JPH02215336A - 薄焼偏平食品の製造方法及び製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、薄焼せんべい等の硬くて薄くかつ平に焼上げ
る薄肉固焼き食品、または、クレープ等の軟くて薄くか
つモに焼上げる薄肉軟焼き食品の製造に適した、特に原
料の生地から発生するガスによりカルデラ状の凹みや膨
らみが生ずることがなく両面を平滑に焼上げることがで
きる薄焼偏平食品の製造方法及び製造装置に関する。

［従来の技術］ 従来の薄焼せんべい等の薄肉固焼き食品は多少とも凹凸
があった。また、クレープ等の薄肉軟焼き食品はカルデ
ラ状の凹みや孔が有った。これらは生地内に含まれる水
分と空気が蒸気ガスとなって膨張するためである。

［発明が解決しようとする課題］ 従来の焼上げ機は、生地を膨らませる原因となる生地中
に含まれる空気を含む水分を蒸気として円°滑に放出す
るように焼上げることはできなかった。

本発明は、生地内のガスを必要十分に放出でき、カルデ
ラ状の凹みや孔、または膨らみが生ずることがなく両面
を平滑に保って焼−Ｅげることができる薄焼偏平食品の
製造方法及び製造装置を提供することを目的としている
。

また本発明は、薄焼せんべい等の硬ばて薄くかつ平に焼
上げる薄肉回位き食品、または、クレープ等の軟くて薄
くかつ平に焼上げる薄肉軟焼き食品の製造に適した、特
に両面を平滑に保って焼玉げることができる薄焼偏平食
品の製造方法及び製造装置を提供することを目的として
いる。

［課題を解決するための手段］ 本願第一発明に係る薄焼偏平食品の製造方法は、第１図
（ａ）〜（ｅ）のように 上下二枚の円盤１．２を所要高温に加熱し、次いで下側
の円盤ｌの上に薄焼偏平食品の半流動性の生地ｇを所要
量供給した後、上下の円盤１，２で該生地ｇを所要厚さ
に挟圧して所要時間厚焼きを行うとともに該生地中のガ
ス抜きを行い、続いて、上下の円盤１．２で該生地をさ
らに圧して所要時間薄焼きを行い、薄焼き完了後は上下
二枚の円ｆｉ！、２を開いて薄焼偏平食品Ｓを取出すこ
とを特徴とするものである。

従って、二枚の円盤１，２により半流動性の生ｋｆ＝ｇ
を厚焼き状態に柔かく挟んでいきなり強力な焼上げを行
い、厚焼き状態として生地を膨らませる原因となる該生
地中に含まれる空気を含む水分を蒸気として充分かつ円
滑に放出させ、その後、生地の内部に熱が通りおびただ
しいガスの発生が抑まり次第、できるだけ短い時間で厚
焼を贅えて、薄焼き状態にさらに挟圧して焼上げるもの
であるから、できあがる薄焼偏平食品はカルデラ状の凹
みや孔、または膨らみが生ずることがなく両面を平・滑
に焼上ることになる。

上記の円盤１．２の加熱とは、円盤にガスバーナーの火
を当てて加熱する方法や、円盤にそれぞれヒーターを内
蔵させて自己加熱する方法のいずれが含まれる。

円盤１．２をガスバーナーの火で加熱する場合、円盤１
．２を回転させて加熱状態を均一にするのが良い。

また上記の円盤１，２の加熱とは、円盤１．２の一方の
みではなく両者を加熱するものである。

これは、円６ｉまたは２のいずれか一方のみを加熱する
ものであっては、加熱しない方の円盤に生地が付着して
剥れ難くなるとともに、生地の焼上りが裏表で大、きく
異る不具合が生ずることを回避するためである。

そしてまた、上記の円盤１．２の加熱とは、上下の円盤
１．２を予め充分高温に加熱してから生地ｇを供給し挟
んで焼上げる加熱であり、上下の円５１．２で生地ｇを
挟んでから上下の円盤１゜２を加熱するものではない。

