JPH02223900A - 反射型結像光学系 - Google Patents
反射型結像光学系Info
- Publication number
- JPH02223900A JPH02223900A JP1044659A JP4465989A JPH02223900A JP H02223900 A JPH02223900 A JP H02223900A JP 1044659 A JP1044659 A JP 1044659A JP 4465989 A JP4465989 A JP 4465989A JP H02223900 A JPH02223900 A JP H02223900A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- angle
- imaging optical
- reflective
- reflecting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 48
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 33
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
- G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
- G02B17/0605—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using two curved mirrors
- G02B17/061—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using two curved mirrors on-axis systems with at least one of the mirrors having a central aperture
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
- G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
- G02B17/0647—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors
- G02B17/0652—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors on-axis systems with at least one of the mirrors having a central aperture
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/10—Mirrors with curved faces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、Ｘ線波長域の光の結像に適する反射型結像光
学系に関する。
学系に関する。
Ｘ線波長領域の光の結像に適する光学系としては、第９
図に示すように中心部に開口を有する凹面鏡と凸面鏡と
を組合わせたシュヴァルツシルド型や、第１Ｏ図に示す
ように回転双曲面と回転楕円面とを組合わせたウォルタ
ー型のものが良く知られており、これらの他にも第１）
図（Ａ）、 （Ｂ）。
図に示すように中心部に開口を有する凹面鏡と凸面鏡と
を組合わせたシュヴァルツシルド型や、第１Ｏ図に示す
ように回転双曲面と回転楕円面とを組合わせたウォルタ
ー型のものが良く知られており、これらの他にも第１）
図（Ａ）、 （Ｂ）。
（Ｃ）に示すような３枚以上の鏡で構成されるものがあ
る（Ａｐｐｌ、 ｏｐｔ、 Ｖｏｌ、１８Ｎａ２４．４
１８５（１９７９）参照）。
る（Ａｐｐｌ、 ｏｐｔ、 Ｖｏｌ、１８Ｎａ２４．４
１８５（１９７９）参照）。
Ｘ線は、各種物質に対して、斜入射角がある角度より小
さい時全反射する。この角度を臨界角と呼び、物質固有
の光学定数と光線の波長によって決まるものである。光
線の斜入射角が臨界角より大きい時、Ｘ線領域の波長で
は反射率が急激に低下する。この場合、反射率を向上さ
せる手段として、多層膜を基板上に積層し、光の干渉を
利用するという考えが知られている。多層膜は、Ｘ線波
長領域の光に対して、光の入射角（反射面法線となす角
）に依存する分散性及び入射光の波長に依存する分散性
を有している。多層膜には、例えば第１２図（ａ）に示
すように、２種類の物質Ａ、Ｂで層対を形成して同じ厚
さの周期で基板上に積層するものがある。この場合、各
々の物質Ａ、Ｂの厚さｄ、、ｄ、は、波長λの光が膜表
面に対しである角度θ。で入射した時に反射率が最大と
なるように、フレネルの漸化式（波間 武 精密工学会
誌５２／１）／１９８６ ｐ１８４３）によって最適化
している。
さい時全反射する。この角度を臨界角と呼び、物質固有
の光学定数と光線の波長によって決まるものである。光
線の斜入射角が臨界角より大きい時、Ｘ線領域の波長で
は反射率が急激に低下する。この場合、反射率を向上さ
せる手段として、多層膜を基板上に積層し、光の干渉を
利用するという考えが知られている。多層膜は、Ｘ線波
長領域の光に対して、光の入射角（反射面法線となす角
）に依存する分散性及び入射光の波長に依存する分散性
