JPH02224362A - Manufacture of semiconductor device - Google Patents
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- JPH02224362A JPH02224362A JP1047784A JP4778489A JPH02224362A JP H02224362 A JPH02224362 A JP H02224362A JP 1047784 A JP1047784 A JP 1047784A JP 4778489 A JP4778489 A JP 4778489A JP H02224362 A JPH02224362 A JP H02224362A
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- leads
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/5449—Dispositions of bond wires not being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. fan-out arrangements
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は細線化されたリードを有する多ピンの半導体装
置の製造に好適の半導体装置の製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device suitable for manufacturing a multi-pin semiconductor device having thinned leads.
[従来の技術]
従来、ボンディングワイヤにより半導体素子の電極とリ
ードとが接続されている半導体装置は、以下に説明する
方法により製造されている。[Prior Art] Conventionally, semiconductor devices in which electrodes and leads of a semiconductor element are connected by bonding wires have been manufactured by the method described below.
サークワット・パッケージ等の半導体装置の場合は、先
ず、42合金等の金属薄板をプレス又はエツチング加工
技術を使用して加工成形し、リードフレームを得る。こ
のリードフレームは先端部が夫々分離された複数本のリ
ードを有している。In the case of a semiconductor device such as a circumquat package, first, a thin metal plate of 42 alloy or the like is processed and formed using a pressing or etching technique to obtain a lead frame. This lead frame has a plurality of leads whose tips are separated from each other.
次に、このリードフレームの中央に半導体素子を配置し
て固定する。そして、半導体素子の上面周縁部に形成さ
れた電極とリードの先端部とをワイヤボンディングして
電気的に接続する。次いで、半導体素子及びボンディン
グワイヤ等を封止する。Next, a semiconductor element is placed and fixed in the center of this lead frame. Then, the electrodes formed on the peripheral edge of the upper surface of the semiconductor element and the tips of the leads are electrically connected by wire bonding. Next, the semiconductor element, bonding wires, etc. are sealed.
これにより、半導体装置が完成する。This completes the semiconductor device.
また、積層セラミック・パッケージの半導体装置の場合
は、先ず、セラミック基板の中央の半導体素子搭載領域
の周囲に、スクリーン印刷技術を使用してリード等のパ
ターンを形成する。次に、このパターンをメタライズ化
処理してタングステン等の金属膜(メタライズ)パター
ンを得る。次いで、半導体素子を前記搭載領域に固定し
、半導体素子の電極と、メタライズ化されたリードの先
端部とをワイヤボンディングにより電気的に接続する。In the case of a semiconductor device in a laminated ceramic package, first, a pattern such as a lead is formed around a semiconductor element mounting area in the center of a ceramic substrate using screen printing technology. Next, this pattern is subjected to metallization treatment to obtain a metal film (metallized) pattern of tungsten or the like. Next, the semiconductor element is fixed in the mounting area, and the electrodes of the semiconductor element and the tips of the metalized leads are electrically connected by wire bonding.
その後、半導体素子及びボンディングヮイヤ等を封止す
る。これにより、半導体装置が完成する。After that, the semiconductor element, bonding wires, etc. are sealed. This completes the semiconductor device.
このように、従来の半導体装置の製造方法においては、
先端が分離されたリードの先端部と半導体素子の電極と
をボンディングワイヤにより接続し、その後この半導体
素子、リードの先端部及びボンディングワイヤ等を封止
して半導体装置を製造している。In this way, in the conventional semiconductor device manufacturing method,
A semiconductor device is manufactured by connecting the tip of a lead whose tip has been separated and an electrode of a semiconductor element with a bonding wire, and then sealing the semiconductor element, the tip of the lead, the bonding wire, and the like.
[発明が解決しようとする課題]
近年、半導体装置の多ビン化が促進されているが、これ
に対応するためにはリードを細線化する必要がある。し
かしながら、リードを細線化すると、従来の製造方法に
おいては以下に説明する問題点が発生する。[Problems to be Solved by the Invention] In recent years, the number of bins in semiconductor devices has been promoted, and in order to cope with this, it is necessary to make the leads thinner. However, when the leads are thinned, the following problems arise in the conventional manufacturing method.
