JPH02223015A - 磁気ディスク及びその製造方法 - Google Patents
磁気ディスク及びその製造方法Info
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- JPH02223015A JPH02223015A JP4221889A JP4221889A JPH02223015A JP H02223015 A JPH02223015 A JP H02223015A JP 4221889 A JP4221889 A JP 4221889A JP 4221889 A JP4221889 A JP 4221889A JP H02223015 A JPH02223015 A JP H02223015A
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- Japan
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- magnetic disk
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
この発明は、磁気ディスク装置に搭載される磁気ディス
ク及び製造方法に関するものである。
ク及び製造方法に関するものである。
［従来の技術］
コンピュータの外部記憶装置の一つである固定磁気ディ
スク装置は、主に磁気ディスクと浮動ヘッドスライダで
構成され、側光ば第２図のように三矢保永「磁気ディス
ク装置における超精密技術」日本機械学会誌ＶＯＬ、
８７． Ｎｏ、 ７９１． Ｐ、 ７９．昭和５９年
１０月に示されている。図において（５）は基板に形成
された磁気記録媒体層に情報が記録される磁気ディスク
、（６〉は磁気ディスク（５）に情報を書込んだり読出
したりする浮動ヘッドスライダ、（７）は浮動ヘッドス
ライダ（６）を磁気ディスク〈５〉に押し付けるサスベ
ンジ目ン、（８）は磁気ディスク（５）を図中矢印方向
に回転させるスピンドルである。
スク装置は、主に磁気ディスクと浮動ヘッドスライダで
構成され、側光ば第２図のように三矢保永「磁気ディス
ク装置における超精密技術」日本機械学会誌ＶＯＬ、
８７． Ｎｏ、 ７９１． Ｐ、 ７９．昭和５９年
１０月に示されている。図において（５）は基板に形成
された磁気記録媒体層に情報が記録される磁気ディスク
、（６〉は磁気ディスク（５）に情報を書込んだり読出
したりする浮動ヘッドスライダ、（７）は浮動ヘッドス
ライダ（６）を磁気ディスク〈５〉に押し付けるサスベ
ンジ目ン、（８）は磁気ディスク（５）を図中矢印方向
に回転させるスピンドルである。
このように構成された磁気ディスク装置において、磁気
ディスクに情報を書込んだり読出したりする場合、磁気
ディスクを矢印方向に高速回転（例えば３６００ ｒｐ
ｍ）させる。 この回転により生じる空気流で、浮動ヘ
ッドスライダ（６）は空気軸受けの原理で、磁気ディス
ク（５〉の表面よりサブミクロンの隙間を保って浮上す
る。すなわち、サスベンジーン（７）の押付力と空気流
の押上刃が釣り合って、浮動ヘッドスライダ（６）は安
定浮上する。
ディスクに情報を書込んだり読出したりする場合、磁気
ディスクを矢印方向に高速回転（例えば３６００ ｒｐ
ｍ）させる。 この回転により生じる空気流で、浮動ヘ
ッドスライダ（６）は空気軸受けの原理で、磁気ディス
ク（５〉の表面よりサブミクロンの隙間を保って浮上す
る。すなわち、サスベンジーン（７）の押付力と空気流
の押上刃が釣り合って、浮動ヘッドスライダ（６）は安
定浮上する。
磁気ディスク装置を使用しないときは、スピンドル（８
〉の回転は停止し、浮動ヘッドスライダ（６）はサスベ
ンジ日ン（７）により押し付けられて磁気ディスクク５
）上に接触した状態となる。第２図（０）は磁気ディス
ク装置の側面図で、（ｂ）は稼働時（磁気ディスクは回
転している）、（Ｃ）は停止時（磁気ディスクは静止し
ている）をそれぞれ示す浮動ヘッドスライダ付近の拡大
図である。
〉の回転は停止し、浮動ヘッドスライダ（６）はサスベ
ンジ日ン（７）により押し付けられて磁気ディスクク５
）上に接触した状態となる。第２図（０）は磁気ディス