これは、生地ｇの供給と同時に生地中に含まれる空気を
水分の蒸発とともに一気に放出させ、若干の時間経過後
の厚焼状態のときには、大量のガスの放出がなく、もっ
て、焼上げ製品にカルデラ状の凹みや孔が生じないよう
にするとともに、生地の焼１りが裏表で大さく異ること
を回避するためである。

また上記の円盤１．２の加熱とは、下側の円盤ｌに生地
ｇを供給して後、該円盤ｌを加熱し生地中からガスの放
出させ、さらにその後に、挟んでから上下の円盤１．２
を加熱するものではないし、上側の円盤２を下降させて
生地ｇを挟圧するものでもない、このような場合には、
　ガスの放出までの時間を多く要し、生地の焼上り度合
が大きくなって、厚焼状態は良好でも薄焼き状態にはな
り難い、生地の焼上りが裏表で大きく異ることは避けら
れない。

さらに上記の円盤１．２の加熱とは、上下の円盤１．２
で生地ｇを挟んでからも引続き加熱する場合、または上
下の円盤１．２で生地ｇを挟んだ後は、円ｉｔ、２の加
熱を停止し予熱だけで焼土げる場合を含む、ただし、予
熱で焼土げる場合には円盤１．２を相当厚い寸法として
比熱を大きくする必要がある。

さらにまた上記の円盤ｌ及び２の加熱とは、円盤１及び
２を密着させた状態で一方の円盤を加熱し、熱伝達で他
方の円盤が加熱されることで足りる。円ｆｉｔ、２は、
材質を鉄あるいは銅とし、生地が付着し難いように表面
をテフロン被膜処理したものが良い。

円ｆｉｔ、２により生地ｇを挟圧し焼土げるということ
は、円盤１．２の少なくともいずれか一方が移動自在で
あることにより、生地ｇを挟むようになっていれば足り
る。

そして、厚焼きしてから薄焼きするということは、上下
の円盤１．２により生地ｇを二段階に圧縮することを意
味し、厚焼きや薄焼きの具体的寸法や焼土げ時間は所望
の製品に応じて相対的に決まる。

生地ｇの挟圧は、少なくとも一方の円盤を上下動自在と
して上下の円ｆｉｔ、２の間隔を調整するものであって
も良いし、また上側の円盤２を下降させて下側の固定さ
れた円盤ｌとの間隔を調整しかつ該円盤２の重量を押圧
力として利用するものであっても良い。

上側の円盤１の−Ｈに生地を供給したり焼土った製品を
取上げるには、上側の円ｉ１が下側の円盤ｌに対して離
れていなければならないが、上下の円盤１．２の少なく
とも一方が昇降するようになっていれば良いし、また、
上側の円盤１が上昇するとともに、下側の円盤ｌが所要
角度水平旋回するようになっていても良い。

薄焼きを完了した薄焼偏平食品Ｓは円盤１．２を開かな
いと取出せないが、円ｚ１．２を開いたときに該薄焼偏
平食品Ｓが下側の円盤１に乗っている場合と、上側の円
盤２に密着して持上る場合のどちらであっても良い。い
ずれにしても焼土げた製品を取出せるからである。なお
、円盤１．２が開かれるときに、薄焼偏平食品Ｓが上側
の円盤２に密着し持上るのを防ぐには、例えば、上側の
円盤２には実利し棒を設けで、該実利し棒を上側の円盤
２が下側の円盤ｌから離れるときに実利し動作させる。

次に、本願第二発明に係る薄焼偏平食品の製造装置は、
第１図（ａ）〜（ｅ）に示すように、上下に接離自在で
二枚の円盤１．２と、該二枚の円盤１．２が直接密着し
ているときに下側円盤ｌを回転駆動する円盤回転手段と
、前記Ｅ側の円盤２を北下動させる円盤移動手段３と、
該二枚の円ｆｆ１１．２が密着して回転しているときに
少なくとも一方の円盤をガス加熱して該二枚の円盤ｌ。

