JPH02219978A - アルミニウム系金属切削屑溶解炉の溶湯に与える電磁▲攪▼拌力を制御する方法と装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、アルミニウムまたはアルミニウム合金の切削
屑（通称ダライ粉）を再溶解して漏湯とするために使用
する溶解炉に設置される溶湯撹拌装置（以下スクーラー
と称す）により溶湯に与えられる推力を制御する方法と
装置に関する。

より具体的には、旋盤などの工作機械で切削され細長く
肉厚が薄く、単位ｊｌ１１当たりの表面積が極めて大き
く、しかも酸化し易いため溶解効率の低いアルミニウム
またはアルミニウム合金の切粉（ＪＩＳＨ２１１９では
”削りくず”とよばれる切削Ｉ’ｌｌ）を高い溶解効率
で溶解し高品質の溶湯とするために渦を発生させる渦発
生室を有し、この渦発生室の名湯液面を上昇させること
により渦の発生を助長するためにスクーラーを使用する
反射炉に適用され、前記渦発生室内の溶湯の深さを検出
し、その深さに応じ推力を制御しほぼ一定亙の溶解量を
保ちながら溶解することを可能にする推力制御方法と装
置に関する。

〔従来の技術〕

アルミニウムまたはアルミニウム合金の切削屑（通称ダ
ライ粉）を再溶解して溶湯とするには、低周波誘導溶解
炉、反射型溶解炉、電磁樋を使用した反射炉などが使用
されている。

アルミニウムは代表的な軽金属として）［Ｊられている
ように、その比逍は約２．７ときわめて軽いのに加え融
点が約６６０’Ｃと低温で、しかも酸素との結合力が強
く容易に酸化する。

また、アルミニウムを含め一般の金属材料は、ある程度
の粘性と靭性な有するため、それらの切削屑は切断され
ても短（分断された状態にならず、渦巻状の細長（しか
も薄いリボンの状態になる。

従って、ブライ扮と呼ばれるアルミ系金属の切削屑は単
位重量当たりの比容積が極めて大きく空隙が多い状態で
供給され、しかも酸化し易いという溶解における悪条件
の′殆ど全てを備え、常温でも表面は酸化膜で覆われ、
また表面に付着した切削油その他の異物を分離するため
通常脱脂、乾燥などの予備処理を経ていることから表面
はかなりの厚さの酸化膜で覆われている。

従って、アルミ系金属の切削屑は高温にされている溶解
炉内に装入されると急速に酸化が進行して燃久てしまい
製品歩留まりが大幅に低下する。

このようなアルミ系金属の切削屑を溶解するには、切削
屑を短時間内に既に形成されている元湯と呼ばれる溶湯
中に装入して空気中の酸素との接触を極力避けて溶湯に
する必要がある。

一方、幾分厚い切削屑は内部が溶融しても外部の酸化腹
皮の存在により内部の溶融部分の流出が妨げられている
間に酸化が進行し、溶湯として回収されるのは極めて少
量という結果になる。

このように、アルミ系金属の切削屑を溶解するには溶解
炉の種類によっては極めて困難な状態に遭遇することに
なり、バーナーにより直接炎を吹き付ける反射炉では特
に溶解に注意を要する。

以下、目下使用されている各種の炉について、このよう
な瀉解上の難点について概略を述べる。

ｆｉ＋　るつぼ形溶解炉 溶解歩留りはよいがバッチ式で小容量であるため電力費
が高くなる。

（２）撹拌装置を有する鉄鍋 小形で小容量であるため、人手を要し溶解歩留りも低く
燃費も高い。

（３）ローフ撹拌機 口−り上部から切削屑を連続投入する形式であるが、酸
化するために歩留りが悪く溶解能力に限界がありセラミ
ック製ロータの損耗も大である。

（４）反射炉 通常の密閉型反射炉では、バーナーで溶解すると切削屑
が急速に昇温し燃焼したり、表面が厚い酸化物で覆われ
ている場合は内部は溶解しても表面は溶解せずに残り酸
化による溶解損が多い。

