JPH0222527A - 干渉計における被検レンズのアライメント方法及びその調整装置 - Google Patents
干渉計における被検レンズのアライメント方法及びその調整装置Info
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- JPH0222527A JPH0222527A JP63172446A JP17244688A JPH0222527A JP H0222527 A JPH0222527 A JP H0222527A JP 63172446 A JP63172446 A JP 63172446A JP 17244688 A JP17244688 A JP 17244688A JP H0222527 A JPH0222527 A JP H0222527A
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- light
- pinhole
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- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、干渉計における被検レンズのアライメントに
関するものである。
関するものである。
（従来の技術）
従来、干渉計に装着された被検レンズのアライメントは
不透明部材にピンホールを設け、かかるピンホール部材
を参照レンズと被検レンズの間で移動させることによっ
て行われていた。
不透明部材にピンホールを設け、かかるピンホール部材
を参照レンズと被検レンズの間で移動させることによっ
て行われていた。
具体的には、まず第１段階として、参照レンズからの光
がピンホールを通過するようにピンホール部材を光軸方
向に移動させ、ピンホール部材が参照レンズの焦点位置
に達したらその位置でピンホール部材の移動を止める。
がピンホールを通過するようにピンホール部材を光軸方
向に移動させ、ピンホール部材が参照レンズの焦点位置
に達したらその位置でピンホール部材の移動を止める。
次に、第２段階として、ピンホールを通過後被検レンズ
に入射し、被検レンズから反射されてきた光が再びピン
ホールを逆方向に通過するように被検レンズを光軸方向
及びこれに直角な方向に移動させ、被検レンズの曲率中
心がピンホールと一致した時に被検レンズの移動を止め
る。これで、アライメントは終了する。
に入射し、被検レンズから反射されてきた光が再びピン
ホールを逆方向に通過するように被検レンズを光軸方向
及びこれに直角な方向に移動させ、被検レンズの曲率中
心がピンホールと一致した時に被検レンズの移動を止め
る。これで、アライメントは終了する。
（発明が解決しようとする課題）
上記第２段階の調整を行う際、ピンホール部材が不透明
なため、被検レンズからの反射光を参照レンズ側から観
察し反射光の集光する位置を見ることができないので、
アライメントが困難である。
なため、被検レンズからの反射光を参照レンズ側から観
察し反射光の集光する位置を見ることができないので、
アライメントが困難である。
特に被検レンズの曲率半径が小さくなると、ピンホール
部材が被検レンズに接近するため調整がしにくくなる。
部材が被検レンズに接近するため調整がしにくくなる。
本発明は、従来のアライメント方法の上記困難を克照す
るためになされたもので、参照レンズからピンホール部
材を順方向に照射する光をピンホール部材の逆向きから
見ることは勿論、ピンホールを通過後被検レンズに入射
し、被検レンズから反射されてピンホール部材を逆方向
に照射する光をも参照レンズ側から見ることも可能にす
ることによって、被検レンズのアライメントを容易にす
る方法及びそのための装置を提供することを目的どして
いる。
るためになされたもので、参照レンズからピンホール部
材を順方向に照射する光をピンホール部材の逆向きから
見ることは勿論、ピンホールを通過後被検レンズに入射
し、被検レンズから反射されてピンホール部材を逆方向
に照射する光をも参照レンズ側から見ることも可能にす
ることによって、被検レンズのアライメントを容易にす
る方法及びそのための装置を提供することを目的どして
いる。
（課題を解決するための手段）
上記目的を達成するため、本発明の干渉計における被検
レンズの調整装置にあっては、可干渉性の光を発するレ
ーザー光源と、レーザー光源を平行光束とするコリメー
ターレンズと、コリメーターレンズからの光を受け取り
参照面においてその光の一部を反射し残りの部分を被検
レンズに照射する参照レンズ部と、参照レンズ部からの
光を受け取り被検レンズを光軸方向及びこれに直角な方