前者のリードフレームを使用する方法においては、リー
ドの幅が狭いためその強度が不足し、特にリードの先端
部は外力が加えられると容易に変形してしまう。そうす
ると、ワイヤボンディング時にリード先端部が所定位置
から外れてワイヤボンディングを行うことができない。In the former method of using a lead frame, the strength of the leads is insufficient because the width thereof is narrow, and the tips of the leads in particular are easily deformed when external force is applied. If this happens, the lead tips will come off the predetermined position during wire bonding, making it impossible to perform wire bonding.
また、後者のメタライズパターンにより形成されたリー
ドの場合、細密なパターンをスクリーン印刷により形成
すると、塗布された塗液の表面張力によりパターンの上
面が円弧状の曲面になる。Furthermore, in the case of leads formed using the latter metallized pattern, when a fine pattern is formed by screen printing, the upper surface of the pattern becomes an arcuate curved surface due to the surface tension of the applied coating liquid.
そして、メタライズ処理後もワイヤボンディングに必要
なリード先端部の平坦性を得ることができない。このた
め、ワイヤボンディングの信頼性が著しく低下する。Even after the metallization process, the flatness of the lead tip required for wire bonding cannot be obtained. For this reason, the reliability of wire bonding is significantly reduced.
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
多ビン化に対応して細線化されたリードを有し、しかも
このリードの平坦性が優れ、位置精度が高いリードパタ
ーンを得ることができる半導体装置を製造できる半導体
装置の製造方法を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of such problems, and includes:
To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of manufacturing a semiconductor device having thinned leads corresponding to a large number of bins, excellent in flatness of the leads, and capable of obtaining a lead pattern with high positional accuracy. With the goal.
[課題を解決するための手段]
本発明に係る半導体装置の製造方法は、少なくともその
先端部がブリッジ部により相互に接続された複数本のリ
ードの前記先端部と半導体素子の電極とをボンディング
ワイヤにより電気的に接続する工程と、前記ブリッジ部
をレーザビームの照射により切断する工程と、を有する
ことを特徴とする。[Means for Solving the Problems] A method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention connects the tips of a plurality of leads, at least the tips of which are interconnected by a bridge portion, and an electrode of a semiconductor element using a bonding wire. and a step of cutting the bridge portion by laser beam irradiation.
[作用コ
本発明においては、先ず、先端部がブリッジ部により相
互に接続されたリードのその先端部と半導体素子の電極
とをボンディングワイヤにより接続する。このように、
ワイヤボンディング時には、リードの先端部がブリッジ
部により相互に接続されているため、リードフレーム上
のリードの先端部の強度が著しく向上するから、外圧を
加えられてもリード先端部の変形を回避できる。従って
、ボンディング時のリード先端部の位置精度が向上し、
ワイヤボンディングの信頼性が著しく向上する。一方、
スクリーン印刷により形成されたリードの場合、リード
先端部の上面の形状はリードの幅ではなく、ブリッジ部
の幅に依存するようになる。このため、極めて幅が狭い
リードであっても、ブリッジ部の幅を適切な寸法とする
ことにより、上面の平滑性が優れたリードを得ることが
できる。[Operations] In the present invention, first, the tips of the leads, whose tips are mutually connected by the bridge portion, and the electrodes of the semiconductor element are connected by bonding wires. in this way,
During wire bonding, the tips of the leads are connected to each other by a bridge section, which significantly improves the strength of the tips of the leads on the lead frame, making it possible to avoid deformation of the tips of the leads even when external pressure is applied. . Therefore, the positioning accuracy of the lead tip during bonding is improved,
The reliability of wire bonding is significantly improved. on the other hand,
In the case of leads formed by screen printing, the shape of the top surface of the lead tip depends not on the width of the lead but on the width of the bridge portion. Therefore, even if the lead is extremely narrow, by setting the width of the bridge portion to an appropriate dimension, a lead with excellent top surface smoothness can be obtained.
これにより、信頼性が高いワイヤボンディングを行うこ
とができる。Thereby, highly reliable wire bonding can be performed.