このため切削屑な投入するときにはバーナーを停止し、
既に溶湯になっている元渇に切削屑を投入しフォークリ
フトなどで混合するなどのバッチ方式を反１夏する。

オープンウェル部を有する反射炉ではオープンウェル部
に切削屑を投入し、上部から押込み板を使用し軽く嵩ば
った切削屑をオープンウェル部の溶湯中に押込み溶解さ
せるが溶解歩留りが低く押し込み板の損耗が早い。

（５）溶湯ポンプを使用した反射炉溶解装置前述のよう
な種々の問題点に対処するため、未公開ではあるが第５
図（Ａｌ。ｆＢｌ　に示めされているような溶解炉が提
案され一部で使用されている。

この装入の概要を述べると、反射炉６０の装入口６１側
の切粉コンベア６２の下側に渦室１１１３を配置して、
この渦室６３の下端に溶湯吸い込み口６４を設は炉体の
装入口６１とその反対側６５に機械式溶湯ポンプ６６を
配置し、この溶湯ポンプ６６と溶湯吸い込み口６４との
間を、はぼ水平に延在するＩ・ンネル状の溶湯通路６７
で連結しである。

この反射炉内に元湯を装入し溶湯ポンプ６６を作動させ
ると、渦室６３内の溶湯は吸引され吸い込み口を急速に
通過し、その上部に渦が発生する。

そこで切粉コンベア６２かも切削屑を渦の部分に投入す
れば、切粉は溶湯の渦に捲き込まれて溶湯中で急速に溶
解され溶湯ポンプ６６の吐出し口から昇温室に送られ、
再び渦室６３に流動し循環する。

このようにして、アルミニウム系金属の切削屑の酸化に
よる損耗を防止して、急速に溶解するという問題はある
程度達成される。

しかしながら、溶湯ポンプの使用を前提とする前記の反
射炉では、実際操業に際し１次のように大別して２つの
問題が発生する。

（偵溶湯ポンプを使用する必要上、渦ｖ６３の下端の溶
湯吸い込み口６４と溶湯ポンプの吸い込み［コとの間は
、はぼ水平に配置され流体密にされたトンネル状の溶湯
通路、つまり溶湯トンネルで違結しなければならない。

この溶湯ポンプは、溶湯温度を高くすること（７００°
Ｃ以上）及び構造上ポンプ挿入部の溶７易深さを大きく
すること（２５０＋ａｍ以上）が必要条件であり使用前
に先ずこの条件を満足させる必要がある。

何等かｃＩＲ因により、炉の運転が急に停止した場合に
、炉内の溶湯は炉の最下部にある溶湯トンネル内に滞留
し、切削屑を溶解して温度が低下した溶湯は、凝固し易
い欠点がある。

また溶湯が溶湯トンネル内で一旦凝固してしまうと何等
かの手段で溶融させるか１機械的に取り除くかしなけれ
ば、次の溶解を再開できないため、空転時間と除去のた
めの工数を要しかなりのコスト高となる。

（ｒｌ）機械式溶湯ポンプはその構造上、作動部分であ
る羽根などがドロス停の異物を含むアルミ溶湯と直接接
触する。

溶湯ポンプの羽根その他の部分は、窒化けい素（ＳｉＮ
）や炭化けい素（ＳｉＣ１などかなり耐食性や耐摩耗性
の高いセラミックス材で製作されてはいるが、腐食性を
有しているアルミ溶湯と接触してかなりの速度で回転す
るので、腐食やエローシコンにより損耗するのは不可避
であり５これらの部材自体のコスト、体動による損失、
部材交換の工数によるコスト上昇を招来する。

ｆＢｌ　ｔｅａ撹拌機により渦発生部の渦発生を助長す
る溶解炉 機械式？ｆ！渇ポンプ使用することに起因する上記の課
邪を解決するため、本願の出願人による先願発明では溶
湯ポンプの代りに電磁撹拌機（以下スタークーとよぶ）
を採用することを第１のＭｉＪ提とし、この前堤に対応
して下°記に示す関連部材の構造、配置、他部材との寸
法関係などを合理的に設定し、機械式溶湯ポンプを採用
した反射炉の上記の間超点を解決するのに加えて、それ
以外の課題についても溶湯水ポンプよっては達成されな
い機能と苅果を実現するようにした。