向に移動可能とする調整手段を備えた被検レンズ部とを
包含し、該被検レンズから反射された光を上記参照面で
反射された光と併せて干渉縞を形成する干渉計において
、上記参照レンズ部と上記被検レンズ部との間にもしく
は上記コリメーターレンズの入射瞳に共役な位置を中心
として移動可能な半透明部材にピンホールを設けてピン
ホール部とし、上記ピンホール部は、上記参照レンズ部
からの光をピンホール部のピンホール内を通過させるよ
うにしつつ参照部からの上記光が集光する位置に配置さ
れ、上記調整手段は、上記被検レンズからの光をピンホ
ール内を通過させることによって上記被検レンズの曲率
中心が上記ピンホールの位置に配置されるように被検レ
ンズを調整するよう構成する。
レンズの調整装置にあっては、可干渉性の光を発するレ
ーザー光源と、レーザー光源を平行光束とするコリメー
ターレンズと、コリメーターレンズからの光を受け取り
参照面においてその光の一部を反射し残りの部分を被検
レンズに照射する参照レンズ部と、参照レンズ部からの
光を受け取り被検レンズを光軸方向及びこれに直角な方
向に移動可能とする調整手段を備えた被検レンズ部とを
包含し、該被検レンズから反射された光を上記参照面で
反射された光と併せて干渉縞を形成する干渉計において
、上記参照レンズ部と上記被検レンズ部との間にもしく
は上記コリメーターレンズの入射瞳に共役な位置を中心
として移動可能な半透明部材にピンホールを設けてピン
ホール部とし、上記ピンホール部は、上記参照レンズ部
からの光をピンホール部のピンホール内を通過させるよ
うにしつつ参照部からの上記光が集光する位置に配置さ
れ、上記調整手段は、上記被検レンズからの光をピンホ
ール内を通過させることによって上記被検レンズの曲率
中心が上記ピンホールの位置に配置されるように被検レ
ンズを調整するよう構成する。
一方、干渉計における被検レンズのアライメント方法と
しては、可干渉性の光を発するレーザー光源と、レーザ
ー光源からの光を平行光束とするコリメーターレンズと
、コリメーターレンズからの光を受け取り参照面におい
てその光の一部を反射し残りの部分を被検レンズに照射
する参照レンズと、参照レンズ部からの光を受け取り被
検レンズを光軸方向及びこれに直角な方向に移動可能と
する調整手段を備えた被検レンズ部とを包含し、該被検
レンズから反射された光を上記参照面で反射された光を
併せて干渉縞を形成する干渉計において、半透明な部材
にピンホールを設けたピンホール部材を上記参照レンズ
部と上記被検レンズ部との間において、もしくは上記コ
リメーターレンズの入射瞳に共役な位置を中心として移
動可能に配置し、上記ピンホール部を上記参照レンズ部
からの光がピンホール部へ投射される位置から参照部か
らの上記光が集光する位置へ移動させて配置し、上記被
検レンズからの光をピンホール部のピンホール内を通過
させることによって、上記被検レンズの曲率中心が上記
ピンホールの位置に配置されるように上記被検レンズを
上記調整手段で調整するよう構成される。
しては、可干渉性の光を発するレーザー光源と、レーザ
ー光源からの光を平行光束とするコリメーターレンズと
、コリメーターレンズからの光を受け取り参照面におい
てその光の一部を反射し残りの部分を被検レンズに照射
する参照レンズと、参照レンズ部からの光を受け取り被
検レンズを光軸方向及びこれに直角な方向に移動可能と
する調整手段を備えた被検レンズ部とを包含し、該被検
レンズから反射された光を上記参照面で反射された光を
併せて干渉縞を形成する干渉計において、半透明な部材
にピンホールを設けたピンホール部材を上記参照レンズ
部と上記被検レンズ部との間において、もしくは上記コ
リメーターレンズの入射瞳に共役な位置を中心として移
動可能に配置し、上記ピンホール部を上記参照レンズ部
からの光がピンホール部へ投射される位置から参照部か
らの上記光が集光する位置へ移動させて配置し、上記被
検レンズからの光をピンホール部のピンホール内を通過
させることによって、上記被検レンズの曲率中心が上記
ピンホールの位置に配置されるように上記被検レンズを
上記調整手段で調整するよう構成される。
（実施例）
以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。
第１図は本発明に関する被検レンズ調整装置の光学構成
の全体図を示す。光源であるレーザー１０１からの光は
、ミラー１０２により光路を変換された後、コンデンサ
ーレンズ１０３により集光される。この集光点の近傍に
はピンホール１０４ａを有するピンホールレチクル板１
０４が配置されている。このピンホール１０４ａを通過
