JPH02222005A - 反転形状加工データ作成方法 - Google Patents
反転形状加工データ作成方法Info
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- JPH02222005A JPH02222005A JP4177689A JP4177689A JPH02222005A JP H02222005 A JPH02222005 A JP H02222005A JP 4177689 A JP4177689 A JP 4177689A JP 4177689 A JP4177689 A JP 4177689A JP H02222005 A JPH02222005 A JP H02222005A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、デジタイジングしたモデル形状の反転形状を
加工するNCデータを作成する方法に関する。
加工するNCデータを作成する方法に関する。
従来の技術
ならい等によりデジタイジングしたデータから、デジタ
イジングしたモデルの反転形状を荒加工するNCデータ
を作成する方法は既に公知である。
イジングしたモデルの反転形状を荒加工するNCデータ
を作成する方法は既に公知である。
従来から行われている反転形状の加工データを得る方法
は、デジタイジングデータ中に含まれているオフセット
ベクトル、即ち、モデル形状面にトレーサヘッドのスタ
イラスを押圧したとき、その反力として生じる変位量の
オフセットベクトル、を使用するか、または、デジタイ
ジングデータの各座標値からデータ処理して算出したオ
フセットベクトル(法線ベクトル)を用いて、デジタイ
ジングデータに対し所定量のオフセット処理を行って反
転形状データ及び反転形状加工データを作成している。
は、デジタイジングデータ中に含まれているオフセット
ベクトル、即ち、モデル形状面にトレーサヘッドのスタ
イラスを押圧したとき、その反力として生じる変位量の
オフセットベクトル、を使用するか、または、デジタイ
ジングデータの各座標値からデータ処理して算出したオ
フセットベクトル(法線ベクトル)を用いて、デジタイ
ジングデータに対し所定量のオフセット処理を行って反
転形状データ及び反転形状加工データを作成している。
第5図は、デジタイジング装置、またはデジタイジング
装置によって得られたデジタイジングデータから自動プ
ログラミング装置等によって反転形状加工データを作成
する従来方法の処理フローチャートである。
装置によって得られたデジタイジングデータから自動プ
ログラミング装置等によって反転形状加工データを作成
する従来方法の処理フローチャートである。
まず、モデル面をならい、デジタイジングを行ないデジ
タイジングデータを得る(ステップ200)。第6図は
モデル面MDLをならい、デジタイジングする説明図で
あり、スタイラスSTLをX軸方向に所定のならい速度
で移動させると共に、Z軸方向にモデルMDLに沿って
上下させ、所定時間毎に或いは設定値が許容値を越える
毎にスタイラスの中心位置の三次元位置データ(座標値
)を取り込んで記憶する。そして、ならい範囲の境界に
到達した時にY軸方向に所定量ビックフィードし、以後
同様に表面ならいを行いながら、スタイラスSTLの位
置を監視すると共にその位置データを取り込んでモデル
MDL面をデジタイジングし、デジタイジングデータを
得る。このデジタイジングデータは(第6図破線DL上
のデータ)はスタイラスSTLの中心座標位置の軌跡デ
ータであり、スタイラスSTLの半径r分オフセットベ
クトル(モデルMDLの面の法線ベクトル)のプラス方
向(モデルMDLの面からスタイラス中心方向)にモデ
ルMDLの面からオフセットされているデータである。
タイジングデータを得る(ステップ200)。第6図は
モデル面MDLをならい、デジタイジングする説明図で
あり、スタイラスSTLをX軸方向に所定のならい速度
で移動させると共に、Z軸方向にモデルMDLに沿って
上下させ、所定時間毎に或いは設定値が許容値を越える
毎にスタイラスの中心位置の三次元位置データ(座標値
)を取り込んで記憶する。そして、ならい範囲の境界に
到達した時にY軸方向に所定量ビックフィードし、以後
同様に表面ならいを行いながら、スタイラスSTLの位
置を監視すると共にその位置データを取り込んでモデル
MDL面をデジタイジングし、デジタイジングデータを