を有している。多層膜には、例えば第１２図（ａ）に示
すように、２種類の物質Ａ、Ｂで層対を形成して同じ厚
さの周期で基板上に積層するものがある。この場合、各
々の物質Ａ、Ｂの厚さｄ、、ｄ、は、波長λの光が膜表
面に対しである角度θ。で入射した時に反射率が最大と
なるように、フレネルの漸化式（波間 武 精密工学会
誌５２／１）／１９８６ ｐ１８４３）によって最適化
している。
又この他に第１２図（ｂｌに示すように各々の物質Ａ。
Ｂの厚さｄ、、ｄ、が一定でない非周期構造を持つ多層
膜（波間 武 科学研究費補助金研究成果報告書（１９
８５））もある。
膜（波間 武 科学研究費補助金研究成果報告書（１９
８５））もある。
Ｘ線波長域の光の結像に反射型結像光学系を使用する場
合、必要な反射率を得るために、反射鏡面に多層膜を被
覆する必要がある。
合、必要な反射率を得るために、反射鏡面に多層膜を被
覆する必要がある。
第１３図は多層膜で被覆された反射鏡から成る反射型結
像光学系の明るさを評価する際の座標軸及び各種の記号
のとり方を説明するための図である。図中にはシュヴァ
ルツシルド光学系の凹面鏡と同様の反射面が示されてお
り、その光軸をｙ軸とし、物点０を原点とし、ＸＺ面を
ｙ軸に垂直にとっている。角θ、φを図のようにとり、
物点Ｏから発する光線のうち結像光学系に入射し得るも
ののθの最下値、最小値を夫々θ４１□９．θ１．とし
、第ｊ反射面への入射角をθｊとして、この結像光学系
の像面■における明るさを、集光量αとして以下のよう
に定義する。
像光学系の明るさを評価する際の座標軸及び各種の記号
のとり方を説明するための図である。図中にはシュヴァ
ルツシルド光学系の凹面鏡と同様の反射面が示されてお
り、その光軸をｙ軸とし、物点０を原点とし、ＸＺ面を
ｙ軸に垂直にとっている。角θ、φを図のようにとり、
物点Ｏから発する光線のうち結像光学系に入射し得るも
ののθの最下値、最小値を夫々θ４１□９．θ１．とし
、第ｊ反射面への入射角をθｊとして、この結像光学系
の像面■における明るさを、集光量αとして以下のよう
に定義する。
但し、Ｉｅ：物点Ｏから放射される光の、単位立体角当
り単位時間に通過するエネル ギー強度 Ｒ５：反射鏡筒に反射面での反射率 Ω ：物点Ｏが光学系の有効開口に対して張る立体角 θ ：物点０を出射した光線が光軸（ｙ軸）となす角 φ ：光軸に垂直にＸ軸、Ｚ軸をとった時の物点Ｏを通
る光線のｘｚ面への投 影像が２軸となす角 ｎ：結像光学系に含まれる反射面の数 積分の範囲は、光が光学系の有効径を通る範囲（斜線部
）とする。
り単位時間に通過するエネル ギー強度 Ｒ５：反射鏡筒に反射面での反射率 Ω ：物点Ｏが光学系の有効開口に対して張る立体角 θ ：物点０を出射した光線が光軸（ｙ軸）となす角 φ ：光軸に垂直にＸ軸、Ｚ軸をとった時の物点Ｏを通
る光線のｘｚ面への投 影像が２軸となす角 ｎ：結像光学系に含まれる反射面の数 積分の範囲は、光が光学系の有効径を通る範囲（斜線部
）とする。
式（１）は、以下のように書くこともできる。
即ち、
θ、１．−０．１゜
口φ→■ ｎθ→ａ＋ ｉ：・ ｊ：８Ｒ＋ ・Ｒ
ｚ −Ｒｔ −Ｒｔ ・ｓｉｔθｉ・Δθ・Δφθａｒ
ｔ−θ、Ｉｌ Ｌ ４＋ ・−１ｔ＋ ＝Ｒ１・＋＋＞θｉ・Δθ・・
・・・・（２） ここで、θｊ＝θｍｉｎ＋ｊ ・Δθ、Δφ＝２π／
ｎφ、Δθ＝２π／ｎθ である。
ｚ −Ｒｔ −Ｒｔ ・ｓｉｔθｉ・Δθ・Δφθａｒ
ｔ−θ、Ｉｌ Ｌ ４＋ ・−１ｔ＋ ＝Ｒ１・＋＋＞θｉ・Δθ・・
・・・・（２） ここで、θｊ＝θｍｉｎ＋ｊ ・Δθ、Δφ＝２π／
ｎφ、Δθ＝２π／ｎθ である。
前述のように、多層膜には波長分散性と入射角度分散性
がある。従って、それらを考慮して各反射面に被覆する
多層膜を設計しないと、各反射面で反射率が得られず、
像面上に必要な明るさ（上記集光量α）が確保できない
。しかし、従来は各反射面に被覆する多層膜の最適化設
計は考えられていなかった。
がある。従って、それらを考慮して各反射面に被覆する
多層膜を設計しないと、各反射面で反射率が得られず、
像面上に必要な明るさ（上記集光量α）が確保できない
。しかし、従来は各反射面に被覆する多層膜の最適化設
計は考えられていなかった。
本発明は、上記問題に鑑み、各反射面の反射効率を高め
て結像面で必要な明るさが得られるようにした反射型結
像光学系を提供することを目的としている。
て結像面で必要な明るさが得られるようにした反射型結
像光学系を提供することを目的としている。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明は、少な
（とも１つの反射鏡を備えた反射型結像光学系において
、前記反射鏡の反射面が互いに分光反射率特性の異なる
複数の輪帯領域により構成されているものである。この
場合、各輪帯領域に所定の波長の光線が入射した際に最
大反射率を与える入射角が、該領域における光線の入射
角の最大値と最小値の間の値を有するように前記各輪帯
領域の分光反射率特性を選定することによりより好まし
い反射型結像光学系を得ることができる。
（とも１つの反射鏡を備えた反射型結像光学系において
、前記反射鏡の反射面が互いに分光反射率特性の異なる
複数の輪帯領域により構成されているものである。この
場合、各輪帯領域に所定の波長の光線が入射した際に最
大反射率を与える入射角が、該領域における光線の入射
角の最大値と最小値の間の値を有するように前記各輪帯