した発散光は、ピンホール１０４ａを二次光源とするよ
うに作用する。
の全体図を示す。光源であるレーザー１０１からの光は
、ミラー１０２により光路を変換された後、コンデンサ
ーレンズ１０３により集光される。この集光点の近傍に
はピンホール１０４ａを有するピンホールレチクル板１
０４が配置されている。このピンホール１０４ａを通過
した発散光は、ピンホール１０４ａを二次光源とするよ
うに作用する。
コリメーター光軸１０６が、その焦点がピンホール１０
４ａに位置するように配設される。ピンホール１０４ａ
を二次光源としてピンホール１０４ａから射出された光
束は、コリメーターレンズ１０６により平行光束とされ
る。コリメーターレンズ１０６の後方には参照レンズ２
００が配置されている。この参照レンズ２００はその前
側凹面に参照面１０７が装置光軸（コリメーター光軸）
０１に対して垂直になるように形成されている。
４ａに位置するように配設される。ピンホール１０４ａ
を二次光源としてピンホール１０４ａから射出された光
束は、コリメーターレンズ１０６により平行光束とされ
る。コリメーターレンズ１０６の後方には参照レンズ２
００が配置されている。この参照レンズ２００はその前
側凹面に参照面１０７が装置光軸（コリメーター光軸）
０１に対して垂直になるように形成されている。
参照レンズ２００を透過した平行光束は集光束となり、
点Ｐにおいて一旦集束した後、再び発散光となって被検
レンズＴの第１面を形成する凹面に入射する。なお、被
検レンズＴは装置鏡筒１０９に取付けられていて、装置
鏡筒１０９は被検レンズＴを光軸方向及び光軸に直角な
方向に移動させる調整機構ＡＤに結合されている。被検
レンズＴと調整機構ＡＤは被検レンズ部３００を形成し
ている。
点Ｐにおいて一旦集束した後、再び発散光となって被検
レンズＴの第１面を形成する凹面に入射する。なお、被
検レンズＴは装置鏡筒１０９に取付けられていて、装置
鏡筒１０９は被検レンズＴを光軸方向及び光軸に直角な
方向に移動させる調整機構ＡＤに結合されている。被検
レンズＴと調整機構ＡＤは被検レンズ部３００を形成し
ている。
被検レンズＴから反射された物体光と、参照面１０８か
ら反射された参照光とは、ピンホールレチクル板１０４
とコリメーターレンズ１０６との間において光軸Ｏ０に
対しそのハーフミラ−面１１０ａを斜設したビームスプ
リッタ−１１０に入射する。
ら反射された参照光とは、ピンホールレチクル板１０４
とコリメーターレンズ１０６との間において光軸Ｏ０に
対しそのハーフミラ−面１１０ａを斜設したビームスプ
リッタ−１１０に入射する。
レーザー１０１、ミラー１０２、コンデンサーレンズ１
０３、ピンホールレチクル１０４、ビームスプリッタ−
１１０、コリメーターレンズ１０６、参照面１０８、参
照レンズ１０７及び被検レンズＴは１つの共通ベース１
００上に設置される。
０３、ピンホールレチクル１０４、ビームスプリッタ−
１１０、コリメーターレンズ１０６、参照面１０８、参
照レンズ１０７及び被検レンズＴは１つの共通ベース１
００上に設置される。
ビームスプリッタ−１１０に入射した物体光と参照光は
ともにハーフミラ−面１１０ａで反射され、被検レンズ
Ｔ（図示の場合はその第１面が凹面）の共役位置に配置
されている凹面被検レンズＴ用の第１ホログラム４００
に垂直に入射する。
ともにハーフミラ−面１１０ａで反射され、被検レンズ
Ｔ（図示の場合はその第１面が凹面）の共役位置に配置
されている凹面被検レンズＴ用の第１ホログラム４００
に垂直に入射する。
凹面用第１ホログラム４００を通過した光束はコリメー
ターレンズ１０６の入射瞳に共役な点Ｑにおいて一旦集
束して上記物体光及び参照光の合成像を結像するが、こ
の像は結像レンズ１１２を介して空間フィルター１１３
に結像される。
ターレンズ１０６の入射瞳に共役な点Ｑにおいて一旦集
束して上記物体光及び参照光の合成像を結像するが、こ
の像は結像レンズ１１２を介して空間フィルター１１３
に結像される。
この空間フィルター１１３は、参照光と物体光の内、凹
面用第１ホログラム４００で回折された一方の光と、凹
面用第１ホログラム４００で回折されなかった他方の光
のみを選択的に取出すためのものである。より具体的に
述べるならば、この空間フィルター１１３は、例えば参
照面１０８からの参照光で凹面用第１ホログラム４００
により回折されなかった０次参照光と、被検レンズＴか
らの物体光で凹面用第１ホログラム４００で回折された
１次物体光のみを選択的に取り出し、参照光の回折光や
物体光の０次及び２次以上の高次回折光はカットされる
ように作用する。
面用第１ホログラム４００で回折された一方の光と、凹