得る。このデジタイジングデータは(第6図破線DL上
のデータ)はスタイラスSTLの中心座標位置の軌跡デ
ータであり、スタイラスSTLの半径r分オフセットベ
クトル(モデルMDLの面の法線ベクトル)のプラス方
向(モデルMDLの面からスタイラス中心方向)にモデ
ルMDLの面からオフセットされているデータである。
そこで、デジタイジングデータ中に含まれるオフセット
ベクトルまたはデジタイジングデータの座標位置から算
出されるオフセットベクトルを用いてスタイラスSTL
の半径分、オフセットベクトルのマイナス方向に該デジ
タイジングデータをシフトさせ、形状データ(モデルM
DLの面データ)を得る(ステップ201)。次に、反
転形状データを得るために座標変換を行う。即ち、ミラ
ーイメージ処理を行って形状データ(モデルMDLの面
データ)を反転させ、第7図に示すようにモデルMDL
を反転した面RMDLの反転形状データを得る(ステッ
プ202)。
ベクトルまたはデジタイジングデータの座標位置から算
出されるオフセットベクトルを用いてスタイラスSTL
の半径分、オフセットベクトルのマイナス方向に該デジ
タイジングデータをシフトさせ、形状データ(モデルM
DLの面データ)を得る(ステップ201)。次に、反
転形状データを得るために座標変換を行う。即ち、ミラ
ーイメージ処理を行って形状データ(モデルMDLの面
データ)を反転させ、第7図に示すようにモデルMDL
を反転した面RMDLの反転形状データを得る(ステッ
プ202)。
次に、該反転形状(RMDL)をワークに加工しようと
するとき、ワークと工具が干渉して工具の破損や切り過
ぎ等が生じないか検討する干渉チェックを行うために使
用する反転形状の面データを作成する。なお、この干渉
チェック方法及び面データの作成方法は、既に本出願人
によって提案されている(特願昭62−108582号
、特願昭63−229346号参照)。
するとき、ワークと工具が干渉して工具の破損や切り過
ぎ等が生じないか検討する干渉チェックを行うために使
用する反転形状の面データを作成する。なお、この干渉
チェック方法及び面データの作成方法は、既に本出願人
によって提案されている(特願昭62−108582号
、特願昭63−229346号参照)。
そこで、この提案されている面データ作成方法について
概説する。
概説する。
まず、送り軸をX軸、ならい軸をZ軸、ビックフィード
軸をY軸とすると、X−Y平面におけるならい範囲をX
N+m、YIIlInに分割し、mxn個(7)メツシ
ュMi、j (i=1〜m、j=1”−n)を作り、
各メツシュM i、j中でデジタイジングされたZ軸の
値が最大なものを求め、各メツシュM i、jをこの最
大の2軸座標値を代表値としてこの代表点のZ軸座標値
と同一座標としたメツシュ面S i、jを作成する。こ
うして、全メツシュM i、jに対しメツシュ面S i
、jが得られれば、(反転)形状を近似した面データが
得られる。この面データ作成処理が第5図中のステップ
203の処理である。
軸をY軸とすると、X−Y平面におけるならい範囲をX
N+m、YIIlInに分割し、mxn個(7)メツシ
ュMi、j (i=1〜m、j=1”−n)を作り、
各メツシュM i、j中でデジタイジングされたZ軸の
値が最大なものを求め、各メツシュM i、jをこの最
大の2軸座標値を代表値としてこの代表点のZ軸座標値
と同一座標としたメツシュ面S i、jを作成する。こ
うして、全メツシュM i、jに対しメツシュ面S i
、jが得られれば、(反転)形状を近似した面データが
得られる。この面データ作成処理が第5図中のステップ
203の処理である。
次に、ステップ202で得られた反転形状データに対し
、オフセットベクトルを用いて工具TLの半径R分、オ
フセットベクトルプラス方向に該反転形状データの座標
値を移動させ(ステップ204)、次に工具径弁の干渉
チェックを行って反転形状加工データを得る(ステップ
205)。
、オフセットベクトルを用いて工具TLの半径R分、オ
フセットベクトルプラス方向に該反転形状データの座標
値を移動させ(ステップ204)、次に工具径弁の干渉
チェックを行って反転形状加工データを得る(ステップ
205)。
この干渉チェックは、ステップ203で作成された面デ
ータを用いて行われるもので、前述した特願昭62−1
08582号、特願昭63−229346号に詳しく述