領域の分光反射率特性を選定することによりより好まし
い反射型結像光学系を得ることができる。
このような反射型結像光学系は以下のようにして得るこ
とができる。
とができる。
物点からの放射角がθ１．≦θ≦θ□、を満たすような
光線が各反射面上へ入射する時の入射角は幾何光学的に
一意に決まる。そこで、第１図に示すように、任意の反
射鏡の反射面である第に面の任意の輪帯ｌの一端ａに光
線が入射する角度がθ７１）．で、他端すに光線が入射
する角度がθ０．． である時、 １θ３１． か
ら １θ０．。
光線が各反射面上へ入射する時の入射角は幾何光学的に
一意に決まる。そこで、第１図に示すように、任意の反
射鏡の反射面である第に面の任意の輪帯ｌの一端ａに光
線が入射する角度がθ７１）．で、他端すに光線が入射
する角度がθ０．． である時、 １θ３１． か
ら １θ０．。
の間で特定の角度１θｋを選び、特定の波長λの光を、
上記入射角 １θにで入射した時最大反射率を持つよう
に多層膜を設計し、第に面の第１輪帯に被覆する。
上記入射角 １θにで入射した時最大反射率を持つよう
に多層膜を設計し、第に面の第１輪帯に被覆する。
か（して、各反射面の反射効率が高まり、結像面で必要
な明るさが得られる。
な明るさが得られる。
又、この反射型結像光学系は、シュヴアルッシルド光学
系にそのまま応用でき、それを構成する２枚の反射鏡の
反射面の輪帯の数が異なっていても良い。
系にそのまま応用でき、それを構成する２枚の反射鏡の
反射面の輪帯の数が異なっていても良い。
以下、図示した各実施例に基づき本発明の詳細な説明す
る。
る。
第２図はシュヴアルッシルド光学系の光軸より上側の部
分のみを示した断面図であり、記号ＣＣ８は夫々凹面鏡
ｌ、凸面鏡２の曲率中心であるこの光学系は倍率ｍ＝
１００．物体側開口数Ｎ。
分のみを示した断面図であり、記号ＣＣ８は夫々凹面鏡
ｌ、凸面鏡２の曲率中心であるこの光学系は倍率ｍ＝
１００．物体側開口数Ｎ。
Ａ、〜０．２０７となるように設計されており、図中の
数値はその際の物点０．像点Ｉ、凹面鏡ｌ、凸面鏡２及
びそれらの曲率中心Ｃ，，Ｃ，間の距離を示すものであ
る。
数値はその際の物点０．像点Ｉ、凹面鏡ｌ、凸面鏡２及
びそれらの曲率中心Ｃ，，Ｃ，間の距離を示すものであ
る。
このシュヴァルツシルド光学系の２つの反射鏡として以
下のような多層膜を被覆した場合について、各反射面を
複数の輪帯に分割したときに各層の層厚をどのように定
めれば良いかを実施例によって示す。
下のような多層膜を被覆した場合について、各反射面を
複数の輪帯に分割したときに各層の層厚をどのように定
めれば良いかを実施例によって示す。
尚、各実施例において、集光量αの計算は式（２）を用
い、ｎφ＝９９．ｎθ＝９９９として近似した。
い、ｎφ＝９９．ｎθ＝９９９として近似した。
乏ｊ１艮
・積層法：第１２図（ａ）のように、２種類の物質を、
鏡面法線方向に同じ厚さの周期ｄ１．ｄｔで積層する。
鏡面法線方向に同じ厚さの周期ｄ１．ｄｔで積層する。
・物点からの放射光の波長：λ＝ ３９．８人・構成物
質：Ｎｉ−３ｃ 各々の複素屈折率はヘンヶ（Ｈｅｎｋｅ）の表（Ｂ、Ｈ
ｅｎｋｅ ａｔｏｍｉｃ ｄａｔａ ａｎｄ ｎｕｃｌ
ｅａｒｄａｔａ ｔａｆｌｅｓ２７（１９８２） ）よ
り光学定数を引用し、 ｎ Ｎ１＝ ０．９８８２ ０．００４１）８３ｉ。
質：Ｎｉ−３ｃ 各々の複素屈折率はヘンヶ（Ｈｅｎｋｅ）の表（Ｂ、Ｈ
ｅｎｋｅ ａｔｏｍｉｃ ｄａｔａ ａｎｄ ｎｕｃｌ
ｅａｒｄａｔａ ｔａｆｌｅｓ２７（１９８２） ）よ
り光学定数を引用し、 ｎ Ｎ１＝ ０．９８８２ ０．００４１）８３ｉ。
１、。＝ ０．９９７５−０．０００５７３８ｉとする
。
。
・絶層数：１００層対
夫皇五ユ
第１反射ｊｌＪＩ１）を２輪帯に、第２反射鏡２を２輪
帯に夫々分割し、物点Ｏからの放射光が、各輪帯に入射
する入射角は以下の通りとした。
帯に夫々分割し、物点Ｏからの放射光が、各輪帯に入射
する入射角は以下の通りとした。
第１反射鏡 輪帯１）．５°〜２．５゜輪帯２２．５
°〜３．５゜ 第２反射鏡 輪帯１４° 〜６゜ 輪帯２６° 〜９．５゜ 角軸帯への入射角に含まれる角度で、前記波長に対して
最大反射率を持つように、層厚を最適化した時、Ｎｉの
圧さｄ ＋ ＊ Ｓｃの厚さ°ｄ、は以下のようになっ
た。
°〜３．５゜ 第２反射鏡 輪帯１４° 〜６゜ 輪帯２６° 〜９．５゜ 角軸帯への入射角に含まれる角度で、前記波長に対して
最大反射率を持つように、層厚を最適化した時、Ｎｉの
圧さｄ ＋ ＊ Ｓｃの厚さ°ｄ、は以下のようになっ
た。
この時の入射角度に対する反射率分布は、第１反射鏡ｌ
については第３図、第２反射鏡２については第４図に示
す通りである。
については第３図、第２反射鏡２については第４図に示
す通りである。
以上のような多層膜を被覆した場合、像面での明るさ即
ち集光量αは、０．００５６７ ・Ｉｅであった。
ち集光量αは、０．００５６７ ・Ｉｅであった。
夾五五１
第１反射鏡ｌは実施例１と同じように分割して多層膜を
被覆し、第２反射鏡は３分割し、以下の仕様で多層膜を
被覆する。
被覆し、第２反射鏡は３分割し、以下の仕様で多層膜を
被覆する。
第２反射鏡２の入射角度に対する反射率分布は第５図に
示した通りであった。
示した通りであった。
この時、像面での集光量αは、
ａ ＝０．００５９１ ・Ｉ ｅ
であった。
塞Ｊ１）ユ