面用第１ホログラム４００で回折されなかった他方の光
のみを選択的に取出すためのものである。より具体的に
述べるならば、この空間フィルター１１３は、例えば参
照面１０８からの参照光で凹面用第１ホログラム４００
により回折されなかった０次参照光と、被検レンズＴか
らの物体光で凹面用第１ホログラム４００で回折された
１次物体光のみを選択的に取り出し、参照光の回折光や
物体光の０次及び２次以上の高次回折光はカットされる
ように作用する。
なお、被検レンズＴの第１面が凸面である場合には、該
凸面の曲率中心が参照レンズ１０７の焦点Ｐに一致する
ように被検レンズＴを光軸０．上に配置する。この場合
は、被検レンズＴの上記凸面に対する共役位置に凸面被
検レンズＴ用の第２ホログラム５００が光軸０２に垂直
に配置される。
凸面の曲率中心が参照レンズ１０７の焦点Ｐに一致する
ように被検レンズＴを光軸０．上に配置する。この場合
は、被検レンズＴの上記凸面に対する共役位置に凸面被
検レンズＴ用の第２ホログラム５００が光軸０２に垂直
に配置される。
空間フィルター１１３で選択された物体光と参照先は図
示されない撮影レンズを介してテレビカメラ１１４の撮
像面（図示せず）上に参照光と物体光の干渉縞を形成す
る。テレビカメラの撮影像はモニターテレビ（図示せず
）とパーソナルコンピュータで構成される干渉縞解析装
置（図示せず）へ送られる。
示されない撮影レンズを介してテレビカメラ１１４の撮
像面（図示せず）上に参照光と物体光の干渉縞を形成す
る。テレビカメラの撮影像はモニターテレビ（図示せず
）とパーソナルコンピュータで構成される干渉縞解析装
置（図示せず）へ送られる。
凹面被検レンズ用第１ホログラム４００、凸面被検レン
ズ用第２ホログラム５００、結像レンズ１１２、空間フ
ィルター１１３及びテレビカメラ１１４は被検レンズＴ
は干渉計の干渉縞形成部を構成して、前記共通ベース１
００上に載設される。
ズ用第２ホログラム５００、結像レンズ１１２、空間フ
ィルター１１３及びテレビカメラ１１４は被検レンズＴ
は干渉計の干渉縞形成部を構成して、前記共通ベース１
００上に載設される。
第２図は、被検レンズＴのアライメントに使用されるピ
ンホール部材６００を示す。ピンホール部材６００は中
央にピンホール６０１を穿設された不透明材料で作られ
た板６０２、支持台６０３及び板６０２と支持台６０３
を結合する支柱６０４から成る。
ンホール部材６００を示す。ピンホール部材６００は中
央にピンホール６０１を穿設された不透明材料で作られ
た板６０２、支持台６０３及び板６０２と支持台６０３
を結合する支柱６０４から成る。
被検レンズＴのアライメントは、被検レンズＴの第１面
が凹面の場合は、ピンホール部材６００の支持台６０３
を共通ベース１００上に載置し、ピンホール部材６００
の支柱６０４を掴持しつつピンホール部材６００を光軸
０．に沿って移動させ、ピンホール５０１が参照レンズ
２００の焦点Ｐに達したら移動を止める。次いで、調整
機構ＡＤにより被検レンズＴを光軸方向及びこれに直角
な方向に移動させ被検レンズＴの第１面の凹面の曲率中
心がピンホール６０１と一致した位置で調整を終える。
が凹面の場合は、ピンホール部材６００の支持台６０３
を共通ベース１００上に載置し、ピンホール部材６００
の支柱６０４を掴持しつつピンホール部材６００を光軸
０．に沿って移動させ、ピンホール５０１が参照レンズ
２００の焦点Ｐに達したら移動を止める。次いで、調整
機構ＡＤにより被検レンズＴを光軸方向及びこれに直角
な方向に移動させ被検レンズＴの第１面の凹面の曲率中
心がピンホール６０１と一致した位置で調整を終える。
被検レンズＴの第１面が凸面の場合は、ピンホール部材
６００の支持台６０３を共通ベース１００上に載置し、
ピンホール部材６００の支柱６０４を掴持しつつピンホ
ール部材６００を光軸０□に沿って移動させ、ピンホー
ル６０１がコリメーターレンズ１０６の入射瞳に共役な
位置Ｑに達したら移動を止める。
６００の支持台６０３を共通ベース１００上に載置し、
ピンホール部材６００の支柱６０４を掴持しつつピンホ
ール部材６００を光軸０□に沿って移動させ、ピンホー
ル６０１がコリメーターレンズ１０６の入射瞳に共役な
位置Ｑに達したら移動を止める。
次いで、調整機構ＡＤにより被検レンズＴを光軸方向及
びこれに直角な方向に移動させ被検レンズＴの第１面の
凸面の曲率中心がピンホール６０１と一致した位置で調
整を終える。
びこれに直角な方向に移動させ被検レンズＴの第１面の
凸面の曲率中心がピンホール６０１と一致した位置で調
整を終える。
（発明の効果）
本発明によれば、被検レンズを干渉計に装着してアライ