（イ）炉体全体の構造 以下の説明では、反射炉の切削屑装入口から反対側に至
る方向を炉の長平方向と呼び、この長平方向の片側、第
１図　（Ａ）と第３図では下側に、スタークー、渦室、
および切削屑を）容解した溶湯の通路を配置し平面図で
長平方向の反対側、第１図　（Ａ）と第３図では上側を
バーナーにより溶湯を加熱し昇温する溶解Ｎ（昇温室）
とし１画室の間を炉の天井までには達しない中間壁で仕
切る。

溶湯の通路は、第１図　ｆＢｌに示されているように渦
室とスタークーの中間の位置で装入口側から反対側に上
向に傾斜されている。

これは渦発生室内の溶湯のレベルを有効な範囲で上昇さ
せるためで次の渦室の構造と密接な関係がある。

また、炉壁の内周、特に渦室の隅の部分と、この）＾室
から流下する溶湯の通路の終端部に相当する炉壁の隅の
部分は、断面で半径が大きな円周となるよう大きなＲを
付けて築造する。

（０１渦発生室（以下渦室と略称する）渦室としては、
アルミニウム系金属の切削屑の酸化による損耗を防止す
るためには、渦室内にある溶湯中に、切削屑を急速に捲
き込むようにして切削屑が大気中の酸素と接触し゛Ｃ酸
化する量な極力低減し、溶湯中に溶は込ますのに十分な
捲き込み作用を有する渦を発生させる構造とする。

このためには、平面図で見て渦室を国利する耐火材料の
壁を炉の前壁の方に突堤状に突出させ、その先端が渦室
の底に設けられた吸い込み口の軸心の位置、またはそれ
よりも炉体の装入口側の壁に近接させ、渦室に流入する
溶湯が炉壁の内周に沿って流れるようにした。

また、渦室全体の内径、渦室底部の吸い込みノズルの入
り口の内径、渦室の吸い込みノズルの吐出し口の内径の
などの寸法比を、渦発生に好適な範囲を設定した。

（ハ）溶湯通路上に蓋を設ける スタークーが設置されている溶湯通路上に、必要に応じ
第３図のように溶湯の上を覆うｉ４１を設ける。これに
よりスタークーにより溶湯に与＾られる推力はすべて溶
湯の進行方向に集中され溶解室（昇温室）内の溶湯液面
を蓋の底面にある溶湯通路内の溶湯液面、っまり溶湯レ
ベルよりも高（し渦室での渦の発生を助長する。

（：）溶湯通路の上、下に、第４図のようにスターク−
１５゛を設ける この場合、溶湯通路の上でスタークー１５゛を支持する
部材は前項（ハ）の蓋としても作用し、上下のスターク
ーと蓋とが協同し溶湯に加えられる推力な溶湯の進行方
向に集中させる。

（７）電磁桶により溶湯液面を上昇させる溶解炉水平ス
ターク−の代りに電磁桶を採用した形式の炉でもスター
クーとほぼ同様に溶湯面を上昇させ溶湯の深さを増大さ
せ渦の発生を助長させることができる。

［発明が解決しようとする課題］ オープンウェル型反射炉では、オープンウェル部の横断
方向−刃側に渦発生室（略して渦室）を設け、この渦室
の底はオープンウェル部の残りの部分より浅くし、渦室
の底に溶湯を吸い込み下方に流出させろ吸込みノズルを
設はノズルの寸法を適切に選定すれば、渦室内の溶湯の
表面から吸込みノズルまでの間の渦の発生が助長される
。

オープンウェル部を有しない密閉型の反射炉では、１２
図に示すように、溶解室の装入口側の横断方向の一方側
に渦室を設ける。このようにして渦室な設けた上、さら
に渦室かも装入口から反対側に至る溶湯流路の一部を下
流方向に上昇する斜面とし、傾斜部を越えた水平部の下
方側にスターク−を設は強いｔＭ１攪拌力によって溶湯
を強制流動させれば、溶湯は前壁によって方向を変換し
装入口側に向って流動し渦室内の溶湯液面位（液位また
はレベルとも称す）を上昇させる。