第１反射鏡は実施例１と同じように分割して多層膜を被
覆し、第２反射鏡は５分割し、以下の仕様で多層膜を被
覆する。
覆し、第２反射鏡は５分割し、以下の仕様で多層膜を被
覆する。
（ｔＯ’ ｘ３７）本が全て各反射面で最大反射率を持
って反射された時の集光量αを示すと、次の通りである
。
って反射された時の集光量αを示すと、次の通りである
。
α＝０．００６３２・Ｉｅ
±較月
各反射面を輪帯に分割せず、各反射面に、以下の仕様の
−様な多層膜を被覆する。
−様な多層膜を被覆する。
第２反射鏡の入射角度に対する反射率分布は第６図に示
した通りであった。
した通りであった。
この時、像面での集光量αは、
α＝０．００６１４・Ｉ ｅ
であった。
以上のことから、各反射面を、無限側の輪帯に分割して
、最適化設計した多層膜を被覆すれば、最も明るい像面
が得られることがわかった。
、最適化設計した多層膜を被覆すれば、最も明るい像面
が得られることがわかった。
ここで、近似的に物点０より等方的に微小立体角ΔΩを
通過するような光束が（１０” ｘｌＯ’ ）本放射さ
れた時、前記光学系の有効径を通る光束第１反射鏡Ｉの
入射角度に対する反射率分布は第７図に示す通りであり
、第２反射鏡２の入射角度に対する反射率分布は第８図
に示す通りであった。
通過するような光束が（１０” ｘｌＯ’ ）本放射さ
れた時、前記光学系の有効径を通る光束第１反射鏡Ｉの
入射角度に対する反射率分布は第７図に示す通りであり
、第２反射鏡２の入射角度に対する反射率分布は第８図
に示す通りであった。
この時、像面での集光量αは
ａ ＝０．００４９９ ・Ｉ ｅ
であった。
上述の如く、本発明による反射型結像光学系は、各反射
面での反射効率が高まり結像面で必要な明るさが得られ
るという実用上重要な利点を有している。
面での反射効率が高まり結像面で必要な明るさが得られ
るという実用上重要な利点を有している。
第１図は任意の反射鏡の反射面の任意の輪帯に入射する
光線の入射角を示す図、第２図はシュヴァルツシルド光
学系の一例を示す図、第３図及び第４図は夫々実施例１
の第１反射鏡及び第２反射鏡の入射角度に対する反射率
分布を示す図、第５図及び第６図は夫々実施例２及び３
の各第２反射鏡の入射角度に対する反射率分布を示す図
、第７図及び第８図は夫々比較例の第１反射鏡及び第２
反射鏡の入射角度に対する反射率分布を示す図、第９図
乃至第１）図は夫々種々の反射型結像光学系の基本構成
図、第１２図は多層膜反射鏡の概略断面図、第１３図は
多層膜で被覆されたｎ個の鏡から成る反射型結像光学系
の概略図である。 ｌ・・・第１反射鏡、２・・・第２反射鏡。 第３図 才４図 １Ｆ５図 オ６Ｆｌ！ｉ αつ υ Ｕ θ（０） １−１図 第２図 オフ図 １８図 ｅ（°） １？１０図 ウォルター型 ５ＩＰ１２図 （ｂ） 第１）図 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） 手 続 補 正 書（自発） 平成 １年 ６月２３日 特 許 庁 長 官 殿 ■、事件 の 表示 特願平１−４４６５９号 発 明 の 名 称 反射型結像光学系 ４゜ 代 理 人 〒１０５東京都港区新橋５の１９ ５、補正 の 対 象 明細書の特許請求の範囲の欄及び発明の詳細な説明の欄
。 ６、補正の内容 （１） 特許請求の範囲を別紙添付の通り訂正する。 （２）明細書第４頁１４〜１５行目の ［ 「 θ、ｌＩ σ１゜ Ｒ９・Ｒ，−Ｒ１−Ｒ，・山θｊ・Δθ・Δφθ１６．
−〇、１゜ と訂正する。 （３）同第５頁９行目のｒｎＪをｒＮｌと訂正する。 （４）同第６頁１〜５行目の を 「 ｎθ→ω ｊ・Ｏ ４＋ ・−４＋ −Ｒ，・ｔｉｅ ｅｊ 申Δθ
θ、１） θ、、１ Ｑｐ４″ １、４１″ ｉ＝ｔ に・ ・Ｒ８・−・Ｒ２・−・Ｒ１・Ｉｉ■θｊ・Δθ・Δφ
θ、Ｉ□−０，１゜ ｆｉθ″偽 １：・ Ｒ＋ ４＋ ＋−４ｔ １−ＩＬ ｌ＋ｉｔ ｆｌｉ
＋Ａθ・・・・・・（２）」 ・・・・・・（２）１ と訂正する。 （５）同第６頁７行目、第９頁１３行目の「ｎφ」を夫
々「ｎ、１と訂正する。 （６）同第６頁７行目、第９頁１３行目の「ｎθ］を夫
々「ｎ６１と訂正する。 （７）同第１Ｏ頁３行目のｒ ｔａｆｌｅｓＪをｒ ｔ
ａｂｌｅｓＪと訂正する。 以上 特許請求の範囲 （１）少なくとも１つの反射鏡を備えた反射型結像光学
系において、前記反射鏡の反射面が互いに分光反射率特
性の異なる複数の輪帯領域により構成されていることを
特徴とする反射型結像光学系。 （２）前記各輪帯領域に所定の波長の光線が入射した際
に最大反射率を与える入射角が、該領域における光線の
入射角の最大値と最小値の間の値を有するように前記各
輪帯領域の分光反射率特性が選定されている請求項（１
）に記載の反射型結像光学系。 （３）前記反射型結像光学系が、光軸を含む中心部に開
口を有する凹面鏡と該凹面鏡の開口部に対向して設けら
れた凸面鏡とから成るシュヴァルツシルド光学系である
請求項（１）又は（２）に記載の反射型結像光学系。 （４）前記凸面鏡の反射面の輪帯領域の数が前記凹面鏡
の反射面の輪帯領域の数よりも多い請求項（３）に記載
の反射型結像光学系。
光線の入射角を示す図、第２図はシュヴァルツシルド光
学系の一例を示す図、第３図及び第４図は夫々実施例１
の第１反射鏡及び第２反射鏡の入射角度に対する反射率
分布を示す図、第５図及び第６図は夫々実施例２及び３
の各第２反射鏡の入射角度に対する反射率分布を示す図