メントを行う場合、参照レンズからピンホール部材のピ
ンホールを順方向に照射する光をピンホール部材の逆向
きから見ることは勿論、ピンホールを通過後被検レンズ
に入射し、被検レンズから反射されてピンホールを逆方
向に照射する光をも参照レンズ側から見ることができる
。従って被検レンズからの反射光が照射する位置を観察
することができるので、調整が容易になり、調整時間が
大幅に短縮されるという効果を奏する。
メントを行う場合、参照レンズからピンホール部材のピ
ンホールを順方向に照射する光をピンホール部材の逆向
きから見ることは勿論、ピンホールを通過後被検レンズ
に入射し、被検レンズから反射されてピンホールを逆方
向に照射する光をも参照レンズ側から見ることができる
。従って被検レンズからの反射光が照射する位置を観察
することができるので、調整が容易になり、調整時間が
大幅に短縮されるという効果を奏する。
第１図は本発明の１実施例である被検レンズ調整装置の
光学図、第２図は上記調整装置に使用されるピンホール
部の側面図である。 １０１ ・レーザー光源 １０６ ・コリメーターレンズ １０７ ・参照レンズ １０８・ ・参照面 ２００ ・参照レンズ部 ３００・ ・被検レンズ部 ６００ ・ピンホール部 ６０１ ・ピンホール Ｔ ・ Ｐ ・ ・被検レンズ ・被検レンズの曲率中心 姑１ 図 ＡＤ ・ 調整装置 第２図 １、事件の表示 ３、補正をする者 事件との関係 ４、代 ５、補正命令の日付 昭和６３年特許願第１ ７２４４６号 東京光学機械株式会社 （１）特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。 （２）明細書を以下の通り訂正する。 頁 行 訂正前 訂正後 ６ ９．１０ を光軸力・・・ の位置を移動
可能と 調整 ７ １２ を光軸力・・・ の位置を移動可能
と 調整 ８ １９ 、モンズ レンズ８ ２０
配設 配置 ９ ４．５．９（３個所）レンズ レンズ部１２
１３ 不透明 半透明１３ １
レンズ レンズ部１４ １５
レンズ 面１４ １６ 面
レンズ特許請求の範囲 （１） 可干渉性の光を発するレーザー光源と、レー
ザー光源からの光を平行光束とするコリメーターレンズ
と、コリメーターレンズからの光を受け取り参照面にお
いてその光の一部を反射し残りの部分を被検レンズに照
射する参照レンズ部と、参照レンズ部からの光を受け取
り被検レンズの位置を調整する調整手段を備えた被検レ
ンズ部とを包含し、該被検レンズから反射された光を上
記参照面で反射された光と併せて干渉縞を形成する干渉
計において、 上記参照レンズ部と上記被検レンズ部との間に、もしく
は上記コリメーターレンズの入射瞳に共役な位置を中心
として移動可能な半透明部材にピンホールを設けてピン
ホール部とし、該ピンホール部を、上記参照レンズ部か
らの光をピンホール部のピンホール内を通過させるよう
にしつつ参照レンズ部からの上記光が集光する位置に配
置し、 上記調整手段を、上記被検レンズからの光をピンホール
内を通過させることによって上記被検レンズの曲率中心
が上記ピンホールの位置に配置されるように被検レンズ
を調整するようにしたことを特徴とする干渉計における
被検レンズのアライメント装置。 （２）可干渉性の光を発するレーザー光源と、レーザー
光源からの光を平行光束とするコリメーターレンズと、
コリメーターレンズからの光を受け取り参照面において
その光の一部を反射し残りの部分を被検レンズ部に照射
する参照レンズ部と、参照レンズ部からの光を受け取り
被検レンズの位置を調整する調整手段を備えた被検レン
ズ部とを包含し、該被検レンズから反射された光を上記
参照面で反射された光と併せて干渉縞を形成する干渉計
において、 半透明部材にピンホールを設けたピンホール部材を上記
参照レンズ部と上記被検レンズ部との間において、もし
くは上記コリメーターレンズの入射瞳に共役な位置を中
心として移動可能に配置し、 上記ピンホール部を上記参照部からの光がピンホール部
へ投射される位置から参照部からの上記光が集光する位
置へ移動させて配置し、上記被検レンズからの光をピン
ホール部のピンホール内を通過させることによって、上
、記被検レンズの曲率中心が上記ピンホールの位置に配
置されるように上記被検レンズを上記調整手段で調整す
るようにしたことを特徴とする干渉計における被検レン
ズのアライメント方法。
光学図、第２図は上記調整装置に使用されるピンホール