その後、リードフレーム及びメタライズパターンのいず
れの場合も、少なくともリード先端部のブリッジ部をレ
ーザビームの照射により切断する。Thereafter, in both the lead frame and the metallized pattern, at least the bridge portion at the tip of the lead is cut by laser beam irradiation.
これにより、各リードを電気的に分離し、半導体素子の
各電極を、例えば配線基板の配線と個別的に接続する。As a result, each lead is electrically isolated, and each electrode of the semiconductor element is individually connected to, for example, wiring on a wiring board.
[実施例コ
次に、本発明の実施例について添付の図面を参照して説
明する。[Embodiments] Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
第1図は本発明の第1の実施例方法を示す平面図、第2
図は第1図の矢印■で示す領域の拡大図、第3図は本実
施例により完成した半導体装置を示す一部破断断面図、
第4図は第3図の矢印■で示す領域の拡大斜視図である
。FIG. 1 is a plan view showing the method of the first embodiment of the present invention, and FIG.
The figure is an enlarged view of the area indicated by the arrow ■ in FIG. 1, and FIG.
FIG. 4 is an enlarged perspective view of the area indicated by the arrow ■ in FIG.
本実施例においては、半導体装置の製造にリードフレー
ムを使用する。そして、第1図に示すように、このリー
ドフレームは金属薄板から形成されており、その中央部
が矩形に開口されている。In this embodiment, a lead frame is used for manufacturing a semiconductor device. As shown in FIG. 1, this lead frame is formed from a thin metal plate, and has a rectangular opening in the center.
この開口部の周囲には複数本のリード1が配列されて形
成されている。このリード1は前記開口部側の先端部が
隣接したリード1とブリッジ部7により相互に接続され
て形成されている。そして、リード1の中央部はタイバ
ーにより相互に接続されており、他方の端部はリードフ
レーム外枠8に接続されている。A plurality of leads 1 are arranged and formed around this opening. This lead 1 is formed such that its tip end on the opening side is connected to the adjacent lead 1 by a bridge portion 7. The central parts of the leads 1 are connected to each other by tie bars, and the other ends are connected to the lead frame outer frame 8.
本実施例に係る半導体装置の製造方法は、先ず、矩形の
形状を有する絶縁性セラミック基板2の中央部に半導体
箪子5をろう材6で固着する。この場合、上述したリー
ドフレームは、前記開口部が半導体素子5に嵌合するよ
うに、セラミック基板2上に低融点ガラス3で接着され
ている。In the method for manufacturing a semiconductor device according to this embodiment, first, a semiconductor rectifier 5 is fixed to the center of an insulating ceramic substrate 2 having a rectangular shape with a brazing material 6. In this case, the above-mentioned lead frame is bonded onto the ceramic substrate 2 with the low melting point glass 3 so that the opening fits into the semiconductor element 5.
次に、半導体素子5の上面周縁部に形成された電極と各
リードの先端部9とをボンディングワイヤ4により接続
する。Next, the electrodes formed on the peripheral edge of the upper surface of the semiconductor element 5 and the tips 9 of each lead are connected by bonding wires 4.
次に、各リード先端部9間のブリッジ部7(第2図斜線
部分)をレーザビームで切断する。Next, the bridge portion 7 (shaded area in FIG. 2) between the lead tips 9 is cut with a laser beam.
次に、第3図に示すように、セラミックキャップ10を
低融点ガラス3により接着し、半導体素子5等を封止す
る。その後、タイバー及びリードフレーム外枠8を切断
すると半導体装置が完成する。この場合に、リード先端
部9とボンディングワイヤ4とは第4図に示すように常
に適正なボンディング状態を維持したまま封止される。Next, as shown in FIG. 3, the ceramic cap 10 is bonded with low melting point glass 3 to seal the semiconductor element 5 and the like. Thereafter, the tie bars and lead frame outer frame 8 are cut to complete the semiconductor device. In this case, the lead tip portion 9 and the bonding wire 4 are sealed while maintaining a proper bonding state at all times, as shown in FIG.
上述の如く、本実施例においてはワイヤボンディング時
は各リード先端部9がブリッジ部7により相互に接続さ
れているためリード先端部9の強度が極めて高い、この
ため、幅が狭いリード1においてもリード先端部9の変
形を回避できるから、リード落ち等のボンディング不良
を防止できる。As mentioned above, in this embodiment, during wire bonding, the lead tips 9 are connected to each other by the bridge part 7, so the strength of the lead tips 9 is extremely high. Therefore, even if the lead 1 has a narrow width, Since deformation of the lead tip 9 can be avoided, bonding defects such as lead drop can be prevented.
第5図は本発明の第2の実施例方法を示す平面図、第6
図は第5図の矢印■で示す領域の拡大図、第7図は本実
施例により完成した半導体装置を示す一部破断断面図、
第8図は第7図の矢印■で示す領域の拡大斜視図である
。FIG. 5 is a plan view showing the second embodiment method of the present invention, and FIG.
The figure is an enlarged view of the area indicated by the arrow ■ in FIG. 5, and FIG.
FIG. 8 is an enlarged perspective view of the area indicated by the arrow ■ in FIG. 7.
本実施例においては、メタライズ化されたパターンが形
成された絶縁性セラミック基板12を使用して半導体装
置を製造する。In this embodiment, a semiconductor device is manufactured using an insulating ceramic substrate 12 on which a metallized pattern is formed.
このセラミック基板12は複数層のセラミック層で構成
されている。そして、この基板12の中央部は半導体素
子15の搭載領域であり、この搭載領域の周囲にはメタ
ライズ化されたリード11及びブリッジ部17のパター
ンが形成されている。This ceramic substrate 12 is composed of a plurality of ceramic layers. The central portion of this substrate 12 is a mounting area for a semiconductor element 15, and a pattern of metalized leads 11 and a bridge portion 17 is formed around this mounting area.
なお、各リード11はその先端部19がブリッジ部17
により相互に接続されている。Note that each lead 11 has its tip 19 connected to the bridge portion 17.
are interconnected by.
本実施例においては、上述の如くメタライズパターンが
形成されたセラミック基板12の中央部に半導体素子1
5を固着する。そして、半導体素子15の電極とリード
先端部19とを夫々ボンディングワイヤ14により接続
する。In this embodiment, the semiconductor element 1 is placed in the center of the ceramic substrate 12 on which the metallized pattern is formed as described above.
Fix 5. Then, the electrodes of the semiconductor element 15 and the lead tips 19 are connected by bonding wires 14, respectively.
次に、各リード先端部19間のブリッジ部17(第6図
斜線部分)をレーザ装置で切断して各リード11を電気
的に分離する。Next, each lead 11 is electrically separated by cutting the bridge portion 17 (shaded area in FIG. 6) between each lead tip 19 using a laser device.
次いで、第7図に示すように、セラミック基板12上に
金属キャップ20を封止用ろう材21で接着し、半導体
素子15等を封止する。Next, as shown in FIG. 7, a metal cap 20 is bonded onto the ceramic substrate 12 with a sealing brazing material 21 to seal the semiconductor element 15 and the like.
上述の如く、本実施例においては各リード11はその先
端部19がブリッジ部17により相互に接続されて形成
されている。このため、リード先端部の上面の平坦性が
リードの幅に依存しないから、多ピン化された半導体装
置用のリードであってもその上面の平坦性は優れている
。これにより、第8図に示すように常に良好なボンディ
ングを行うことができる。As described above, in this embodiment, the tips 19 of each lead 11 are connected to each other by the bridge portion 17. Therefore, the flatness of the top surface of the lead tip does not depend on the width of the lead, so even if the lead is for a semiconductor device with a large number of pins, the flatness of the top surface is excellent. Thereby, as shown in FIG. 8, good bonding can always be performed.
[発明の効果コ
以上説明したように本発明によれば、半導体素子の電極
と、少なくとも先端部がブリッジ部により相互に接続さ
れたリードのその先端部とをボンディングワイヤにより
接続した後、前記ブリッジ部をレーザビームの照射によ
り切断するから、リードフレームを使用する半導体装置
においては、リード先端部の強度が向上し、その変形が
防止されて、リード先端部のボンディング時の位置精度
が向上する。このため、多ビン化された半導体装置用の
細線化されたリードであっても、極めて高いボンディン
グ歩留りを確保できる。また、メタライズ化されたリー
ドを有する半導体装置においては、リード先端部上面の
平坦性がリードの幅に依存しなくなるから、細線化され
たリードであってもその上面は平坦である。このため、
リード先端部のボンディング性が著しく向上する。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, after connecting the electrode of a semiconductor element and the tip end of the lead whose tip end portions are mutually connected by the bridge portion with a bonding wire, Since the portion is cut by laser beam irradiation, in a semiconductor device using a lead frame, the strength of the lead tip portion is improved, its deformation is prevented, and the positional accuracy of the lead tip portion during bonding is improved. Therefore, an extremely high bonding yield can be ensured even with thinned leads for multi-bin semiconductor devices. Furthermore, in a semiconductor device having metalized leads, the flatness of the top surface of the lead tip does not depend on the width of the lead, so even if the lead is thin, the top surface is flat. For this reason,
Bonding properties at the lead tips are significantly improved.
従って、本発明によれば細線化されたリードに対して良
好な状態でワイヤボンディングを行うことが可能であり
、高信頼性の半導体装置を製造できる。Therefore, according to the present invention, wire bonding can be performed on thinned leads in good condition, and a highly reliable semiconductor device can be manufactured.
第1図は本発明の第1の実施例方法を示す平面図、第2
図は第1図の矢印■で示す領域の拡大図、第3図は第1
の実施例により完成した半導体装置を示す一部破断断面
図、第4図は第3図の矢印■で示す領域の拡大斜視図、
第5図は本発明の第2の実施例方法を示す平面図、第6
図は第5図の矢印■で示す領域の拡大図、第7図は第2
の実施例により完成した半導体装置を示す一部破断断面
図、第8図は第7図の矢印■で示す領域の拡大斜視図で
ある。FIG. 1 is a plan view showing the method of the first embodiment of the present invention, and FIG.
The figure is an enlarged view of the area indicated by the arrow ■ in Figure 1, and Figure 3 is an enlarged view of the area indicated by the arrow ■ in Figure 1.
FIG. 4 is an enlarged perspective view of the area indicated by the arrow ■ in FIG. 3;
FIG. 5 is a plan view showing the second embodiment method of the present invention, and FIG.
The figure is an enlarged view of the area indicated by the arrow ■ in Figure 5, and Figure 7 is an enlarged view of the area indicated by the arrow ■ in Figure 5.
FIG. 8 is an enlarged perspective view of the area indicated by the arrow ▪ in FIG. 7. FIG.
Claims (1)
接続された複数本のリードの前記先端部と半導体素子の
電極とをボンディングワイヤにより電気的に接続する工
程と、前記ブリッジ部をレーザビームの照射により切断
する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製
造方法。(1) A step of electrically connecting the tips of a plurality of leads, at least the tips of which are connected to each other by a bridge portion, and an electrode of a semiconductor element using a bonding wire, and irradiating the bridge portion with a laser beam. 1. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of cutting the semiconductor device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1047784A JPH02224362A (en) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | Manufacture of semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1047784A JPH02224362A (en) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | Manufacture of semiconductor device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02224362A true JPH02224362A (en) | 1990-09-06 |
Family
ID=12785001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1047784A Pending JPH02224362A (en) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | Manufacture of semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02224362A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03123063A (en) * | 1989-10-05 | 1991-05-24 | Seiko Epson Corp | Semiconductor device lead frame and manufacture thereof |
| WO2011149422A1 (en) * | 2003-01-13 | 2011-12-01 | Infineon Technologies Ag | Method of packaging a wire-bonded integrated circuit |
-
1989
- 1989-02-27 JP JP1047784A patent/JPH02224362A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03123063A (en) * | 1989-10-05 | 1991-05-24 | Seiko Epson Corp | Semiconductor device lead frame and manufacture thereof |
| WO2011149422A1 (en) * | 2003-01-13 | 2011-12-01 | Infineon Technologies Ag | Method of packaging a wire-bonded integrated circuit |
| US8535986B2 (en) | 2003-01-13 | 2013-09-17 | Infineon Technologies Ag | Method of packaging an integrated circuit using a laser to remove material from a portion of a lead frame |
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