、第７図及び第８図は夫々比較例の第１反射鏡及び第２
反射鏡の入射角度に対する反射率分布を示す図、第９図
乃至第１）図は夫々種々の反射型結像光学系の基本構成
図、第１２図は多層膜反射鏡の概略断面図、第１３図は
多層膜で被覆されたｎ個の鏡から成る反射型結像光学系
の概略図である。 ｌ・・・第１反射鏡、２・・・第２反射鏡。 第３図 才４図 １Ｆ５図 オ６Ｆｌ！ｉ αつ υ Ｕ θ（０） １−１図 第２図 オフ図 １８図 ｅ（°） １？１０図 ウォルター型 ５ＩＰ１２図 （ｂ） 第１）図 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） 手 続 補 正 書（自発） 平成 １年 ６月２３日 特 許 庁 長 官 殿 ■、事件 の 表示 特願平１−４４６５９号 発 明 の 名 称 反射型結像光学系 ４゜ 代 理 人 〒１０５東京都港区新橋５の１９ ５、補正 の 対 象 明細書の特許請求の範囲の欄及び発明の詳細な説明の欄
。 ６、補正の内容 （１） 特許請求の範囲を別紙添付の通り訂正する。 （２）明細書第４頁１４〜１５行目の ［ 「 θ、ｌＩ σ１゜ Ｒ９・Ｒ，−Ｒ１−Ｒ，・山θｊ・Δθ・Δφθ１６．
−〇、１゜ と訂正する。 （３）同第５頁９行目のｒｎＪをｒＮｌと訂正する。 （４）同第６頁１〜５行目の を 「 ｎθ→ω ｊ・Ｏ ４＋ ・−４＋ −Ｒ，・ｔｉｅ ｅｊ 申Δθ
θ、１） θ、、１ Ｑｐ４″ １、４１″ ｉ＝ｔ に・ ・Ｒ８・−・Ｒ２・−・Ｒ１・Ｉｉ■θｊ・Δθ・Δφ
θ、Ｉ□−０，１゜ ｆｉθ″偽 １：・ Ｒ＋ ４＋ ＋−４ｔ １−ＩＬ ｌ＋ｉｔ ｆｌｉ
＋Ａθ・・・・・・（２）」 ・・・・・・（２）１ と訂正する。 （５）同第６頁７行目、第９頁１３行目の「ｎφ」を夫
々「ｎ、１と訂正する。 （６）同第６頁７行目、第９頁１３行目の「ｎθ］を夫
々「ｎ６１と訂正する。 （７）同第１Ｏ頁３行目のｒ ｔａｆｌｅｓＪをｒ ｔ
ａｂｌｅｓＪと訂正する。 以上 特許請求の範囲 （１）少なくとも１つの反射鏡を備えた反射型結像光学
系において、前記反射鏡の反射面が互いに分光反射率特
性の異なる複数の輪帯領域により構成されていることを
特徴とする反射型結像光学系。 （２）前記各輪帯領域に所定の波長の光線が入射した際
に最大反射率を与える入射角が、該領域における光線の
入射角の最大値と最小値の間の値を有するように前記各
輪帯領域の分光反射率特性が選定されている請求項（１
）に記載の反射型結像光学系。 （３）前記反射型結像光学系が、光軸を含む中心部に開
口を有する凹面鏡と該凹面鏡の開口部に対向して設けら
れた凸面鏡とから成るシュヴァルツシルド光学系である
請求項（１）又は（２）に記載の反射型結像光学系。 （４）前記凸面鏡の反射面の輪帯領域の数が前記凹面鏡
の反射面の輪帯領域の数よりも多い請求項（３）に記載
の反射型結像光学系。
Claims (4)
- （１）少なくとも１つの反射鏡を備えた反射型結像光学
系において、前記反射鏡の反射面が互いに分光反射率特
性の異なる複数の輪帯領域により構成されていることを
特徴とする反射型結像光学系。 - （２）前記各輪帯領域に所定の波長の光線が入射した際
に最大反射率を与える入射角が、該領域における光線の
入射角の最大値と最小値の間の値を有するように前記各
輪帯領域の分光反射率特性が選定されている請求項（１
）に記載の反射型結像光学系。 - （３）前記反射型結像光学系が、光軸を含む中心部に開
口を有する凹面鏡と該凹面鏡の開口部に対向して設けら
れた凸面鏡とから成るシュヴァルツシルド光学系である
請求項（１）又（２）に記載の反射型結像光学系。 - （４）前記凸面鏡の反射面の輪帯領域の数が前記凹面鏡
の反射面の輪帯領域の数よりも多い請求項（３）に記載
の反射型結像光学系。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1044659A JPH0782117B2 (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 反射型結像光学系 |
| US08/082,514 US5619382A (en) | 1989-02-23 | 1993-06-25 | Reflection type imaging optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1044659A JPH0782117B2 (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 反射型結像光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02223900A true JPH02223900A (ja) | 1990-09-06 |
| JPH0782117B2 JPH0782117B2 (ja) | 1995-09-06 |
Family
ID=12697574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1044659A Expired - Fee Related JPH0782117B2 (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | 反射型結像光学系 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5619382A (ja) |