２を所要高温に予熱し該二枚の円ｆｉｌ、２が離れると
き及び生地を挟圧して焼土げを行っている時はガス加熱
）停止するようになっているガス加熱式円盤加熱手段４
とを備えてなり、 前記上側の円盤２は、前記下側の円盤１から離間され下
側の円盤ｌの上に生地ｇが供給され後に前記円盤移動手
段３により平行に下降され生地ｇを所要の厚さの厚焼状
態に挟圧し、さらに所要時間経過後は前記円盤移動手段
３によりさらに下降され該生地を所要の厚さの薄焼状態
に挟圧するようになっていることを特徴とするものであ
る。

従って、円盤１．２を密着して回転させ、ガス加熱式円
盤加熱手段４で円盤１．２を均一かつ高温にガス加熱し
、次いで、ガス加熱を停止し円盤移動手段３により円盤
２を上昇させてから下側の円盤１の上に半流動性の生地
ｇを所定量供給し、続いて、円盤２を下降させて生ｉｎ
＋ｇを所要の厚さの厚焼状態に所要時間挟圧することに
より生地中のガス抜きを円滑に行い、さらに円盤２を下
降させて薄焼状態に挟圧して焼土げるものであり、もっ
て、焼土げの初期に厚焼状態に維持して生地内のガスを
必要十分に放出させることができるから、焼土る薄焼偏
平食品はカルデラ状の凹みや孔、または膨らみが生ずる
ことがなく両面全平滑に焼りげることができる。

［第一実施例・・・第１図（ａ）〜（ｅ）］先ず構成を
説明する。

この実施例の薄焼偏平食品の製造装置は、回転可能かつ
五下動不能に支持される下側の円盤ｌと、該下側の円盤
１に乗せられ下側の円盤ｌとともに回転される上側の円
盤２と、該丘側の円盤２の軸２ａを回転可能にかつと下
方向に案内自在に支承する円盤軸支承手段５と、下側の
円盤１を寄けて昇降自在に設けられ上側の円盤２を乗せ
て上下動し得る円盤移動手段３とが焼上げ単位機構を構
成しており、 そして、図示しないモーターを駆動源にしてかつゼネバ
歯車機構を利用して間欠移動するエンドレステーブル装
着のテーブル部分に、多数の該焼上げ単位機構が一定ピ
ッチで装着されてものとする。

図（ａ）は複数のステイション、例えば第一ないし第五
ステイションを示し、ガス加熱式円盤加熱手段４．４が
設けられているとともに、第一ないし第五ステイション
の範囲で機構するように設けられる図示しない円盤回転
手段に、円盤１の軸が接続して低速回転されるようにな
っており、上記の焼上げ単位機構が、後述する図（ｅ）
の第十六ステイシ目ンから該第−スティジョンへ移動す
る過程で、円盤移動手段３が下降して上側の円盤２が下
側の円盤ｌの上に密着して乗るので、これら第一ないし
第五ステイションでは、加熱式円盤加熱手段４．４が密
着回転する上下の円盤１．２を略凹−温度の所要の高温
、例えば、４０℃〜２００・Ｃに均一にガス加熱するよ
うになっている。

図（ｂ）は第六ステイションを示し、生地供給手段６が
設けられ、上記の焼上げ単位機構が第五ステイシ盲ンか
ら第六ステイションへ移動する過程で、円盤移動手段３
が上昇して上側の円盤２を持］二げるので、下側の円盤
１の上に生地ｇを所定着供給するようになっている。

図（ｃ）は第七ステイションを示し、円盤移動手段３が
下降して上側の円盤２を下側の円盤１からｔ　　１ｍれ
るように支承して一回の間欠停止時間だけ厚焼を行うよ
うになっている。

