JPH02218631A - フエノール類の同時的脱塩基および脱硫方法 - Google Patents

フエノール類の同時的脱塩基および脱硫方法

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JPH02218631A
JPH02218631A JP1327466A JP32746689A JPH02218631A JP H02218631 A JPH02218631 A JP H02218631A JP 1327466 A JP1327466 A JP 1327466A JP 32746689 A JP32746689 A JP 32746689A JP H02218631 A JPH02218631 A JP H02218631A
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Jorg Talbiersky
イエルク・タ―ルビ―ルスキー
Bernhard Wefringhaus
ベルンハルト・ウエーフリングハウス
Konrad Stolzenberg
コンラート・シユトルツエンベルク
Wolfgang Bergins
ウオルフガング・ベルギンス
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C37/00Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C37/68Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
    • C07C37/86Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by treatment giving rise to a chemical modification

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 タールまたは石炭の水素化処理によって得られた粗フエ
ノール、あるいは個々のフェノール留分は、不純物とし
て有機塩基および硫黄化合物を含有しており、これらの
ものは、フェノールから極めて厄介なしかもそれぞれ別
個の工程においてしか分離されない〔ディーリクス/ク
ビフカ著“フェノール類および塩基”、アカデミ−社、
 1958年第344頁以下(Dierichs/Ku
bicka、 Phenole undBasen+ 
  Akademie−Verlag  Berlin
+   195EL   344  ff)参照〕。
従って1本発明の解決すべき課題は、単一の処理によっ
て硫黄含有化合物および窒素含有化合物の含量を同時に
実質的に減少せしめうる。フェノール類の処理方法を提
供することである。
上記の課題は、特許請求の範囲の欄に記載された請求項
1〜7に記載の方法によって解決される。
本発明者らは、無水フタル酸(PSA) 1〜5重量%
を用いるフェノール類の熱処理および続いての分留によ
ってこれらフェノール類の塩基ならびに硫黄含量が減少
することを見出した。更に同時に着色安定性(Farb
stabilitut)が向上する。PSAによる熱処
理の際に更に少量(フェノール類の量に関して0.01
〜0.5重量%)のキノンを添加するならば、脱塩基な
らびに脱硫作用のより一層の改善および着色安定性の改
善が達成される。このことは、キノン単独での処理によ
ってはなんら効果が得られないという限りにおいて特に
驚くべきことである。
キノンとしては1例えばベンゾキノン、ナフトキノン、
アントラキノンまたは対応するアルキル置換キノンのよ
うな、すべてのパラ−またはアンフィーキノンが使用さ
れうる。最良の結果は、アントラキノンを使用した場合
に得られる。この点に関して、高いジスルフィド含量お
よび比較的低いメルカプト基含量を有する粗フエノール
類を使用するならば、温和な条件下における蒸留の際に
行なわれる熱処理で十分であることが明らかとなった。
本発明による処理は、粗フエノールまたは処理すべきフ
ェノール留分を無水フタル酸とまたは無水フタル酸およ
びキノンと混合し、そして撹拌下に100〜180℃の
範囲の温度に数時間(5〜30時間)加熱することによ
って行なわれる。その後で反応混合物を分留することに
より、望ましくない不純物は、蒸留残渣中に残留する。
改良された実施態様においては、フェノール類は、無水
フタル酸1〜5重量%と、または無水フタル酸1〜5重
量%およびキノン0.01〜0.5重量%ならびに場合
によっては芳香族炭化水素と混合され、そして還流下に
5〜30時間加熱される。その後で、好ましくは真空下
に分別7留される。好ましい芳香族炭化水素は9例えば
トルエン、エチルベンゼンまたはキシレンのような10
0〜150℃の範囲の沸点を有するものである。
好ましい実施態様においては、予めの酸化処理によって
ジスルフィド基含量が高められたフェノール類が無水フ
タル酸1〜5重量%およびアントラキノン0.01〜0
.5重量%と混合されそしてできうる限り低い底部温度
および短い滞留時間において蒸留される。そのような温
和な条件下での蒸留は1例えば、真空下(30〜80ミ
リバール)における、好ましくは薄層蒸発器または落下
膜蒸発器のような簡単な蒸留装置における蒸留である。
高融点物質である無水フタル酸およびキノンの取扱いに
おけるもう一つの簡易化は、これらの反応体を高沸点の
フェノール類に溶解することにある。それによってこれ
らの反応体は、溶液として使用され、うまく配量され、
そして取扱い容易な蒸留残渣として残留する。
大胤闇 例1 次の組成: フェノール          61.6  %0−ク
レゾール          10.35%m/p−ク
レゾール        20.15%2.6−ジメチ