| JP (1) | JPH0782117B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005525565A (ja) * | 2002-05-10 | 2005-08-25 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 波長≦１００ｎｍで物体を検査する反射型Ｘ線顕微鏡および検査系 |
| JP2010261951A (ja) * | 2009-05-05 | 2010-11-18 | Media Lario Srl | ゾーン最適化ミラー及び同ミラーを用いた光学系 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6577443B2 (en) * | 1998-05-30 | 2003-06-10 | Carl-Zeiss Stiftung | Reduction objective for extreme ultraviolet lithography |
| JP4374735B2 (ja) * | 1999-08-11 | 2009-12-02 | 株式会社ニコン | 反射型軟ｘ線顕微鏡、マスク検査装置及び反射マスクの製造方法 |
| WO2001092956A1 (en) * | 2000-05-30 | 2001-12-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Image sensor |
| US6478432B1 (en) | 2001-07-13 | 2002-11-12 | Chad D. Dyner | Dynamically generated interactive real imaging device |
| JP3919599B2 (ja) * | 2002-05-17 | 2007-05-30 | キヤノン株式会社 | 光学素子、当該光学素子を有する光源装置及び露光装置 |
| CN1918667A (zh) * | 2004-02-12 | 2007-02-21 | 独立行政法人科学技术振兴机构 | 软x射线加工装置以及软x射线加工方法 |
| US7231017B2 (en) * | 2005-07-27 | 2007-06-12 | Physical Optics Corporation | Lobster eye X-ray imaging system and method of fabrication thereof |
| JP2007219130A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Renesas Technology Corp | マスクブランクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置、並びにそれらを用いた半導体装置の製造方法 |
| KR20160091085A (ko) | 2015-01-23 | 2016-08-02 | 삼성전자주식회사 | 반사 굴절 광학계 및 이미지 촬영 장치 |
| JP2022096461A (ja) * | 2020-12-17 | 2022-06-29 | キヤノン株式会社 | 光学系及び面分光装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4525853A (en) * | 1983-10-17 | 1985-06-25 | Energy Conversion Devices, Inc. | Point source X-ray focusing device |
| JPS63129913U (ja) * | 1987-02-19 | 1988-08-25 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1420532A (fr) * | 1964-10-28 | 1965-12-10 | Citroen Sa Andre | Rétroviseur pour véhicules automobiles, notamment pour camions |
| US4026641A (en) * | 1975-12-30 | 1977-05-31 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Toric reflector display |
| LU78535A1 (fr) * | 1977-11-17 | 1979-06-13 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication d'un element composite comportant une pluralite de pieces solidarisees a un support et element composite ainsi obtenu |
| US4770824A (en) * | 1980-01-07 | 1988-09-13 | Roxor Corporation | Process of making a casting die for forming a segmented mirror |