このように渦室内の溶湯液面がｔｍ誘導によりＮＡＩ的
に上昇させられ、溶湯深さが変動することにより渦の発
生状態も変動する５ 溶湯が浅い時には渦が大きくなり場面に波立ちが発生し
、一方溶湯が深くなると１を磁撹拌力による推力をその
ままにしておくと渦が小さくなり溶解能力が低下する。

このように、見場から出発しスクラップ等により溶湯量
を増加してゆく場合や、ある程度の大量の出湯を行なっ
た場合には、炉内の溶湯量が低減した状態から操業する
ことになるので、Ｈ！４室内の溶湯深さが変動するのに
伴ないスクラップの溶湯能力も変動するので操業条件も
変動し１作業上の困難性を伴ない生産性の点からも好ま
しくない。

そのため、渦の発生状態な溶湯の深さに関係なくほぼ一
定とし、溶解能力をほぼ一定に保ち静かな溶解条件で溶
湯する方法とこれに必要な制御装置の開発が要望されて
いた。

［課題を解決するための手段Ｊ 元場から出発し、アルミニウム系金属の切削屑を挿入し
ながら渦室内の溶１）４ｆｔを増加してゆき、定常操業
状態に達するまでは、推力を増加しつつ溶湯深さを増加
するようにし、所定深さに達したらば、この溶湯深さを
維持するようにスタークー。

の推力を制御する。

スターク−は、電磁誘導を利用したりニアモータと同じ
原理により、１ｔｍコイルと可変電源により作動され直
線的推力を発生し商用周波数またはそれより低い低周ａ
ｔｔ源が使用され、推力の増減には電流および／又は周
波数を変更し制御する。

溶湯深さの検出にはアルミニウム滴水が導電性であるこ
とから、電極の一方を常時溶湯に浸漬し他方の電極を液
面上で上下昇降式とし、ボリューム抵抗を内蔵したプー
リーを経由して昇降式電極を上下させ、このプーリーの
回転角を溶湯レベルに換算して設定して置き、一方、溶
湯レベルと所要推力との関係を実験的に求めてグラフと
し、検出されたレベルに対応してスターク−の推力を増
減させる。

〔作用］ 元場を炉内に導入して、スタークーが作動可能になる最
低レベルに達したならば、昇降電極を段階的、またはほ
ぼ連続的に上昇させこれに追従してスタークーの推力を
上昇させ定常状態に達するようにし、定常状態に達した
後はその溶湯レベルを維持するようにする。

出湯などにより、溶湯レベルが低下した場合には溶湯レ
ベルに応じた推力を付加して溶湯レベルを回復させ、所
定の渦を発生させスクラップを投入して溶湯レベルを回
復させる。

また、特定の炉体について被溶解溶湯の種類に応じ溶解
開始から定常操業に達するまでの溶湯深さと時間の関係
を設定しておけば、時間経過に対２する溶湯レベルに達
するように、深さ検出計を上昇又は降下させて、これに
追随して推力を増減加させるように制御するプログラム
制御方式を適用する。

［実施例］ 本発明の推力制御装置は、渦室内の溶湯レベルを検出す
ることにより溶湯深さに応じてスクーラーの推力を制御
する装置であるから、渦室内に本発明の推力制御装置を
配置した実施例について構成や作動を説明する。

本発明を適用する反射炉自体の構成については前記の先
願発明で開示したように、オープンウェル部の有無、ス
ターラーを溶湯通路の下方のみ、または上下両方に配置
した場合、あるいはスターラーに加えて溶湯通路に蓋を
する場合など種々の実施態様が存在しつるが、渦室内の
溶湯レベルと所要推力との相関関係がこれらの因子によ
って影響されろとしても、それらは個々の炉体の特性に
よって決まる常数と考えられ、制御装置の配置や作動に
ついてはほぼ同様の説明になる。

それ故、実施例の説明としてはオープンウェル部を有す
る反射炉の渦室に配置した場合のみについて図解説明す
るにとどめ、先願発明でのスクーラーの種々の配置に対
応する炉体構造についての説明は省略する。

第１図　（Ｃ１は、本発明の制御装置を第１図ｆＡ）と
ｆｉｌ　に示すオープンウェル型反射炉の浦富に配置し
た実施例を示すもので、第１図ｆＡ　）のＣ−Ｃ線に沿
って見た正面図である。

図中の符号ｌＯは反射炉全体を示し、１２はオープンウ
ェル部、１３は渦室、１３’はオープンウェル部と渦室
との間の隔壁、１３”は渦室の底壁、１９”は底壁、２
４は吐出しノズルである。

本発明の主体を成す溶湯深さ検出装置は、浸漬電極２６
と昇降Ｍ極２７とから構成され、浸漬電極２６は溶湯内
に浸漬して配置され、一方昇降電極２７は、通常浸漬電
極２６よりも上で溶湯液面よりも上に配置され、ワイヤ
ー２８を介してボリュウム抵抗を内蔵した巻き取りドラ
ムにより巻き上げ又は巻き降ろすようにすれば、゛覗見
抵抗の変化から溶湯液面の位置を定量的に測定すること
も出入る。

巻き取りドラムやプーリーの径を適当に選べば回転角か
ら溶湯レベルを検知することも出来る。

これらの１１１極はそれぞれのリード線２６°と　２７
゜を通じて第１図　ｔｃ＋に示す検出器３１と電源３２
に接続され、浸漬電極２６と昇降電極２７との間にアル
ミニラ系金属の溶湯が存在しない場合には回路は開いて
いる。溶湯の液面位（レベル）が上昇し昇降電極２７に
接触するようになると回路が閉じ電源からの電流が流れ
検出機３１は溶湯のレベルが昇降電極２７まで達したこ
とを指示する。

指示の手段としては音響またはアラームランプを使用す
るか両者を併用しても良い。

本発明の装置を使用してアルミニウム系金属の切削屑を
溶解する操作について説明する。

スクーラーにより溶湯に推力を及ぼして渦室内の溶湯に
渦を発生させ、アルミニウム系金属の切削屑をｊ６渇の
渦の部分に装入し゛Ｃ溶湯に溶解させるには、先ず渦室
内め溶）易のレベルな第１図ＩＢ）に示される記号ｆの
最低位置までにしておかなければならない。

このことは、第１図（Ａｌの溶湯通路１１についても言
えることで、溶湯通路１１内の溶湯が記号ｆの最低位置
までに達していなければスターラーにより溶湯に十分な
推力を及ぼすことが出来ない。

溶解を開始するには、先ず、他の炉で忍解された溶湯を
元湯として記号ｆの最低位置まで給湯する。２、クーラ
ーが作動されていない状態で［ま溶湯には５１１ｆ！攪
拌力が作用していないので渦室内と溶湯通路１１内の溶
湯は同一レベルになっている。

元湯が記号ｆの最低位置まで達したか否かも本発明の検
出手段により確認できる。

溶湯の深さを、第１図（Ｂ）にでて示される最低レベル
からｅで示めされる最高レベルまでの幾つかの段階に分
割し、それぞれのレベルに対応する最適推力を与えるた
めの周°波数とＩＩ流の制御変数を実験的に設定して置
けば、任意のレベルｍ・に対し最適の推力を与えること
ができる。

まず、元場が記号ｆの最低位置まで達したか否かを本発
明の検出手段により確認できる。

次に昇降電ｆｒＭ２７を次のレベル、例えばｍ、まで上
昇させ、スタークーがこのｍ’＋４こ対応する推力を発
生させるように制御する。

渦室内の溶湯のレベルが上昇してｍ、に違したことが検
出されたら、昇降電極２７を次のレベルであるｍ２まで
上昇させ、スタークーがこのｍ８に対応する推力を発生
させるように電流と周波数を制御する。

以下、溶湯レベルが上昇して溶湯の最高レベルｅに達す
るまで同様の操作を反復して、渦室内の溶湯に対して、
そのレベルに応じあらかじめ設定した最適推力がスター
クーによって与えられる。

この実施例では５昇降電極２７を次ノ？と複数の段暗に
上昇させ、任意の目標レベルｍｎ’に対応してスターク
ーによって与えられ推力を制御するという手動による段
階的制御方式について説明したが、計算と反復された実
験結果により、Ｐｓ渇の最低レベルｆかも最高レベルｅ
までの間の最適推力が連続的に示される状態に達したら
ば、第１図の＜０１のように検出器３３による溶湯レベ
ルの横出値を調節器３４に人力し、調節器からの制御信
号により推力制御器ｆｉ！　３５を作動させ、溶湯流路
内の溶湯に最適推力を与久るというフィードバック方式
の自動制御方式を採用することも可能である。

［効果］ 以上に述べたように１本発明に係わる渚ン易に与える電
磁攪拌力を制御する方法と装置は、浸漬式電極と昇降式
゛電極とから成る簡単な構造の検出器を一使用し、天場
として存在すべき溶湯の最低レベルを検出し、その後は
昇降４４極２７を次々と複数の段階にまたは連続的に目
標レベルｍ＋、まで上昇させ、目標レベルｍ７に対応し
てスタークーによって与えられ推力を制御するという比
較的簡単な制御方式により、渦室内の溶湯の深さが変化
しても５溶湯に発生する渦がほぼ一定の状態に保たれア
ルミニウム系金属の切削屑の溶解を最も効率的に且つ一
定量の溶解量を保って安定した状態で行ない得るように
制御することが可Ｉ！ｒコになるので、アルミニウムス
クラップを溶解する溶解炉に適用して極めて有効な制御
力式と制御装置である。

【図面の簡単な説明】

第１図　（Ａ、１は本発明を適用するオープンウェル型
反射炉であって、オープンウェル部の一角に渦発生室（
渦Ｎ）が設けられている炉体の平面図、同図　ｔｅｌは
同じく側面図、同図ｔｃ＋は前記の炉の渦室に本発明の
検出用１を極を配置した状態を示す断面図、同図　（０
）は同じ（本発明に自動制御方式を適用した場合のブロ
ック図、第２図はオープンウェル部のない密閉型反射炉
の平面図、第３図は溶湯ｉ！路の上に蓋が設けられてい
る炉体の正面断面図、第４図は溶湯通路の上、下にスタ
ークーが設けられている炉体の正面断面図、第５図　（
Ａ）と（８１は炉体の一角に渦室が設けられ溶湯ポンプ
により溶湯を循環させる従来技術の反射炉の側断面図と
平断面図である。 図面Ｉ中の符号 １０：反射炉の炉体、１１：溶湯通路、１２：溶解室。 １３；渦室、　１３’：渦室の隔壁、１３”：渦室の底
壁２１４：オープンウェル部、１５．１５’ニスクーラ
ー１６：溶湯通路の隔壁、２４：吐出しノズル、２６：
浸漬電極、　２６’：リード線、２７：昇降電極、２７
°：　リード線、　２８；ワイヤー２９：１！き取りド
ラム（プーリ　３１：検出器、３２＝電源、３３；溶湯
液位検出器、３４：調節器、３５：推力制御器。 代理人　弁理士　後　藤　武　夫 代理人　弁理士　斎　藤　春　弥

