JPH0221531A - 電子管用コーテッドパーティクルカソード - Google Patents
電子管用コーテッドパーティクルカソードInfo
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- JPH0221531A JPH0221531A JP63173223A JP17322388A JPH0221531A JP H0221531 A JPH0221531 A JP H0221531A JP 63173223 A JP63173223 A JP 63173223A JP 17322388 A JP17322388 A JP 17322388A JP H0221531 A JPH0221531 A JP H0221531A
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- nickel
- cathode
- coated
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- magnesium
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- Pending
Links
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Landscapes
- Solid Thermionic Cathode (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子管用コーテッドパーティクルカソードに関
する。
する。
従来、炭酸バリウムストロンチウム粒子にニッケルを数
ミクロンないし十数ミクロン被覆したコーテッドパーテ
ィクル（以下ＣＰと記す）をニッケル基板上に塗布した
コーテッドパーティクルカソード（以下ＣＰＣと記す）
は、炭酸バリウムストロンチウムをニッケル基板上に塗
布した酸化物カソードに比べ、多くの電子放出量を得る
ことが可能である。
ミクロンないし十数ミクロン被覆したコーテッドパーテ
ィクル（以下ＣＰと記す）をニッケル基板上に塗布した
コーテッドパーティクルカソード（以下ＣＰＣと記す）
は、炭酸バリウムストロンチウムをニッケル基板上に塗
布した酸化物カソードに比べ、多くの電子放出量を得る
ことが可能である。
ＣＰは、炭酸バリウムストロンチウムと酢酸アミルとの
溶液中に攪拌しながら炭酸ニッケルを還元することによ
り得られるニッケルガスを通すことにより、得られる。
溶液中に攪拌しながら炭酸ニッケルを還元することによ
り得られるニッケルガスを通すことにより、得られる。
ＣＰは、ニッケル基板上に塗布し、真空中でカソード分
解、つまり、９００ないし１０００°Ｃに加熱される。
解、つまり、９００ないし１０００°Ｃに加熱される。
加熱により、炭酸バリウムストロンチウムは、炭酸ガス
と酸化バリウムストロンチウムに分解される。発生した
炭酸ガスは、被覆するニッケル層を破り放出される。故
に、カソード分解後のＣＰＣは、酸化バリウムストロン
チウムがその一部にニッケルに被覆されニッケル基板上
に並ぶ状態となる。
と酸化バリウムストロンチウムに分解される。発生した
炭酸ガスは、被覆するニッケル層を破り放出される。故
に、カソード分解後のＣＰＣは、酸化バリウムストロン
チウムがその一部にニッケルに被覆されニッケル基板上
に並ぶ状態となる。
上述した従来のＣＰＣは、カソード表面上の酸化バリウ
ムストロンチウムとニッケル基板中に含有しカソード表
面まで拡散するジルコニウム、マグネシウム等の活性剤
との化学反応により電子を放出する。
ムストロンチウムとニッケル基板中に含有しカソード表
面まで拡散するジルコニウム、マグネシウム等の活性剤
との化学反応により電子を放出する。
上述した様に、ＣＰには、ニッケルが被覆されており、
多くの電子放出量を得る特性を有するが、このニッケル
は、活性剤の拡散を遅延させる弊害も待ち合わせており
、それ故に、ＣＰＣは、充分な活性剤がカソード表面に
拡散するまで長時間のエージングが必要となるという欠
点をもっている。
多くの電子放出量を得る特性を有するが、このニッケル
は、活性剤の拡散を遅延させる弊害も待ち合わせており
、それ故に、ＣＰＣは、充分な活性剤がカソード表面に
拡散するまで長時間のエージングが必要となるという欠
点をもっている。
ここで、活性剤の多くの拡散を促す為、カソードのエー
ジングを高温で行なう方法は、ＣＰの焼結を促す為、カ
ソード温度１エージング時間とも限度があるという欠点
がある。
ジングを高温で行なう方法は、ＣＰの焼結を促す為、カ
ソード温度１エージング時間とも限度があるという欠点
がある。
さらには、このニッケル被膜のコーティング膜厚のばら
つきによって、カソードの電子放出特性がばらつくとい
う欠点も有していた。
つきによって、カソードの電子放出特性がばらつくとい
う欠点も有していた。
本発明の目的は、短時間のエージングで電子放出特性の
ばらつきのない電子管用コーテッドパーティクルカソー
ドを提供することにある。
ばらつきのない電子管用コーテッドパーティクルカソー
ドを提供することにある。
本発明は、炭酸バリウムストロンチウム粒子表面にニッ
ケルを被覆した粒子をニッケル基板上に塗布する電子管
用コーテッドパーティクルカソードにおいて、被覆する
ニッケル中にジルコニウム、マグネシウム、シリコンの