| US4318089A (en) * | 1980-03-24 | 1982-03-02 | David Frankel | Infrared detector system |
| CA1183285A (en) * | 1981-04-20 | 1985-02-26 | Robert K. Smither | Instrument and method for focusing x-rays, gamma rays and neutrons |
| US4444464A (en) * | 1982-05-13 | 1984-04-24 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Dual aperture multispectral Schmidt objective |
| JPS59151101A (ja) * | 1983-02-08 | 1984-08-29 | Toshiba Corp | 凹面鏡 |
| US4497540A (en) * | 1983-03-23 | 1985-02-05 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Optical system |
| US4695139A (en) * | 1984-12-26 | 1987-09-22 | Hughes Aircraft Company | Plural-zone mirror focusing system |
| US4941163A (en) * | 1985-08-15 | 1990-07-10 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Multispectral glancing incidence X-ray telescope |
| US4919527A (en) * | 1986-03-31 | 1990-04-24 | Nurmamed Saiylov | Solar radiation concentrator |
| JPS6370802A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-31 | Fanuc Ltd | レ−ザ用集光鏡 |
| JPH0786568B2 (ja) * | 1987-03-25 | 1995-09-20 | 東芝ライテック株式会社 | 光源装置 |
| US4790654A (en) * | 1987-07-17 | 1988-12-13 | Trw Inc. | Spectral filter |
| US4916721A (en) * | 1987-08-05 | 1990-04-10 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Normal incidence X-ray mirror for chemical microanalysis |
| US4798446A (en) * | 1987-09-14 | 1989-01-17 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Aplanatic and quasi-aplanatic diffraction gratings |
| JPH0778576B2 (ja) * | 1988-05-17 | 1995-08-23 | 株式会社シンク・ラボラトリー | 光ビーム分割方法及び光ビーム分割変調方法 |
| FR2634907B1 (fr) * | 1988-07-26 | 1991-10-18 | Sagem | Dispositif optique multispectral a miroirs |
| US4964706A (en) * | 1988-10-17 | 1990-10-23 | Hughes Aircraft Company | Multi-focal length, multi-field of view three mirror anastrigmat |
| JPH02210299A (ja) * | 1989-02-10 | 1990-08-21 | Olympus Optical Co Ltd | Ｘ線用光学系及びそれに用いる多層膜反射鏡 |
| JP2865257B2 (ja) * | 1989-03-07 | 1999-03-08 | オリンパス光学工業株式会社 | シュヴアルツシルド光学系 |
-
1989
- 1989-02-23 JP JP1044659A patent/JPH0782117B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-06-25 US US08/082,514 patent/US5619382A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4525853A (en) * | 1983-10-17 | 1985-06-25 | Energy Conversion Devices, Inc. | Point source X-ray focusing device |