ク装置の側面図で、（ｂ）は稼働時（磁気ディスクは回
転している）、（Ｃ）は停止時（磁気ディスクは静止し
ている）をそれぞれ示す浮動ヘッドスライダ付近の拡大
図である。
磁気ディスク装置は以上のような構成を有するため、磁
気ディスクの始動時には浮動ヘッドスライダは磁気ディ
スク表面を擦りながら浮上し、停止時には同様に擦りな
がら着陸する。この動作をコンタクト令スタート・スト
ップ（ＣＳ Ｓ）という。Ｃ８Ｓ方式の磁気ディスクで
は、通常表面粗さはＲｚ５００Å以上に仕上げられてい
る。これは停止時に浮動ヘッドスライダと磁気ディスク
との吸着を防ぐためである。例えば塗布型ディスクでは
、塗布膜に含まれたアルミナ粒子が突起上にとび出して
おり、通常表面粗さはＲＺ＞１０００人である（用久保
洋−はか：塗布型磁気ディスクのＣ８／Ｓ時のへッドク
ラッシ４発生過程の検討、精密工学会誌、 ５４−５
． Ｐ、７３（１９８８））。
気ディスクの始動時には浮動ヘッドスライダは磁気ディ
スク表面を擦りながら浮上し、停止時には同様に擦りな
がら着陸する。この動作をコンタクト令スタート・スト
ップ（ＣＳ Ｓ）という。Ｃ８Ｓ方式の磁気ディスクで
は、通常表面粗さはＲｚ５００Å以上に仕上げられてい
る。これは停止時に浮動ヘッドスライダと磁気ディスク
との吸着を防ぐためである。例えば塗布型ディスクでは
、塗布膜に含まれたアルミナ粒子が突起上にとび出して
おり、通常表面粗さはＲＺ＞１０００人である（用久保
洋−はか：塗布型磁気ディスクのＣ８／Ｓ時のへッドク
ラッシ４発生過程の検討、精密工学会誌、 ５４−５
． Ｐ、７３（１９８８））。
また、薄膜磁気ディスクでは媒体を成膜する前に基板に
研磨テープで同心円状に溝をつくるが、基板の表面粗さ
Ｒｚ５００〜１０００人に仕上げると、基板の上に媒体
及び保護膜をつけた後も表面粗さは５０ＯＮ１０００人
となる（例えばＥ、 Ｍ、 Ｒｏｓｓｉ、 ｅｔ ａｌ
：Ｖａｃｕｕｍ−ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ ｔｈｉｎ−＊
ｅｔａｌ−ｆｉ１ｍ ｄｉｓｋ。
研磨テープで同心円状に溝をつくるが、基板の表面粗さ
Ｒｚ５００〜１０００人に仕上げると、基板の上に媒体
及び保護膜をつけた後も表面粗さは５０ＯＮ１０００人
となる（例えばＥ、 Ｍ、 Ｒｏｓｓｉ、 ｅｔ ａｌ
：Ｖａｃｕｕｍ−ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ ｔｈｉｎ−＊
ｅｔａｌ−ｆｉ１ｍ ｄｉｓｋ。
Ｊ、 Ａｐｐｌ、 Ｐｈｙｓ、 ５５（６＞、 １５１
１ａｒｃｈ ｐ、 ２２５４＜１９８４））。
１ａｒｃｈ ｐ、 ２２５４＜１９８４））。
［発明が解決しようとする課題］
磁気ディスク装置では媒体の記録密度を上げようとする
と、浮動ヘッドスライダと磁気ディスクの間隔を小さく
する必要があり、現在、その間隔は ０．２μｍ以下の
ものが求められている。これに対し、従来の磁気ディス
クは、上記のように表面粗さが Ｒｚ５００Å以上に構
成されているため、間隔を少なくすると、間隔に対する
°表面粗さの割合が大きいため、浮動へ９トスライダと
磁気ディスクが接触したり、表面粗さのため電磁変換特
性が劣化する。また、磁気ディスクの表面粗さを小さく
すると、磁気ディスク装置が停止している時に、浮動ヘ
ッドスライダと磁気デ（スフが吸着し、磁気ディスクが
回転を始めても浮動ヘッドスライダが浮上できず、浮動
ヘッドスライダが破損する。
と、浮動ヘッドスライダと磁気ディスクの間隔を小さく
する必要があり、現在、その間隔は ０．２μｍ以下の
ものが求められている。これに対し、従来の磁気ディス
クは、上記のように表面粗さが Ｒｚ５００Å以上に構
成されているため、間隔を少なくすると、間隔に対する
°表面粗さの割合が大きいため、浮動へ９トスライダと
磁気ディスクが接触したり、表面粗さのため電磁変換特
性が劣化する。また、磁気ディスクの表面粗さを小さく
すると、磁気ディスク装置が停止している時に、浮動ヘ
ッドスライダと磁気デ（スフが吸着し、磁気ディスクが
回転を始めても浮動ヘッドスライダが浮上できず、浮動
ヘッドスライダが破損する。
また、吸着が解除されても磁気ディスクと浮動ヘッドス