図（ｄ）は複数のステイション、例えば第八ないし第十
五ステイションを示し、円盤移動手段３がざらに下降し
て上側の円盤２からの距離がｔ２となるように接近し、
該円盤２の重量により挟圧され六回にわたる間欠停止時
間を連続して薄焼を行うようになっている。

図（ｅ）は第十六ステイションでは円盤移動手段３が上
昇して上側の円盤２を持上げ、掬いＬげパレット７で薄
焼偏平食品Ｓを掬い上げるようになっており、図（ｅ）
の第十六ステイションの次は図（ａ）の第一スティジョ
ンに戻るようになっている。

［第二実施例・・争第２図、第３図、第４図］先ず、構
成を説明する。

第２図は、密着して回転している上下二枚の円盤１．２
をガス加熱手段４で加熱されている状態を示す６円盤１
．２は、材質が銅でできておりテフロン被膜処理されて
なる。

下側の円盤１は回転駆動されるようになっており、上側
の円盤２は持上げられるようになっているとともにヒン
ジの付いた蓋のように開くようになっており、ガス加熱
手段４は上側の円ＭＪ２が持上げられるとき該円盤２と
干渉しないように分岐ｖ４ａ、４ａを水平旋回するよう
になっている。

そこで、下側の円盤ｌの回転駆動について説明する９円
盤１は、フレーム８に回転可能に支持された回転軸３の
上端に固定されており、モーター９により該回転軸１０
を介して低速回転されるようになっており、該モーター
９は、円盤１に円盤２を東せて図示しないスイッチをオ
ンにすると、回転駆動するようになっている。

次に、上側の円盤２の持上りについて説明する。

上側の円盤２を持上げるために、下側の円ｆｉｌの外側
に上下動自在な円環盤（円盤移動手段）１１が設けられ
ているとともに、上側の円盤２が下側の円盤１よりも−
周り丸きく形成されており、該円環盤１１が上昇される
と、上側の円盤２が該円環盤１１の乗って持上げられる
。該円ｆｉ盤１１の一ヒ下動は、数円１９＠１１がフレ
ーム８に上下方向に案内される二本の縦ロッド１２，１
２のヒ端に固定されており、円盤持上げレバー１３を持
上げると前記二本の縦ロッド１２．１２を上動できるこ
とにより達成されている０円盤持上げレバー１３の持上
げると縦ロッド１２，１２を上動できるのは、第３図に
示すように、円盤持上げレバー１３が水平軸１４の一端
に固定され、水平軸１４の両端には一対のカムレバー１
５．１５が固定され、該カムレバー１５．１５のコロ１
６゜１６が、縦ロッド１２，１２に固定されたブロック
１７．１７の水平溝に嵌合されている構造により達成さ
れている。

上側の円盤２は、持上げられるだけでなく、ヒンジの付
いた蓋のように開くようになっている。

円盤２が蓋のように開く動作は、円盤２の軸２ａを支持
する断熱材料からなる円盤引起しブラケッ）１８があり
、該円盤引起しブラケット１８がヒンジ１９によって昇
降ブロック２０を構成するＬ形ブラケット２０ａに取付
けられ水平に停止するようになっており、昇降ブロック
２０が、フレーム８の上側に設けられボルトにより縦ロ
ッド１２．１２と固定されていることにより前記内項ｉ
ｌｌに乗って持−１−げられることが補償されていて、
どの高さでも、円盤引起しブラケットの把手部１８ａを
持上げ転倒させることにより達成されている。