べられているので、ここでは簡単に概説する。
ータを用いて行われるもので、前述した特願昭62−1
08582号、特願昭63−229346号に詳しく述
べられているので、ここでは簡単に概説する。
第8図は、反転形状面(RMDL)と該反転形状データ
からステップ203で作成された面データが示す形状近
似面S i、j及び干渉チェックの説明図であり、x−
7拡大断面図を示している。反転形状データに対し、ス
テップ204で工具半径R分のオフセクト処理を行い、
工具TLの中心が第8図Pの位置にあるとする。このと
き、工具下りとメツシュ面が干渉しないか、即ち、中心
Pの半径Rの球面と各メツシュ面が交差しないか判断し
、交差する場合には工具位置をプラス7方向に移動させ
干渉が生じないようにする。第8図の例では、工具中心
位ffPをプラス2方向にdだけ移動させ工具中心位置
P′としている。また、第9図に示すように、工具TL
がポイントPiからポイントp i+1に移動するとき
工具TLと8791面が交差し、ワークを切り過ぎるお
それがある場合にも、補正を行い、ポイントPiからp
i+1間を複数に分割し、各分割点P1.P2・・・
・・・をそれぞれ工具TLとメツシュ面(Si÷1.j
)が干渉しないようにZ軸プラス方向に移動させ、工具
中心点PI’ 、P2’ ・・・・・・とじて工具経路
を求める(なお、これら干渉チェック方法の詳細は前述
の特願昭62−108582号、特願昭63−2293
46号を参照)。
からステップ203で作成された面データが示す形状近
似面S i、j及び干渉チェックの説明図であり、x−
7拡大断面図を示している。反転形状データに対し、ス
テップ204で工具半径R分のオフセクト処理を行い、
工具TLの中心が第8図Pの位置にあるとする。このと
き、工具下りとメツシュ面が干渉しないか、即ち、中心
Pの半径Rの球面と各メツシュ面が交差しないか判断し
、交差する場合には工具位置をプラス7方向に移動させ
干渉が生じないようにする。第8図の例では、工具中心
位ffPをプラス2方向にdだけ移動させ工具中心位置
P′としている。また、第9図に示すように、工具TL
がポイントPiからポイントp i+1に移動するとき
工具TLと8791面が交差し、ワークを切り過ぎるお
それがある場合にも、補正を行い、ポイントPiからp
i+1間を複数に分割し、各分割点P1.P2・・・
・・・をそれぞれ工具TLとメツシュ面(Si÷1.j
)が干渉しないようにZ軸プラス方向に移動させ、工具
中心点PI’ 、P2’ ・・・・・・とじて工具経路
を求める(なお、これら干渉チェック方法の詳細は前述
の特願昭62−108582号、特願昭63−2293
46号を参照)。
かくして、干渉チェックがか行われ、工具とワークが干
渉しない反転形状の荒加工NCデータが得られる。
渉しない反転形状の荒加工NCデータが得られる。
発明が解決しようとする課題
上述した従来の反転形状加工データを作成する方法では
、ステップ201、ざらにはステップ204でオフセッ
トベクトルを使用している。このオフセットベクトルは
、デジタイジングデータから得られるか、または、デジ
タイジングデータの座標値から算出して求めるものであ
り、精度が低い。
、ステップ201、ざらにはステップ204でオフセッ
トベクトルを使用している。このオフセットベクトルは
、デジタイジングデータから得られるか、または、デジ
タイジングデータの座標値から算出して求めるものであ
り、精度が低い。
デジタイジング中に含まれるオフセットベクトルは、ト
レーサヘッドをモデル面に押圧する力の反力によって検
出するものであるから、摩擦等の影響やモデル面の精度
等が影響し、全体的に精度の低いものしか得られない。
レーサヘッドをモデル面に押圧する力の反力によって検
出するものであるから、摩擦等の影響やモデル面の精度
等が影響し、全体的に精度の低いものしか得られない。
また、デジタイジングデータの座標値から算出したオフ
セットベクトルは、不連続な曲面融合部分で精度が低い
。そのため、これら精度が低いオフセットベクトルを用
いて反転形状加工データを作成する従来の方法では、十
分な寸法精度が得られない部分が存在する加工データし
か得られないという欠点があった。
セットベクトルは、不連続な曲面融合部分で精度が低い
。そのため、これら精度が低いオフセットベクトルを用
いて反転形状加工データを作成する従来の方法では、十
分な寸法精度が得られない部分が存在する加工データし
か得られないという欠点があった。
そこで、本発明の目的は、オフセットベクトルを用いず
に反転形状を荒加工するNOデータを作成する方法を提
供することにある。
に反転形状を荒加工するNOデータを作成する方法を提
供することにある。
課題を解決するための手段
デジタイジングしたモデル形状の反転形状を加工するN
C加工データを作成する方法において、本発明は、デジ
タイジングデータの軌跡の面データを作成し、上記デジ
タイジングデータの面データに対し、スタイラス半径分
の干渉チェック処理を行って干渉しないようにデジタイ
ジングデータをならい軸マイナス方向に補正し補正形状
データを作成し、上記補正形状データを反転のための座
標変換を行い反転形状データを作成し、上記反転形状デ
ータの軌跡に対し面データを作成し、上記反転形状の面
データに対し、工具半径分の干渉チェック処理を行って
工具と面データが干渉しないよう反転形状データをなら
い軸プラス方向に補正して反転形状のNC加工データを
作成することによって、オフセットベクトルを使用する
ことなく、反転形状加工データを作成し、上記課題を解
決した。
C加工データを作成する方法において、本発明は、デジ
タイジングデータの軌跡の面データを作成し、上記デジ
タイジングデータの面データに対し、スタイラス半径分
の干渉チェック処理を行って干渉しないようにデジタイ
ジングデータをならい軸マイナス方向に補正し補正形状
データを作成し、上記補正形状データを反転のための座
標変換を行い反転形状データを作成し、上記反転形状デ
ータの軌跡に対し面データを作成し、上記反転形状の面
データに対し、工具半径分の干渉チェック処理を行って
工具と面データが干渉しないよう反転形状データをなら
い軸プラス方向に補正して反転形状のNC加工データを
作成することによって、オフセットベクトルを使用する
ことなく、反転形状加工データを作成し、上記課題を解
決した。
作 用
デジタイジングデータに対して、該デジタイジングデー
タの軌跡によって生まれる面を近似する面データを、従
来と同様な方法で作成する。そして、この面データに対
し、スタイラス半径分の干渉チェックを行い、干渉が生
じないようにデジタイジングデータをならい軸マイナス
方向に補正し、補正形状データを作成する。この補正形
状データはデジタイジングしたモデル形状と路間−の形
状データとなる。次に、ミラーイメージ処理等を行って
補正形状データの反転形状データを作成し、この反転形
状データに対し、同様に反転形状を近似する面データを
作成する。次に、反転形状面データに対し、工具半径分
の干渉チェックを行い、工具と反転形状面データ(近似
面)が干渉し・ないように反転形状データをならい軸プ
ラス方向に移動させて補正し、反転形状のNC加工デー
タを作成する。
タの軌跡によって生まれる面を近似する面データを、従
来と同様な方法で作成する。そして、この面データに対
し、スタイラス半径分の干渉チェックを行い、干渉が生
じないようにデジタイジングデータをならい軸マイナス
方向に補正し、補正形状データを作成する。この補正形
状データはデジタイジングしたモデル形状と路間−の形
状データとなる。次に、ミラーイメージ処理等を行って
補正形状データの反転形状データを作成し、この反転形
状データに対し、同様に反転形状を近似する面データを
作成する。次に、反転形状面データに対し、工具半径分
の干渉チェックを行い、工具と反転形状面データ(近似
面)が干渉し・ないように反転形状データをならい軸プ
ラス方向に移動させて補正し、反転形状のNC加工デー
タを作成する。
このように、干渉チェック処理を使用することにより、
オフセットベクトルを使用せず反転形状の荒加工のNC
加工データーが得られる。
オフセットベクトルを使用せず反転形状の荒加工のNC
加工データーが得られる。
実施例
第3図は本発明を実施する装置(デジタイザ)のブロッ
ク図である。
ク図である。
1はデジタイザであり、ならい制御しながらトレーサヘ
ッドの現在位置を取り込んでデジタイジングする機能と
共に、NGデータ作成機能並びに工具干渉チェック機能
を備え、プロセッサ1a。
ッドの現在位置を取り込んでデジタイジングする機能と
共に、NGデータ作成機能並びに工具干渉チェック機能
を備え、プロセッサ1a。
制御プログラムを記憶するROM1b、デジタイジング
した位置データを記憶するRAM1c、ワーキングメモ
リ1dを有している。
した位置データを記憶するRAM1c、ワーキングメモ
リ1dを有している。
2は操作盤であり、各種操作信号を入力すると共に、な
らい条件、ならい範囲、ならい方法、メツシュM (i
、j)の縦横寸法、工具半径Rを設定する機能を有して
いる。
らい条件、ならい範囲、ならい方法、メツシュM (i
、j)の縦横寸法、工具半径Rを設定する機能を有して
いる。
10X、10Y、10Zはデジタイf1から指令された
各軸方向の速度データ(デジタル値)をアナログ速度信
号vx、vy、vzに変換するOA変換器、11X、1
1Y、11ZLtX軸、Y軸、Z軸サーボ回路、12X
〜122はそれぞれ11に、 Y軸、2軸モータ、13
X〜13Zはそれぞれ対応するモータが所定角度回転す
る毎に1個のパルスXf、Yf、Zfを発生するパルス
発生器、14はパルスXf、Yf、Zfをそれぞれ移動
方向に応じて可逆計数して各軸現在位置を記憶する現在
位置レジスタである。なお、THはトレーサヘッド、S
TLはスタイラス、MDLはモデルである。
各軸方向の速度データ(デジタル値)をアナログ速度信
号vx、vy、vzに変換するOA変換器、11X、1
1Y、11ZLtX軸、Y軸、Z軸サーボ回路、12X
〜122はそれぞれ11に、 Y軸、2軸モータ、13
X〜13Zはそれぞれ対応するモータが所定角度回転す
る毎に1個のパルスXf、Yf、Zfを発生するパルス
発生器、14はパルスXf、Yf、Zfをそれぞれ移動
方向に応じて可逆計数して各軸現在位置を記憶する現在
位置レジスタである。なお、THはトレーサヘッド、S
TLはスタイラス、MDLはモデルである。
第4図は本発明の荒加工用NCデータ作成処理のフロー
チャートである。以下、第4図のフローチャートに従っ
て、本発明にかかる荒加工用NCデータ作成処理を説明
する。なお、ならい範囲及び干渉チェックのための各メ
ツシュの縦横寸法等は既に操作盤2(第3図参照)から
入力されてあり、該ならい範囲はmxn個のメツシュM
i、j(i=1〜m、j−1〜n)に分割されである
ものとする。さらに、工具移動中における干渉チェック
を行うか否か判別する基準となるポイント間の距111
mも既に操作盤2から入力されであるものとする。
チャートである。以下、第4図のフローチャートに従っ
て、本発明にかかる荒加工用NCデータ作成処理を説明
する。なお、ならい範囲及び干渉チェックのための各メ
ツシュの縦横寸法等は既に操作盤2(第3図参照)から
入力されてあり、該ならい範囲はmxn個のメツシュM
i、j(i=1〜m、j−1〜n)に分割されである
ものとする。さらに、工具移動中における干渉チェック
を行うか否か判別する基準となるポイント間の距111
mも既に操作盤2から入力されであるものとする。
さて、送り軸をX軸、ならい軸をZ軸、ビットフィード
軸をY軸として表面往復ならいを行い、該ならいと並・
行して周知のデジタイジング処理によりスタイラス位置
の座標値を所定時間毎に、或いは設定値が許容値を越え
る毎に取り込んでデジタイジングデータを作成してRA
M1cに記憶する(ステップ100)。
軸をY軸として表面往復ならいを行い、該ならいと並・
行して周知のデジタイジング処理によりスタイラス位置
の座標値を所定時間毎に、或いは設定値が許容値を越え
る毎に取り込んでデジタイジングデータを作成してRA
M1cに記憶する(ステップ100)。
また、デジタイジングデータの作成と並行して各メツシ
ュM (i、j)の代表点を以下の方、法で求めてワー
キングメモリ1dに記憶する。即ち、各メツシュM(i
、j>に対応させて三次元座標値記憶用の記憶域をワー
キングメモリ1dに設けておく。
ュM (i、j)の代表点を以下の方、法で求めてワー
キングメモリ1dに記憶する。即ち、各メツシュM(i
、j>に対応させて三次元座標値記憶用の記憶域をワー
キングメモリ1dに設けておく。
そして、デジタイジング処理により得られるX。
yJ!l1lliiがどのメツシュに属するかチェック
する。
する。
接触位置が属するメツシュM (i、j)が求まれば、
該接触位置がメツシュM (i、j)の最初の位置かチ
ェックし、最初の位置であれば、接触位置の2軸座標値
をメツシュM (+、、+)の記憶域に記憶し、最初の
位置でなければメツシュM (i、j)に対応する記憶
域に記憶されているZ軸座標値と検出した2軸座標値と
を比較し、検出したZ軸座標値が太きいときのみ該Z軸
座標値を記憶域に記憶する。かかる処理をスタイラス位
置データをデジタイジングする毎に実行すれば、各メツ
シュM (i、j>に対応するワーキングメモリ1dの
各記憶域には、メツシュM (i、j)に属するポイン
トのうち最もZ軸座標値の大きなポイントの座標値が記
憶されることになり、各メツシュにおける代表点の高さ
を有する而(メツシュ面という) S (i、j)が得
られ、これらメツシュ面、S(i、j)で近似されるデ
ジタイジングデータの軌跡の面データが得られる(ステ
ップ101)。
該接触位置がメツシュM (i、j)の最初の位置かチ
ェックし、最初の位置であれば、接触位置の2軸座標値
をメツシュM (+、、+)の記憶域に記憶し、最初の
位置でなければメツシュM (i、j)に対応する記憶
域に記憶されているZ軸座標値と検出した2軸座標値と
を比較し、検出したZ軸座標値が太きいときのみ該Z軸
座標値を記憶域に記憶する。かかる処理をスタイラス位
置データをデジタイジングする毎に実行すれば、各メツ
シュM (i、j>に対応するワーキングメモリ1dの
各記憶域には、メツシュM (i、j)に属するポイン
トのうち最もZ軸座標値の大きなポイントの座標値が記
憶されることになり、各メツシュにおける代表点の高さ
を有する而(メツシュ面という) S (i、j)が得
られ、これらメツシュ面、S(i、j)で近似されるデ
ジタイジングデータの軌跡の面データが得られる(ステ
ップ101)。
第1図は、このデジタイジングデータ、デジタイジング
データの面データを作成する方法の説明図であり、x7
平面を示している。モデルMDL面をトレーサヘッドの
スタイラスSTLでデジタイジング処理をすれば、第1
図中DLで示すスタイラスSTLの中心座標位置(デジ
タイジングデータ)の軌跡DLが得られる。そして、こ
の中心座標位@(デジタイジングデータ)の各メツシュ
内での最大のZ軸座標値で代表させる同−Z軸座標値の
メツシュ面S (i、j)を得る。なお、第1図におい
ては、説明を簡単にするためにX7平面を表示している
が、各メツシュM (i、j)のXY平面上における最
大のZ軸座標値におけるメツシュM i、jの面をメツ
シュ面S (i、j)とするものである。
データの面データを作成する方法の説明図であり、x7
平面を示している。モデルMDL面をトレーサヘッドの
スタイラスSTLでデジタイジング処理をすれば、第1
図中DLで示すスタイラスSTLの中心座標位置(デジ
タイジングデータ)の軌跡DLが得られる。そして、こ
の中心座標位@(デジタイジングデータ)の各メツシュ
内での最大のZ軸座標値で代表させる同−Z軸座標値の
メツシュ面S (i、j)を得る。なお、第1図におい
ては、説明を簡単にするためにX7平面を表示している
が、各メツシュM (i、j)のXY平面上における最
大のZ軸座標値におけるメツシュM i、jの面をメツ
シュ面S (i、j)とするものである。
こうして、デジタイジングデータ、デジタイジングデー
タの面データが得られると、次にスタイラス半径分の干
渉チェックを行い、デジタイジングの面データとスタイ
ラスが干渉しないようにデジタイジングデータをZ軸マ
イナス方向に移動させ、補正形状データを得る(ステッ
プ102)。
タの面データが得られると、次にスタイラス半径分の干
渉チェックを行い、デジタイジングの面データとスタイ
ラスが干渉しないようにデジタイジングデータをZ軸マ
イナス方向に移動させ、補正形状データを得る(ステッ
プ102)。
これは、従来から存在する干渉チェック処理を利用して
形状データを得ようとするものである。各メツシュ毎に
該メツシュ内の最大のZ軸座標値を有するデジタイジン
グポイントを代表点として該代表点にスタイラスを置い
たとき、スタイラスとデジタイジングデータの加工面は
当然干渉を起こす。そこで、干渉を行わないようにZ軸
マイナス方向に移動させる。即ち、上記代表点において
、スタイラスSTLの半径rの球面を描き、この球面及
びこの球面の移動面とデジタイジングデータの面データ
である各メツシュ面S (i、j)が交差しない点まで
該代表点の座標値をZ軸マイナス方向に移動させる。そ
うすると、第1図に示すように、モデルMDLの面と路
間−の形状データ、即ち、補正形状データMDL’が得
られる。なお、従来は第5図に示すステップ201でオ
フセットベクトルマイナス方向にスタイラス半径分だけ
デジタイジングデータをオフセットさせて形状データを
求めていたが、オフセットベクトルが正確であれば、こ
の方法によった方が正確な形状データが得られるが、オ
フセットベクトルが不正確であることから、むしろ本発
明のように、既に存在する干渉チェック処理を利用して
形状データと路間−の補正形状データMDL’ を得る
方がより正確な形状データが得られる。
形状データを得ようとするものである。各メツシュ毎に
該メツシュ内の最大のZ軸座標値を有するデジタイジン
グポイントを代表点として該代表点にスタイラスを置い
たとき、スタイラスとデジタイジングデータの加工面は
当然干渉を起こす。そこで、干渉を行わないようにZ軸
マイナス方向に移動させる。即ち、上記代表点において
、スタイラスSTLの半径rの球面を描き、この球面及
びこの球面の移動面とデジタイジングデータの面データ
である各メツシュ面S (i、j)が交差しない点まで
該代表点の座標値をZ軸マイナス方向に移動させる。そ
うすると、第1図に示すように、モデルMDLの面と路
間−の形状データ、即ち、補正形状データMDL’が得
られる。なお、従来は第5図に示すステップ201でオ
フセットベクトルマイナス方向にスタイラス半径分だけ
デジタイジングデータをオフセットさせて形状データを
求めていたが、オフセットベクトルが正確であれば、こ
の方法によった方が正確な形状データが得られるが、オ
フセットベクトルが不正確であることから、むしろ本発
明のように、既に存在する干渉チェック処理を利用して
形状データと路間−の補正形状データMDL’ を得る
方がより正確な形状データが得られる。
次に、得られ°た補正された形状データに対し、反転の
ための座標変換、即ち、ミラーイメージ処理を行って反
転形状データRMDL’ を得る(ステップ103)。
ための座標変換、即ち、ミラーイメージ処理を行って反
転形状データRMDL’ を得る(ステップ103)。
こうして、得られた反転形状データRMDL’に対する
面データS’ (i、j)を前述同様の処理で作成する
(ステップ104)(第2図参照)。そして、工具半径
R分で前述同様の干渉チェックを行い、工具TLと反転
形状の面データS’ (i、j)が干渉しないように2
軸プラス方向に反転形状データを移動させ反転形状加工
データ(反転形状加工データの軌跡TCPL)を得る(
ステップ105)。
面データS’ (i、j)を前述同様の処理で作成する
(ステップ104)(第2図参照)。そして、工具半径
R分で前述同様の干渉チェックを行い、工具TLと反転
形状の面データS’ (i、j)が干渉しないように2
軸プラス方向に反転形状データを移動させ反転形状加工
データ(反転形状加工データの軌跡TCPL)を得る(
ステップ105)。
なお、上記実施例においては、デジタイザ内で反転形状
加工データを作成したが、デジタイザで作成したデジタ
イジングデータを自動プログラミング装置に入力し、自
動プログラミング装置によって上記処理と同様な処理を
行わせて反転形状加工データを得るようにしてもよい。
加工データを作成したが、デジタイザで作成したデジタ
イジングデータを自動プログラミング装置に入力し、自
動プログラミング装置によって上記処理と同様な処理を
行わせて反転形状加工データを得るようにしてもよい。
発明の効果
本発明においては、不正確なオフセットベクトルを使用
することなく、干渉チェック処理を利用してデジタイジ
ングしたモデルの反転形状の荒加工用のNGデータが得
られるので、オフセットベクトルを使用したときよりも
より正確な反転形状NC加工データが得られる。
することなく、干渉チェック処理を利用してデジタイジ
ングしたモデルの反転形状の荒加工用のNGデータが得
られるので、オフセットベクトルを使用したときよりも
より正確な反転形状NC加工データが得られる。
第1図は本発明の一実施例におけるデジタイジングデー
タの軌跡の面データを作成する方法の説明図、第2図は
同実施例における反転形状の加工データを作成する方法
の説明図、第3図は同実施例を実施する装置(デジタイ
ザ)のブロック図、第4図は同装置による反転形状加工
データを作成する処理フローチャート、第5図は従来か
ら行われていた反転形状加工データの作成方法の処理フ
ローチャート、第6図はモデル面をならいデジタイジン
グを行う説明図、第7図は反転形状データの説明図、第
8図、第9図は干渉チェックの説明図である。 STL・・・スタイラス、TL・・・工具、MDL・・