| JPS63129913U (ja) * | 1987-02-19 | 1988-08-25 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005525565A (ja) * | 2002-05-10 | 2005-08-25 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 波長≦１００ｎｍで物体を検査する反射型Ｘ線顕微鏡および検査系 |
| US7623620B2 (en) | 2002-05-10 | 2009-11-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Reflective X-ray microscope and inspection system for examining objects with wavelengths <100 nm |
| JP2010032542A (ja) * | 2002-05-10 | 2010-02-12 | Carl Zeiss Smt Ag | 波長≦１００ｎｍで物体を検査する反射型Ｘ線顕微鏡および検査系 |
| JP2010261951A (ja) * | 2009-05-05 | 2010-11-18 | Media Lario Srl | ゾーン最適化ミラー及び同ミラーを用いた光学系 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5619382A (en) | 1997-04-08 |
| JPH0782117B2 (ja) | 1995-09-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Zhu et al. | Design of a low F-number freeform off-axis three-mirror system with rectangular field-of-view | |
| US3185020A (en) | Three layer anti-reflection coating | |
| US5604782A (en) | Spherical mirror grazing incidence x-ray optics | |
| US4322130A (en) | Phase shifting mirror | |
| US7679820B2 (en) | IR absorbing reflector | |
| JPH02223900A (ja) | 反射型結像光学系 | |
| JPS57181503A (en) | Heat ray reflecting film | |
| JPH02210299A (ja) | Ｘ線用光学系及びそれに用いる多層膜反射鏡 | |
| US20070127131A1 (en) | Device and method for homogenizing optical beams | |
| US3423147A (en) | Multilayer filter with wide transmittance band | |
| US2751816A (en) | Paraboloidal reflector | |
| JP2865257B2 (ja) | シュヴアルツシルド光学系 | |
| TWI674588B (zh) | Ｅｕｖ反射鏡與包含ｅｕｖ反射鏡之光學系統 | |
| US7391580B2 (en) | Ultra compact mono-bloc catadioptric imaging lens | |
| WO2022168565A1 (ja) | 反射防止膜を備えた光学素子及びその製造方法 | |
| US5745286A (en) | Forming aspheric optics by controlled deposition | |
| US5241426A (en) | Condenser optical system | |
| Pareschi et al. | Aluminum-based segmented mirrors for gamma-ray Cherenkov Telescopes via replication: status and perspectives | |
| Catura et al. | Calculated performance of a Wolter Type I x-ray telescope coated by multilayers | |
| JPH02210300A (ja) | Ｘ線用多層膜反射鏡 | |
| Elyutin et al. | Cold mirror based on High-Low-High refractive index dielectric materials | |
| JPS6057301A (ja) | 一眼レフレツクスカメラのハ−フミラ− | |
| JPH03146909A (ja) | Ｘ線ファイバー | |
| WO1997016833A1 (en) | Spherical mirror grazing incidence x-ray optics | |
| Catura et al. | Calculated performance of a Wolter type I X-ray telescope coated by multilayers |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |