
バリウムストロンチウム粒子の添加量は、全塗布重量の
１％ないし５０％が適当である。これは、添加量１％未
満の場合、ロット間におけるばらつきの少ない電子放出
能力の確保が難かしく、また、耐ガスボイゾニング性が
改善されない。一方、５０％を超えた場合、高温での高
電子密度動作が得られなくなる。
ケルに被覆された酸化バリウムストロンチウムとニッケ
ルに被覆されていない酸化バリウムストロンチウム粒子
が混在している。この二一ッケルが被覆していない炭酸
バリウムストロンチウム粒子の添加量は、全塗布重量の
１％ないし５０％が適当である。これは、添加量１％未
満の場合、ロット間におけるばらつきの少ない電子放出
能力の確保が難かしく、また、耐ガスボイゾニング性が
改善されない。一方、５０％を超えた場合、高温での高
電子密度動作が得られなくなる。
実用上は、カソードに要求される放出電流密度及び寿命
によりカソード動作温度が決定し、これらより、添加す
る炭酸バリウムストロンチウム量を１％ないし５０％の
範囲において決定することができる。
によりカソード動作温度が決定し、これらより、添加す
る炭酸バリウムストロンチウム量を１％ないし５０％の
範囲において決定することができる。
以上説明したように本発明は、ＣＰに１％ないし５０％
の炭酸バリウムストロンチウム粒子を添加することによ
り、カソード分解後、充分な酸化バリウムストロンチウ
ムをカソード表面に露出することごてきる為、耐ガスボ
イゾニング性にすぐれ製造ロット間において安定した電
子放出特性を得ることができる効果がある。
の炭酸バリウムストロンチウム粒子を添加することによ
り、カソード分解後、充分な酸化バリウムストロンチウ
ムをカソード表面に露出することごてきる為、耐ガスボ
イゾニング性にすぐれ製造ロット間において安定した電
子放出特性を得ることができる効果がある。
第１図は本発明の一実施例のカソード分解前の部分断面
図、第２図は本発明の一実施例のカソード分解後の部分
断面図である。 １・・・ＣＰ（コーテッドパーティクル）、２・・・炭
酸バリウムストロンチウム、３・・・ニッケル基板、１
１・・・ＣＰ（コーテッドパーティクル）、１２・・・
酸化バリウムストロンチウム。
図、第２図は本発明の一実施例のカソード分解後の部分
断面図である。 １・・・ＣＰ（コーテッドパーティクル）、２・・・炭
酸バリウムストロンチウム、３・・・ニッケル基板、１
１・・・ＣＰ（コーテッドパーティクル）、１２・・・
酸化バリウムストロンチウム。
Claims (1)
- ニッケル基板上に電子放射物質を塗布した電子管用酸化
物カソードにおいて、前記電子放射物質が炭酸バリウム
ストロンチウム粒子表面に数ミクロンないし十数ミクロ
ンのニッケルを被覆したコーテッドパーティクルに１％
ないし５０％の炭酸バリウムストロンチウム粒子を添加
することを特徴とする電子管用酸化物カソード。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173224A JPH0221532A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 電子管用酸化物カソード |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173224A JPH0221532A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 電子管用酸化物カソード |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0221532A true JPH0221532A (ja) | 1990-01-24 |
Family
ID=15956439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63173224A Pending JPH0221532A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 電子管用酸化物カソード |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0221532A (ja) |
-
1988
- 1988-07-11 JP JP63173224A patent/JPH0221532A/ja active Pending
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