ライダ間の摩擦係数が大きいため、磁気ディスクが回転
を始め、或は停止する時に浮動ヘッドスライダが磁気デ
ィスク表面に傷を付けるという課題があった。
ライダ間の摩擦係数が大きいため、磁気ディスクが回転
を始め、或は停止する時に浮動ヘッドスライダが磁気デ
ィスク表面に傷を付けるという課題があった。
二の発明は、上記のような課題を解消するためになされ
たもので、ディスクの記録密度を上げるため、浮動ヘッ
ドスライダと磁気ディスクの間隔を小さくしても、浮動
ヘッドスライダと磁気デイラフが接触したり、表面粗さ
のために電磁変換特性が劣化したりすることがなく、ま
た、停止時に浮動ヘッドスライダと磁気ディスクの吸着
のない磁気ディスクを得ることを目的とする。
たもので、ディスクの記録密度を上げるため、浮動ヘッ
ドスライダと磁気ディスクの間隔を小さくしても、浮動
ヘッドスライダと磁気デイラフが接触したり、表面粗さ
のために電磁変換特性が劣化したりすることがなく、ま
た、停止時に浮動ヘッドスライダと磁気ディスクの吸着
のない磁気ディスクを得ることを目的とする。
［課題を解決するための手段］
この発明に係わる磁気ディスクは、情報を書込み読出し
を行うヘッドスライダが、接触摺動、又は停止する待避
ゾーンと、情報を記録するデータゾーンとを有し、上記
待避ゾーンの表面粗さを、上記データゾーンのそれより
も粗くし、上記待避ゾーンとデータゾーンのそれぞれに
おける表面の凹凸の凸部の頂上の高さを均一にし、かつ
、上記待避ゾーンとデータゾーンの表面の凹凸の凸部の
頂上の高さを一致させたものである。
を行うヘッドスライダが、接触摺動、又は停止する待避
ゾーンと、情報を記録するデータゾーンとを有し、上記
待避ゾーンの表面粗さを、上記データゾーンのそれより
も粗くし、上記待避ゾーンとデータゾーンのそれぞれに
おける表面の凹凸の凸部の頂上の高さを均一にし、かつ
、上記待避ゾーンとデータゾーンの表面の凹凸の凸部の
頂上の高さを一致させたものである。
また、情報を書込み読出しを行う浮動ヘッドスライダが
、接触摺動、又は停止する待避ゾーンと、情報を記録す
るデータゾーンとを有し、上記待避ゾーンの表面粗さを
、上記データゾーンのそれよりも粗くなるように加工し
た後、遊離砥粒ポリッシング加工により、上記待避ゾー
ンとデータゾーンのそれぞれにおける表面の凹凸の凸部
の頂上の高さを均一にし、かつ、上記待避ゾーンとデー
タゾーンの表面の凹凸の凸部の頂上の高さを一致させた
て製造した。
、接触摺動、又は停止する待避ゾーンと、情報を記録す
るデータゾーンとを有し、上記待避ゾーンの表面粗さを
、上記データゾーンのそれよりも粗くなるように加工し
た後、遊離砥粒ポリッシング加工により、上記待避ゾー
ンとデータゾーンのそれぞれにおける表面の凹凸の凸部
の頂上の高さを均一にし、かつ、上記待避ゾーンとデー
タゾーンの表面の凹凸の凸部の頂上の高さを一致させた
て製造した。
［作 用］
この発明における磁気ディスクは、浮動へフドスライ、
ダが、接触摺動、又は停止する待避ゾーンと、情報を記
録するデータゾーンとを有し、上記待避ゾーンの表面粗
さを、上記データゾーンのそれよりも粗くすることによ
り、磁気ディスク装置停止時のヘッドスライダと磁気デ
ィスクの吸着を防止することができる。また、浮動ヘッ
ドスライダが実際に浮上し、情報を読み書きする部分（
データゾーン）においては、表面粗さを小さくし、表面
粗さによる記録再生への悪影響を少なくするとともに、
データゾーン浮上時における浮動ヘッドスライダと磁気
ディスクの接触を防止する二とができる。さらに、待避
ゾーンとデータゾーンとの表面高さを一致させることに
より、浮上中のヘッドスライダが待避ゾーンからデータ
ゾーン、データゾーンから待避ゾーンに移動するときの
ヘッドスライダの浮上状態に擾乱を与光ないようにする
ことができる。
ダが、接触摺動、又は停止する待避ゾーンと、情報を記
録するデータゾーンとを有し、上記待避ゾーンの表面粗
さを、上記データゾーンのそれよりも粗くすることによ
り、磁気ディスク装置停止時のヘッドスライダと磁気デ
ィスクの吸着を防止することができる。また、浮動ヘッ
ドスライダが実際に浮上し、情報を読み書きする部分（