・モデル、MDL’・・・補正形状データ、RMDL’
・・・反転補正形状データ、OL・・・デジタイジン
グデータの軌跡、TCPL・・・反転形状加工データの
軌跡、r・・・スタイラスの半径、 R・・バエ真の半径。 第 第4 国 第 第 5(i−1、j] 第 因 Pi+i S(i、 j )
タの軌跡の面データを作成する方法の説明図、第2図は
同実施例における反転形状の加工データを作成する方法
の説明図、第3図は同実施例を実施する装置(デジタイ
ザ)のブロック図、第4図は同装置による反転形状加工
データを作成する処理フローチャート、第5図は従来か
ら行われていた反転形状加工データの作成方法の処理フ
ローチャート、第6図はモデル面をならいデジタイジン
グを行う説明図、第7図は反転形状データの説明図、第
8図、第9図は干渉チェックの説明図である。 STL・・・スタイラス、TL・・・工具、MDL・・
・モデル、MDL’・・・補正形状データ、RMDL’
・・・反転補正形状データ、OL・・・デジタイジン
グデータの軌跡、TCPL・・・反転形状加工データの
軌跡、r・・・スタイラスの半径、 R・・バエ真の半径。 第 第4 国 第 第 5(i−1、j] 第 因 Pi+i S(i、 j )
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 デジタイジングしたモデル形状の反転形状を加工するN
C加工データを作成する方法において、デジタイジング
データの軌跡の面データを作成し、 上記デジタイジングデータの面データに対し、スタイラ
ス半径分の干渉チェック処理を行つて干渉しないように
デジタイジングデータをならい軸マイナス方向に補正し
補正形状データを作成し、上記補正形状データを反転の
ための座標変換を行い反転形状データを作成し、 上記反転形状データの軌跡に対し面データを作成し、 上記反転形状の面データに対し、工具半径分の干渉チェ
ック処理を行つて工具と面データが干渉しないよう反転
形状データをならい軸プラス方向に補正して反転形状の
NC加工データを作成することを特徴とする反転形状加
工データ作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4177689A JPH02222005A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 反転形状加工データ作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4177689A JPH02222005A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 反転形状加工データ作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02222005A true JPH02222005A (ja) | 1990-09-04 |
Family
ID=12617777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4177689A Pending JPH02222005A (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 反転形状加工データ作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02222005A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6468808A (en) * | 1987-09-10 | 1989-03-14 | Aida Eng Ltd | Working method for injection mold |
-
1989
- 1989-02-23 JP JP4177689A patent/JPH02222005A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6468808A (en) * | 1987-09-10 | 1989-03-14 | Aida Eng Ltd | Working method for injection mold |
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