部の側面図である。 １０１ ・レーザー光源 １０６ ・コリメーターレンズ １０７ ・参照レンズ １０８・ ・参照面 ２００ ・参照レンズ部 ３００・ ・被検レンズ部 ６００ ・ピンホール部 ６０１ ・ピンホール Ｔ ・ Ｐ ・ ・被検レンズ ・被検レンズの曲率中心 姑１ 図 ＡＤ ・ 調整装置 第２図 １、事件の表示 ３、補正をする者 事件との関係 ４、代 ５、補正命令の日付 昭和６３年特許願第１ ７２４４６号 東京光学機械株式会社 （１）特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。 （２）明細書を以下の通り訂正する。 頁 行 訂正前 訂正後 ６ ９．１０ を光軸力・・・ の位置を移動
可能と 調整 ７ １２ を光軸力・・・ の位置を移動可能
と 調整 ８ １９ 、モンズ レンズ８ ２０
配設 配置 ９ ４．５．９（３個所）レンズ レンズ部１２
１３ 不透明 半透明１３ １
レンズ レンズ部１４ １５
レンズ 面１４ １６ 面
レンズ特許請求の範囲 （１） 可干渉性の光を発するレーザー光源と、レー
ザー光源からの光を平行光束とするコリメーターレンズ
と、コリメーターレンズからの光を受け取り参照面にお
いてその光の一部を反射し残りの部分を被検レンズに照
射する参照レンズ部と、参照レンズ部からの光を受け取
り被検レンズの位置を調整する調整手段を備えた被検レ
ンズ部とを包含し、該被検レンズから反射された光を上
記参照面で反射された光と併せて干渉縞を形成する干渉
計において、 上記参照レンズ部と上記被検レンズ部との間に、もしく
は上記コリメーターレンズの入射瞳に共役な位置を中心
として移動可能な半透明部材にピンホールを設けてピン
ホール部とし、該ピンホール部を、上記参照レンズ部か
らの光をピンホール部のピンホール内を通過させるよう
にしつつ参照レンズ部からの上記光が集光する位置に配
置し、 上記調整手段を、上記被検レンズからの光をピンホール
内を通過させることによって上記被検レンズの曲率中心
が上記ピンホールの位置に配置されるように被検レンズ
を調整するようにしたことを特徴とする干渉計における
被検レンズのアライメント装置。 （２）可干渉性の光を発するレーザー光源と、レーザー
光源からの光を平行光束とするコリメーターレンズと、
コリメーターレンズからの光を受け取り参照面において
その光の一部を反射し残りの部分を被検レンズ部に照射
する参照レンズ部と、参照レンズ部からの光を受け取り
被検レンズの位置を調整する調整手段を備えた被検レン
ズ部とを包含し、該被検レンズから反射された光を上記
参照面で反射された光と併せて干渉縞を形成する干渉計
において、 半透明部材にピンホールを設けたピンホール部材を上記
参照レンズ部と上記被検レンズ部との間において、もし
くは上記コリメーターレンズの入射瞳に共役な位置を中
心として移動可能に配置し、 上記ピンホール部を上記参照部からの光がピンホール部
へ投射される位置から参照部からの上記光が集光する位
置へ移動させて配置し、上記被検レンズからの光をピン
ホール部のピンホール内を通過させることによって、上
、記被検レンズの曲率中心が上記ピンホールの位置に配
置されるように上記被検レンズを上記調整手段で調整す
るようにしたことを特徴とする干渉計における被検レン
ズのアライメント方法。
Claims (2)
- （１）可干渉性の光を発するレーザー光源と、レーザー
光源からの光を平行光束とするコリメーターレンズと、
コリメーターレンズからの光を受け取り参照面において
その光の一部を反射し残りの部分を被検レンズに照射す
る参照レンズ部と、参照レンズ部からの光を受け取り被
検レンズを光軸方向及びこれに直角な方向に移動可能と
する調整手段を備えた被検レンズ部とを包含し、該被検
レンズから反射された光を上記参照面で反射された光と
併せて干渉縞を形成する干渉計において、 上記参照レンズ部と上記被検レンズ部との間に、もしく
は上記コリメーターレンズの入射瞳に共役な位置を中心
として移動可能な半透明部材にピンホールを設けてピン
ホール部とし、該ピンホール部を、上記参照レンズ部か
らの光をピンホール部のピンホール内を通過させるよう
にしつつ参照レンズ部からの上記光が集光する位置に配
置し、 上記調整手段を、上記被検レンズからの光をピンホール
内を通過させることによって上記被検レンズの曲率中心
が上記ピンホールの位置に配置されるように被検レンズ
を調整するようにしたことを特徴とする干渉計における
被検レンズのアライメント装置。 - （２）可干渉性の光を発するレーザー光源と、レーザー
光源からの光を平行光束とするコリメーターレンズと、
コリメーターレンズからの光を受け取り参照面において
その光の一部を反射し残りの部分を被検レンズ部に照射
する参照レンズ部と、参照レンズ部からの光を受け取り
被検レンズを光軸方向及びこれに直角な方向に移動可能