データゾーン）においては、表面粗さを小さくし、表面
粗さによる記録再生への悪影響を少なくするとともに、
データゾーン浮上時における浮動ヘッドスライダと磁気
ディスクの接触を防止する二とができる。さらに、待避
ゾーンとデータゾーンとの表面高さを一致させることに
より、浮上中のヘッドスライダが待避ゾーンからデータ
ゾーン、データゾーンから待避ゾーンに移動するときの
ヘッドスライダの浮上状態に擾乱を与光ないようにする
ことができる。
また、磁気ディスク基板を加工する際、待避ゾーンとデ
ータゾーンでそれぞれ研磨テープの粗いもの細かいもの
で加工する必要があるが、このようにすると待避ゾーン
の表面凸部の山の高さは、データゾーンの山の高さより
低（なる。そのためこの後でポリッング加工を施すと２
９のゾーンでの山の高さは一致するようになり、この発
明の磁気ディスクが効果的に製造できる。
ータゾーンでそれぞれ研磨テープの粗いもの細かいもの
で加工する必要があるが、このようにすると待避ゾーン
の表面凸部の山の高さは、データゾーンの山の高さより
低（なる。そのためこの後でポリッング加工を施すと２
９のゾーンでの山の高さは一致するようになり、この発
明の磁気ディスクが効果的に製造できる。
［実施例コ
以下この発明の一実施例について説明する。
先ず、５．２５インチ磁気ディスク基板の加工方法につ
いて説明する。 Ａｌ−Ｍｇ合金基板上に、下地硬化層
Ｎ１−Ｐを約１５μｍ無電解メツキし、これをポリッ
シュにより表面粗さ Ｒｚｌ ００Å以下に仕上げ、二
の基板面に研磨テープにより、同心円状のうねりをつけ
る。まず基板を ２００ ｒｐｍで回転させながら３０
００番の研磨テープを半径４０ｍｍ以下の部分を表面粗
さ Ｒｚ２０００人に加工する。
いて説明する。 Ａｌ−Ｍｇ合金基板上に、下地硬化層
Ｎ１−Ｐを約１５μｍ無電解メツキし、これをポリッ
シュにより表面粗さ Ｒｚｌ ００Å以下に仕上げ、二
の基板面に研磨テープにより、同心円状のうねりをつけ
る。まず基板を ２００ ｒｐｍで回転させながら３０
００番の研磨テープを半径４０ｍｍ以下の部分を表面粗
さ Ｒｚ２０００人に加工する。
次に基板を ２０ Ｏｒｐｍで回転させながら基板表面
全体に４０００番の研磨テープで半径４０ｍｍ以上の部
分が Ｒｚ５００ 人になるようにする。最後に表面を
わずかに遊離砥粒でポリウシ−し、凸部の高さをそろえ
る。この時点で半径４０ｒｎｍ以内は、表面の凹凸の凸
部の頂上の高さが均一で、表面粗さ Ｒｚ１０００人、
半径４０ｍｍ以上では、表面の凹凸の凸部の頂上の高さ
が均一で、表面粗さ Ｒｚ２００人の基板ができ上がり
半径４０ｍｍ内外において、表面の凹凸の凸の部分の頂
上の高さが一致している。最後にポリッシングを施して
いるため、この基板にＣｏ−Ｎｉ からなる金属媒体
膜及びカーボンからなる保護膜をスパッタリングにより
形成する。媒体膜、保護膜をつけても、基板面の面の表
面粗さはそのまま維持される。第１図はこのようにして
作製した薄膜磁気ディスクの断面図である。り１〉はＡ
ｌ−Ｍｇ基板、（２）は下地硬化層（Ｎｉ−Ｐ無電解メ
ツキ膜）、（３〉は媒体層、（４）は保護層、〈９）は
待避ゾーン、（ｌＯ〉はデータゾーンである。
全体に４０００番の研磨テープで半径４０ｍｍ以上の部
分が Ｒｚ５００ 人になるようにする。最後に表面を
わずかに遊離砥粒でポリウシ−し、凸部の高さをそろえ
る。この時点で半径４０ｒｎｍ以内は、表面の凹凸の凸
部の頂上の高さが均一で、表面粗さ Ｒｚ１０００人、
半径４０ｍｍ以上では、表面の凹凸の凸部の頂上の高さ
が均一で、表面粗さ Ｒｚ２００人の基板ができ上がり
半径４０ｍｍ内外において、表面の凹凸の凸の部分の頂
上の高さが一致している。最後にポリッシングを施して
いるため、この基板にＣｏ−Ｎｉ からなる金属媒体
膜及びカーボンからなる保護膜をスパッタリングにより
形成する。媒体膜、保護膜をつけても、基板面の面の表
面粗さはそのまま維持される。第１図はこのようにして
作製した薄膜磁気ディスクの断面図である。り１〉はＡ
ｌ−Ｍｇ基板、（２）は下地硬化層（Ｎｉ−Ｐ無電解メ
ツキ膜）、（３〉は媒体層、（４）は保護層、〈９）は
待避ゾーン、（ｌＯ〉はデータゾーンである。
浮動ヘッドスライダは通常半径４０ＩＩＩｍ以下の部分