他方、昇降ブロック２０が、フレーム８の上側に設けら
れボルト２１．２１により縦ロッド１２．１２と固定さ
れていることから、円盤持上げレバー１３を−・杯に下
げると、昇降ブロック２０に設けられた調整ボルト２２
．２２がフレーム８の上面に当接するようになっており
、このとき前記円唖盤ｌｌの上面が下側の円盤ｌの上面
より若干下るようになっている。このため、上側の円盤
２は、下側の円盤１に密着状態に乗ることができ、下側
の円６ｔが回転駆動されると上側の円盤２も回転される
ようになっており、前記円盤引起しブラケット１８は、
円盤２が円盤１と同心状態を保って自由回転し得るよう
に円盤２に軸２ａを支持している。

第４図に示すように、上側の円盤２を持上げた位置に停
止させるには、前記円盤持上げレバー１３を持、ヒげて
その係止突起１３ａを円盤位置決めレバー２３のＬ部係
止部２３ａに係合させる。

こうして上側の円盤２を持上げた位置に停止トさせれば
、生地供給ホッパー２４を用いて生地を供給することが
でき、また、焼Ｆげた製品を掬い上げパレット７で薄焼
偏平食品Ｓを掬い上げることができる。

前記円盤持上げし八−１３を持上げ位置から下げてその
係止突起１３ａを前記円盤位置決めレバー２３の下部係
止部２３ｂに係合させると、円環盤１１が円盤２を乗せ
て下降し、該円環盤１１の上面が下側の円盤１の上面よ
り数ｍｍ上に位置されて該円環盤１１が上側の円盤２を
支持することになり、従って１円盤ｌの上に生地が供給
されていれば、円盤２の重量により生地を厚さに偏りが
ない良好な厚焼状態に抑圧でき、さらに、円盤持上げレ
バー１３の係止突起１３ａと円盤位置決めレバー２３の
下部係止部２３ｂの係合を解いて、円盤持上げレバー１
３をさらに下げると、昇降ブロック２０に設けられた調
整ボルト２２゜２２がフレーム８の上面に当接するまで
前記円環盤１１が下がり、該円環盤１１の」−面が下側
の円盤１の上面より若干下にくるので、円盤２が”１　
ｆｉｔ作用により生地を挟圧していくことができ、薄焼
状態に抑圧できる。

続いて、前記ガス加熱手段４について説明する。

ガス加熱手段４は、円盤１．２を上下から挟むように主
管４ｂより分岐する二本の分岐管４ｂ。

４ｂを有し、分岐管４ｂ、４ｂの先端に円盤ｌ。

２に向いたノズル４ｃ　、４ｃと自動着火装置４ｄ、４
ｄを有し、また主管４ｂの上端に遮断弁４ｅを有してな
る。そして、ガス加熱手段４は、主管４ｂがピニオン２
５を有する主管取付軸２６に固定されており、ハンドル
２７を押込んでピニオン２５と噛合するラック２８ａを
有するラック軸２８を移動しピニオン２５を回転させる
ことにより、分岐管４ｂ、４ｂが旋回しノズル４ｃ。

４Ｃが円盤１．２に向いた状態になると、遮断弁４ｅが
「開」となるとともに自動着火装置４ｄ。

４ｄから火花が飛び、ノズル４ｃ、４ｃから放出される
ガスに着火が行われ、円盤１．２が所要高温に加熱され
るようになっている。

次に作用を説明する。

第２図のように円盤持上げレバー１３を一番下まで下げ
て、上側の円盤ｌを下側の円盤１に密着させ該下側の円
盤１を回転させることにより上側の円盤ｌも回転させる
０次いで、ハンドル２７を押込んでガス加熱手段４の分
岐管４ｂ、４ｂを二枚の円盤ｌを挟む位置に旋回してガ
ス加熱を数分間行い、該二枚の円盤１が所要高温に加熱
したら、ハンドル２７を引戻してガス加熱を停止してガ
ス加熱手段４の分岐管４ｂ　、４ｂを元位置に旋回する
。