うちの少くとも一種をｏ、ｏｏｏｉ％〜０．１％含有し
ている。
ケルを被覆した粒子をニッケル基板上に塗布する電子管
用コーテッドパーティクルカソードにおいて、被覆する
ニッケル中にジルコニウム、マグネシウム、シリコンの
うちの少くとも一種をｏ、ｏｏｏｉ％〜０．１％含有し
ている。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図である。
第１図に示すように、炭酸バリウムストロンチウム粒子
１は、ニッケル中にニッケルとの重量比０．０５％の水
素化ジルコニウムが含有されたニッケル１！２で炭酸バ
リウムストロンチウム粒子１を被覆している。ニッケル
基板３はニッケル中に０．０８％のジルコニウムを含有
している。
１は、ニッケル中にニッケルとの重量比０．０５％の水
素化ジルコニウムが含有されたニッケル１！２で炭酸バ
リウムストロンチウム粒子１を被覆している。ニッケル
基板３はニッケル中に０．０８％のジルコニウムを含有
している。
この被覆ニッケル層２への活性剤の添加は、ＣＰ製造工
程において、炭酸ニッケルより作られるニッケルガスを
通気する前の炭酸バリウムストロンチウム粒子１が溶媒
中で攪拌されている時に行なう。この際、添加するジル
コニウノ１．マグネシウム、シリコンは、実際には、そ
れぞれ水素化ジルコニウム、炭酸マグネシウム、シリコ
ンを１０μｍ以下の微粉末にした形で加えるものである
。
程において、炭酸ニッケルより作られるニッケルガスを
通気する前の炭酸バリウムストロンチウム粒子１が溶媒
中で攪拌されている時に行なう。この際、添加するジル
コニウノ１．マグネシウム、シリコンは、実際には、そ
れぞれ水素化ジルコニウム、炭酸マグネシウム、シリコ
ンを１０μｍ以下の微粉末にした形で加えるものである
。
また、添加量は、０．００１％以下の場合、効果はなく
、０，１％以上の添加においては、バリウムとニッケル
と添加物との間では生成した化合物が活性剤の拡散を阻
害する為、カソードとして電子放出特性を極端に低下す
るものである。
、０，１％以上の添加においては、バリウムとニッケル
と添加物との間では生成した化合物が活性剤の拡散を阻
害する為、カソードとして電子放出特性を極端に低下す
るものである。
以上説明したように本発明は、ＣＰのニッケル層に活性
剤を添加することにより、ＣＰの焼結温度以下でカソー
ド分解及びカソード活性が行なえる為、カソード表面状
態が良好なカソードが、従来のＣＰＣに比べ短時間で得
られる効果がある。
剤を添加することにより、ＣＰの焼結温度以下でカソー
ド分解及びカソード活性が行なえる為、カソード表面状
態が良好なカソードが、従来のＣＰＣに比べ短時間で得
られる効果がある。
尚、当社比で、エージング時間は、１／２に減少すると
共に、電子放出特性のばらつきも約半減するという効果
が得られた。
共に、電子放出特性のばらつきも約半減するという効果
が得られた。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図である。
１・・・炭酸バリウムストロンチウム粒子、２・・・ニ
ッケル層、３・・・ニッケル基板。 −，：、こノ 第１ 図 ニッケル基板
ッケル層、３・・・ニッケル基板。 −，：、こノ 第１ 図 ニッケル基板
Claims (1)
- 炭酸バリウムストロンチウム粒子表面にニッケルを被覆
した粒子をニッケル基板上に塗布する電子管用コーテッ
ドパーティクルカソードにおいて、被覆するニッケル中
にジルコニウム、マグネシウム、シリコンのうちの少く
とも一種を０．０００１％〜０．１％含有することを特
徴とする電子管用コーテッドパーティクルカソード。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173223A JPH0221531A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 電子管用コーテッドパーティクルカソード |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173223A JPH0221531A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 電子管用コーテッドパーティクルカソード |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0221531A true JPH0221531A (ja) | 1990-01-24 |
Family
ID=15956419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63173223A Pending JPH0221531A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 電子管用コーテッドパーティクルカソード |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0221531A (ja) |
-
1988
- 1988-07-11 JP JP63173223A patent/JPH0221531A/ja active Pending
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