でＣ８Ｓ動作を行う。上記のようにこの磁気デ（六りは
この部分の表面粗さ Ｒｚｌ ０００人と大きいため、
浮動ヘッドスライダ停止時のヘッドスライダと磁気ディ
スクの間の吸着は起こらない。
でＣ８Ｓ動作を行う。上記のようにこの磁気デ（六りは
この部分の表面粗さ Ｒｚｌ ０００人と大きいため、
浮動ヘッドスライダ停止時のヘッドスライダと磁気ディ
スクの間の吸着は起こらない。
他方通常浮動ヘッドスライダが浮上する半径４０１１ｎ
ｔ以上の部分では、磁気ディスクの表面粗さは、Ｒｚ２
００Å以下と小さく、浮上量が ０．１μｍと小さくと
も表面粗さはその１１５程度の大きさなので、表面粗さ
が電磁変換特性に及ぼす影響は歩な（、かつ、浮動ヘッ
ドスライダと突起が衝突する確率も少ない。
ｔ以上の部分では、磁気ディスクの表面粗さは、Ｒｚ２
００Å以下と小さく、浮上量が ０．１μｍと小さくと
も表面粗さはその１１５程度の大きさなので、表面粗さ
が電磁変換特性に及ぼす影響は歩な（、かつ、浮動ヘッ
ドスライダと突起が衝突する確率も少ない。
この実施例では磁気ディスクの径は、 ５１八インチと
したが、 １４インチ、３，５インチ、２インチでもよ
く、また媒体は Ｃｏ−Ｎｉスパッタ膜としたが、 γ
−Ｆｅ２０ａ スパッタ膜でもよい。また、加工法と
して待避ゾーンを先に３０００番の研磨テープであらし
、次に全体を４０００番の研磨テープであらしたが、逆
に４０００番の研磨テープで全面を加工し、次に３００
０番の研磨テープで待避ゾーンを加工してもよい。
したが、 １４インチ、３，５インチ、２インチでもよ
く、また媒体は Ｃｏ−Ｎｉスパッタ膜としたが、 γ
−Ｆｅ２０ａ スパッタ膜でもよい。また、加工法と
して待避ゾーンを先に３０００番の研磨テープであらし
、次に全体を４０００番の研磨テープであらしたが、逆
に４０００番の研磨テープで全面を加工し、次に３００
０番の研磨テープで待避ゾーンを加工してもよい。
［発明の効果］
以上のようにこの発明によれば、浮動ヘッドスライダが
、接触摺動、又は停止する待避ゾーンと、情報を記録す
るデータゾーンとを有し、上記待避ゾーンの表面粗さを
、上記データゾーンのそれよりも粗くすることにより、
磁気ディスク装置停止時の浮動ヘッドスライダと、磁気
ディスクの吸着を防止することができる。 また、浮
動ヘッドスライダが実際に浮上し、情報を読み書きする
部分くデータゾーン）においては１表面粗さを小さくし
たので、表面粗さによる記録再生への悪影響を少なくす
るとともに、表面粗さの突起部が浮動ヘッドスライダと
接触する確率も少なくなる効果がある。さらに、待避ゾ
ーンとデータゾーンの表面の凹凸の凸部の頂上の高さを
一致させたので、待避ソーンとデータゾーンの境界を浮
動ヘッドスライダが通過する時も、浮上量の変化が起こ
らず、浮上状態に擾乱を与えないようにすることができ
る。
、接触摺動、又は停止する待避ゾーンと、情報を記録す
るデータゾーンとを有し、上記待避ゾーンの表面粗さを
、上記データゾーンのそれよりも粗くすることにより、
磁気ディスク装置停止時の浮動ヘッドスライダと、磁気
ディスクの吸着を防止することができる。 また、浮
動ヘッドスライダが実際に浮上し、情報を読み書きする
部分くデータゾーン）においては１表面粗さを小さくし
たので、表面粗さによる記録再生への悪影響を少なくす
るとともに、表面粗さの突起部が浮動ヘッドスライダと
接触する確率も少なくなる効果がある。さらに、待避ゾ
ーンとデータゾーンの表面の凹凸の凸部の頂上の高さを
一致させたので、待避ソーンとデータゾーンの境界を浮
動ヘッドスライダが通過する時も、浮上量の変化が起こ
らず、浮上状態に擾乱を与えないようにすることができ
る。
第１図はこの発明の一実施例による磁気ディスクの断面
図、第２図は従来の浮動ヘッドスライダと磁気ディスク
で、（ａ）はその概念図、（ｂ）は磁気ディスク装置の
稼働時の拡大図、（ｃ）は磁気ディスク装置の停止時の
拡大図である。 図において（１）はＡｌ−Ｍｇ基板、（２）は下地硬化
層、（３ンは媒体層、（４月よ保護層、（５）は磁気デ
ィスク、〈６）は浮動ヘッドスライダ、〈７）はサスベ
ンジ日ン、（８〉はスピンドル、（９）は待避ゾーン、