続いて、円盤持上げレバー１３を持上げて円盤持上げレ
バー１３の係止突起１３ａを円盤位置決めレバー２３の
上部係止部２３ａに係合させ、上側の円盤ｌを持上げ位
置とし、生地供給ホッパー２４等を用いて下側の円盤１
の一ヒに薄焼偏平食品の半流動性の生地を所要量供給し
、すばやく、円盤持上げレバー１３を下げて、円盤持上
げレバー１３の係止突起１３ａを円盤位置決めレバー２
３の下部係止部２３ｂに係合させる。

すると、円環盤１１の上面が下側の円盤１の」二面より
も若干下降し、このため円盤２が重量作用により生地を
薄焼状態に挟圧でき、二枚の円盤１．２は先のガス加熱
によって高温に加熱されているから該生地を厚焼するこ
とができる。

こうして、二枚の円盤１．２により生地を挟んでいきな
り強力な焼上げを行うので、両面に表皮が即時にでき、
生地内に沢山発生するガスは、表皮を貫く上下方向に流
通することがなく、厚焼状態に挟まれて移動を拘束され
た締固められていない生地中を水平方向に浸透するよう
に円滑に流通し、生地ｇにカルデラ状の凹みや孔、また
は膨ら入が生じさせる悪作用を行わないで外部へ抜は出
る。

該厚焼は、生地の内部に熱が通りおびただしいガスの発
生が抑まり次第、終えて、引続いて円盤持上げレバー１
３を一番下まで下げて、薄焼に移行する。すると、円環
盤１１の一ヒ面が下側の円盤ｌの−に面より若干下にく
るまで円環盤１１が下がり、円盤２が重量作用により生
地を挟圧し、もって円盤１，２が薄焼状態に両面平滑に
焼上げることになる。

焼上げが完了したら、第４図に示すように、前記円盤持
上げレバー１３を持上げてその係止突起１３ａを円盤位
置決めレバー２３の上部係止部２３ａに係合させ、上側
の円盤２を持上げた位置に停止させ、焼上げた製品を掬
い上げパレット７で薄焼偏平食品Ｓを掬い上げる。

［効果］ 以り説明してきたように、本願第一発明に係る薄焼偏平
食品の製造方法によれば、 二枚の円盤により半流動性の生地を挟んでいきなり強力
な焼上げを行い、厚焼き状態として生地を膨らませる原
因となる該生地中に含まれる空気を含む水分を蒸気とし
て充分かつ円滑に放出させ、その後、生地の内部に熱が
通りおびただしいガスの発生が抑まり次第、厚焼を終え
て、薄焼き状態にして焼上げるようにしたので 原料の生地から発生するガスによりカルデラ状の凹みや
膨らみが生ずることがなく両面を平滑に保って焼１げる
ことができ、 特に、薄焼せんべい等の硬くて薄くかつ平に焼上げる薄
肉回位き食品、または、クレープ等の軟〈て薄くかつ平
に焼上げる薄肉軟焼き食品の製造に適したオリジナルな
薄焼偏平食品の製造方法が実現し、初期の目的が達成さ
れる。