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、アルミニウム系金属切削屑を補給し溶解して操業す
   る反射炉型溶解炉の制御方法であって、炉の装入口側に
   設けた渦室内の溶湯に発生した渦中にアルミニウム系金
   属切削屑を巻き込んで溶解するに際し、 渦室内の溶湯の可変深さに対応する液位に対し電磁撹拌
   機の最適な推力を予め設定して置き、電磁撹拌機を作動
   させてその推力によって前記渦室内の溶湯の液位を、前
   記渦室の下部から溶解室に至る溶湯通路内の溶湯の液位
   よりも上昇させて溶解能力を高め、 上昇された前記渦室内の溶湯の液位を検出し、溶湯に対
   し、検出された液位において最適な推力を与えるように
   電磁撹拌機を制御することを特徴とする溶湯に与える電
   磁撹拌力を制御する方法。 ２、請求項１に記載の溶湯に与える電磁撹拌力を制御す
   る方法において、前記の溶解炉がオープンウェル型反射
   炉で前記の渦室がオープンウェル部の一角に設けられて
   いることを特徴とする溶湯に与える電磁攪拌力を制御す
   る方法。 ３、請求項１に記載の溶湯に与える電磁撹拌力を制御す
   る方法において、前記の溶解炉が密閉型反射炉であり、
   前記の渦室が溶解室の一角に設けられていることを特徴
   とする、溶湯に与える電磁撹拌力を制御する方法。 ４、請求項１に記載の溶湯に与える電磁撹拌力を制御す
   る方法において、前記の溶解炉の溶湯通路の上に蓋が設
   けられ電磁撹拌機の推力が溶湯の流れの方向に集中され
   るようになっている溶湯に与える電磁撹拌力を制御する
   方法。 ５、請求項１に記載の溶湯に与える電磁撹拌力を制御す
   る方法において、前記の溶解炉の溶湯通路の上、下に電
   磁撹拌機が設けられ電磁撹拌機の推力が溶湯の流れの方
   向に集中されるようになっている溶湯に与える電磁撹拌
   力を制御する方法。 ６、請求項１に記載の溶湯に与える電磁撹拌力を制御す
   る方法において、前記の溶解炉の溶湯通路が前記渦室の
   やや前方から炉の装入口と反対の側の後壁に向かって上
   昇しそれに沿ってその下方に電磁撹拌機が設けられた電
   磁樋として形成されている溶湯に与える電磁撹拌力を制
   御する方法。 ７、アルミニウム系金属切削屑を補給し溶解して操業す
   る反射炉型溶解炉として、 炉の装入口側に設けられた渦室と、 この渦室内に発生した渦中にアルミニウム系金属切削屑
   を巻き込み溶解する溶解能力を高めるために、渦室から
   流下する溶湯に推力を与え渦室内の溶湯の液位を、前記
   渦室の下部から溶解室に至る溶湯通路内の溶湯液位より
   も上昇させる電磁撹拌機とを有する溶解炉の推力制御装
   置であって、前記渦室内の溶湯の液位を検出する検出器
   と、この検出器によって検出された液位に応じ、前記溶
   湯通路内の溶湯に対し予め設定された最適推力を与える
   ように前記の電磁撹拌機を制御する制御手段とを有する
   ことを特徴とする溶湯に与える電磁撹拌力を制御する装
   置。 ８、請求項７に記載の溶湯に与える電磁撹拌力を制御す
   る装置において、前記の渦室内の溶湯の液位を検出する
   検出器が、 該渦室内の溶湯に常時浸漬される浸漬電極と、前記の電
   磁撹拌機により推力が与えられるために必要な溶湯の最
   低液位と前記渦室の容量によって決まる最高液位との間
   を昇降可能にされた昇降電極と、 前記の溶湯と昇降電極とが非接触の状態から接触になっ
   た状態で回路が閉じその状態での溶湯の液位を前記昇降
   電極を上下させるワイヤに連結されたドラムの回転角の
   変化として読み取り溶湯の液位として指示する指示器と
   を有することを特徴とする溶湯に与える電磁撹拌力を制
   御する装置。 ９、請求項７に記載の溶湯に与える電磁撹拌力を制御す
   る装置において、前記の電磁撹拌機を制御する制御手段
   が検出された溶湯の液位に応じ手動で行なわれるように
   なっている溶湯に与える電磁撹拌力を制御する装置。 １０、請求項７に記載の溶湯に与える電磁撹拌力を制御
   する装置において、前記の制御手段が検出された溶湯の
   液位に応答する調節器の制御信号により推力制御器によ
   り電磁撹拌機に供給する電流と周波数を自動的に制御す
   るようになっている溶湯に与える電磁撹拌力を制御する
   装置。