（１０）はデータゾーンである。
図、第２図は従来の浮動ヘッドスライダと磁気ディスク
で、（ａ）はその概念図、（ｂ）は磁気ディスク装置の
稼働時の拡大図、（ｃ）は磁気ディスク装置の停止時の
拡大図である。 図において（１）はＡｌ−Ｍｇ基板、（２）は下地硬化
層、（３ンは媒体層、（４月よ保護層、（５）は磁気デ
ィスク、〈６）は浮動ヘッドスライダ、〈７）はサスベ
ンジ日ン、（８〉はスピンドル、（９）は待避ゾーン、
（１０）はデータゾーンである。
Claims (2)
- （１）情報を記録する磁気ディスクにおいて、情報を書
込み読出しを行う浮動ヘッドスライダが、接触摺動、又
は停止する待避ゾーンと、情報を記録するデータゾーン
とを有し、上記待避ゾーンの表面粗さを、上記データゾ
ーンのそれよりも粗くし、上記待避ゾーンとデータゾー
ンのそれぞれにおける表面の凹凸の凸部の頂上の高さを
均一にし、かつ、上記待避ゾーンとデータゾーンの表面
の凹凸の凸部の頂上の高さを一致させたことを特徴とす
る磁気ディスク。 - （２）情報を書込み読出しを行う浮動ヘッドスライダが
、接触摺動、又は停止する待避ゾーンと、情報を記録す
るデータゾーンとを有し、上記待避ゾーンの表面粗さを
、上記データゾーンのそれよりも粗くなるように加工し
た後、遊離砥粒ポリッシング加工により、上記待避ゾー
ンとデータゾーンのそれぞれにおける表面の凹凸の凸部
の頂上の高さを均一にし、かつ、上記待避ゾーンとデー
タゾーンの表面の凹凸の凸部の頂上の高さを一致させた
ことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4221889A JPH02223015A (ja) | 1989-02-22 | 1989-02-22 | 磁気ディスク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4221889A JPH02223015A (ja) | 1989-02-22 | 1989-02-22 | 磁気ディスク及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02223015A true JPH02223015A (ja) | 1990-09-05 |
Family
ID=12629902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4221889A Pending JPH02223015A (ja) | 1989-02-22 | 1989-02-22 | 磁気ディスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02223015A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04232614A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-20 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 磁気記録用ハードディスクの製造方法 |
| JPH0757251A (ja) * | 1993-08-11 | 1995-03-03 | Nec Corp | 磁気ディスク基板およびその加工装置 |
-
1989
- 1989-02-22 JP JP4221889A patent/JPH02223015A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04232614A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-20 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 磁気記録用ハードディスクの製造方法 |
| JPH0757251A (ja) * | 1993-08-11 | 1995-03-03 | Nec Corp | 磁気ディスク基板およびその加工装置 |
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