とする調整手段を備えた被検レンズ部とを包含し、該被
検レンズから反射された光を上記参照面で反射された光
と併せて干渉縞を形成する干渉計において、 半透明部材にピンポールを設けたピンホール部材を上記
参照レンズ部と上記被検レンズ部との間において、もし
くは上記コリメーターレンズの入射瞳に共役な位置を中
心として移動可能に配置し、 上記ピンホール部を上記参照部からの光がピンホール部
へ投射される位置から参照部からの上記光が集光する位
置へ移動させて配置し、上記被検レンズからの光をピン
ホール部のピンホール内を通過させることによって、上
記被検レンズの曲率中心が上記ピンホールの位置に配置
されるように上記被検レンズを上記調整手段で調整する
ようにしたことを特徴とする干渉計における被検レンズ
のアライメント方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63172446A JP2681372B2 (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 干渉計における被検レンズのアライメント方法及びその調整装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63172446A JP2681372B2 (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 干渉計における被検レンズのアライメント方法及びその調整装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0222527A true JPH0222527A (ja) | 1990-01-25 |
| JP2681372B2 JP2681372B2 (ja) | 1997-11-26 |
Family
ID=15942132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63172446A Expired - Lifetime JP2681372B2 (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 干渉計における被検レンズのアライメント方法及びその調整装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2681372B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5425392A (en) * | 1993-05-26 | 1995-06-20 | Micron Semiconductor, Inc. | Method DRAM polycide rowline formation |
| US5716862A (en) * | 1993-05-26 | 1998-02-10 | Micron Technology, Inc. | High performance PMOSFET using split-polysilicon CMOS process incorporating advanced stacked capacitior cells for fabricating multi-megabit DRAMS |
-
1988
- 1988-07-11 JP JP63172446A patent/JP2681372B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5425392A (en) * | 1993-05-26 | 1995-06-20 | Micron Semiconductor, Inc. | Method DRAM polycide rowline formation |
| US5716862A (en) * | 1993-05-26 | 1998-02-10 | Micron Technology, Inc. | High performance PMOSFET using split-polysilicon CMOS process incorporating advanced stacked capacitior cells for fabricating multi-megabit DRAMS |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2681372B2 (ja) | 1997-11-26 |
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