また本願第二発明に係る薄焼偏平食品の製造装置によれ
ば、 ト下二枚の円盤を密着させて回転してガス加熱でき、円
盤を加熱できたら、上側の円盤を上動させて半流動性の
生地を供給してから該上側の円盤を下降させれば、生地
を厚焼状態に挟圧することができ、さらに若干の時間経
過後は円盤がさらに下降すれば生地を蒲焼状態に挟圧す
ることができるので、 二枚の円盤により半流動性の生地を挟んでいきなり強力
な焼上げにて厚焼きができ、もって生地を膨らませる原
因となる該生地中に含まれる空気を含む水分を蒸気とし
て充分かつ円滑に放出させ、その後、生地の内部に熱が
通りおびただしいガスの発生が抑まり次第、厚焼を終え
て、薄焼状態にして焼土げるようにしたので、焼土る薄
焼偏平食品はカルデラ状の凹みや孔、または膨らみが生
ずることがなく両面を平滑に焼土がり、薄焼せんべい等
の硬くて薄くかつ平に焼上げる薄肉回位き食品、または
、クレープ等の軟〈て薄くかつ平に焼ｋｌげる薄肉軟焼
き食品の製造に適した薄焼偏平食品の製凸装置が実現し
、初期の目的が達成される。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明の薄焼偏平食品の製造方
法及び製造装置を説明するための第一実施例に係る概略
工程図である。 第２図〜第４図は本発明の薄焼偏平食品の製Φ方法及び
製造装はを説明するための第二実施例に係り、第２図は
円盤を加熱している状態を示す右側面図、第３図は要部
を断面した正面図、第４図は薄焼食品を焼上げて取出す
状態を示す右側面図である。 Ｓ　・　　０ １Φ・ ２・・ ２ａ・ ３拳・ ４・− ａ− ４ｂ・ ４０番 ｄ　　− ４ｅ　・ ５Φ拳 ６０争 ７争・ ８・・ ９・φ １０＠ １１・ １２・ ・薄焼偏平食品、 ・円盤、 ・円盤、 ■軸、 φ円盤移動手段、 ・ガス加熱手段、 Φ・分岐管。 Ｑ参主管、 ・−ノズル、 ・拳自動着火装置 会・遮断弁、 ・円盤軸支承手段。 中生地供給手段、 φ掬い」こげパレット、 一フレーム 争モーター ・・回転軸、 ・・円環霊（円盤移動手段） 拳中縦ロー、ド、 ｌ　３　・ ３ａ １４　・ １５　・ １６番 ｌ　７　・ １８　φ ８ａ ２０　・ ０ａ ２１争 ２２　争 ２３Ｉ＋ ３ａ ３ｂ ２４　・ ２５　・ ２６　― ２７　・ ・円盤持−ヒげレバー ・・係止突起、 ・水平軸、 参カムレバー ―コロ、 ・ブロック、 ・円盤引起しブラケット、 争拳把千部、 ・ヒンジ。 ・昇降ブロック、 ・−Ｌ形ブラケー７ト、 φポルト、 ・調整ボルト、 ９円盤位置決めレバー ・拳上部係止部、 φ・下部係止部、 ・生地供給ホッパー 拳ピニオン、 ・主管取付軸。 ・ハンドル、 ２８・Φ・ラック軸、 ２８ａ目争ラツク

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）上下二枚の円盤を所要高温に予熱し、次いで下側
   の円盤の上に薄焼偏平食品の半流動性の生地を所要量供
   給した後、上下の円盤で該生地を所要厚さに挟圧して所
   要時間厚焼きを行うとともに該生地中のガス抜きを行い
   、続いて、上下の円盤で該生地をさらに圧して所要時間
   薄焼きを行い、薄焼き完了後は上下二枚の円盤を開いて
   薄焼偏平食品を取出すことを特徴とする薄焼偏平食品の
   製造法。
2. （２）上下に接離自在で二枚の円盤と、該二枚の円盤が
   直接密着しているときに下側円盤を回転駆動する円盤回
   転手段と、前記上側の円盤を上下動させる円盤移動手段
   と、該二枚の円盤が密着して回転しているときに少なく
   とも一方の円盤をガス加熱して該二枚の円盤を所要高温
   に予熱し該二枚の円盤が離れるとき及び生地を挟圧して
   焼上げを行っている時はガス加熱を停止するようになっ
   ているガス加熱式円盤加熱手段とを備えてなり、前記上
   側の円盤は、前記下側の円盤から離間され下側の円盤の
   上に生地が供給され後に前記円盤移動手段により平行に
   下降され生地を所要の厚さの厚焼状態に挟圧し、さらに
   所要時間経過後は前記円盤移動手段によりさらに下降さ
   れ該生地を所要の厚さの薄焼状態に挟圧するようになっ
   ていることを特徴とする薄焼偏平食品の製造装置。