ルフェノール    0.55%0−エチルフェノール
       0.20%2.4/2.5−ジメチルフ
ェノール  3.10%3.5−ジメチルフェノール+ m/p−エチルフェノール   2.45%2.3−ジ
メチルフェノール    0.30%3.4−ジメチル
フェノール    0.30%p−イソプロピルフェノ
ール    0.90%C5−フェノール類     
  0.10%を有する粗フェノール4.000gを高
沸点フェノール類中、無水フタル酸(PSA) 100
gまたは無水フタル酸100g+アントラキノン0.8
8のt8液ならびにキシレン(異性体混合物)200−
と混合し、そして還流下に24時間煮沸する。
次に9反応混合物を133 ミリバールにおいて分留す
る。
下記の第1表は、得られた結果を、同じ手続にかけられ
た。当然無水フタル酸も゛アントラキノンも添加されて
いない粗フエノール試料(空試料)と比較して示してい
る。
個々のフェノール留分に対する対応する数値が第2およ
び3表に示されている。
第4表は、 ASTM l686−61法により24日
後に測定されたそれぞれの単一の留分の着色安定性を示
す。
第1表 粗フエノールの組合せ脱塩基および脱硫(全留出物) 添加剤        PSA   PSA十  空試
料アトラキノン 蒸留収量       95%  92%   93%
供給物中の塩基含量に 対する全留出物中の塩 基の減少率      82%  86%   60%
全留出物中の塩基含量 298ppm  240ppm
   683ppm供給物中の硫黄含量に 対する全留出物中の硫 黄の減少率      52%  82%   31%
全留出物中の硫黄含量 112ppm  43ppm 
  163ppm第2表 粗フエノールの脱塩基 添加剤      PSA    PSA十   空試
料アントラキノン 塩基含量(pp情): フェノール前留出物3(−99)’)  6(−97,
9)”  284フエノール    6〜  2−6 0−クレゾール   170(−92,4) 129(
−94,3)   2251m/p−クレゾール 55
9(−64,5) 640(−59,3)   157
41)括弧内:塩基含量の空試料よりの偏差(%)第3
表 粗フエノールの脱硫 添加剤      PSA PSA  + 空試料 アントラキノン 第4表 粗フエノール留分の着色安定性 添加剤      1’SA    PSA十   空
試料アントサキノン 硫黄含量(ppm)  : フェノール 前留出物 フェノール 0−クレゾール 層/p−クレゾール 296 (−82,6) ’ 16(−63,6) 31(−44,8) 327(−80,8) ” 16(−40,7) 11(−75,0) 17(−44,6) 24日後の留分の色(Apha) : フェノール 前留出物     100 フェノール    85 0−クレゾール    10 m/p−クレゾール   7 〉250 〉250 〉250 1′括弧内:硫黄含量の空試料よりの偏差(%) 例2 第5表 A 使用された粗フエノール(ジスルフィドへの変換率
の高いもの) 全硫黄含量:         165 pp■メルカ
プト硫黄:        5 ppm塩基:    
       1616 ppmB 使用された粗フエ
ノール(ジスルフィドへの変換率の低いもの) 全硫黄’           240 ppmメルカ
プト硫黄:       184 ppt*塩基:  
         1010 ppm上記の両方の粗フ
エノールにそれぞれ無水フタル酸2.5重量%およびア
ントラキノン0.2重量%を溶解し、そしてこれらの溶
液を更に予め熱処理することなく66ミリバールにおい
て45分間蒸留した。
留出物除去率(Desttllatabnahn+e)
は90%である。
得られた結果を第5表に示す: 粗フエノール のam 温度   留出物中 脱塩 留出物中 脱硫度頂部 底
部 の塩基  温度 の硫黄 ’c   ’c   ppm    %^ 86.3 86.2 97.8 34.0

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、フェノール類を無水フタル酸で熱処理しそして蒸留
    することを特徴とするフェノール類の同時的脱塩基およ
    び脱硫方法。 2、フェノール類を無水フタル酸1〜5重量%および芳
    香族炭化水素と混合し、還流下に5〜30時間加熱しそ
    して次に真空下に蒸留する請求項1記載の方法。 3、熱処理を無水フタル酸およびキノンを用いて行なう
    請求項1または2に記載の方法。 4、フェノールの量に関して0.01ないし0.5重量
    %のキノンを使用する請求項3に記載の方法。 5、キノンとしてアントラキノンを使用する請求項3ま
    たは4に記載の方法。 6、熱処理を温和な条件下で蒸留しながら実施する請求
    項5に記載の方法。 7、無水フタル酸を、または無水フタル酸とキノンとを
    高沸点のフェノール類中に溶解しそして溶液として使用
    する請求項1〜6のうちのいずれかに記載の方法。
JP1327466A 1988-12-19 1989-12-19 フエノール類の同時的脱塩基および脱硫方法 Expired - Lifetime JP2738577B2 (ja)

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DE3912670.6 1989-04-18

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US4992599A (en) 1991-02-12
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