JPH079500B2 - アライメント光学装置 - Google Patents

アライメント光学装置

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JPH079500B2
JPH079500B2 JP60071657A JP7165785A JPH079500B2 JP H079500 B2 JPH079500 B2 JP H079500B2 JP 60071657 A JP60071657 A JP 60071657A JP 7165785 A JP7165785 A JP 7165785A JP H079500 B2 JPH079500 B2 JP H079500B2
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欣也 加藤
一正 遠藤
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Nikon Corp
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Nippon Kogaku KK
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は、例えば縮小投影型露光装置に用いられるアラ
イメント光学装置に関する。
(発明の背景) 従来、この種のアライメント光学装置としては、例えば
特開昭57-142612号公報に開示されたものがある。その
アライメント光学装置の光路を展開して示したものが第
4図である。
すなわち、ウェハ1のパターン面1a上に設けられたアラ
イメントマークAと、投影対物レンズ2に関してウェハ
1と共約な位置に配置されたレチクル4のパターン面4a
上に設けられたアライメント基準マークBとを通る軸外
光束は、第1対物レンズ5、第2対物レンズ6、コリメ
ーター用正レンズ7および結像レンズ13を介してスクリ
ーン14上に結像され、さらにリレー系第1、第2対物レ
ンズ15、16を介して撮像装置12の撮像面12a上に結像さ
れ、該撮像装置12を通して前記両マークA、Bの像を観
察しながら、ウェハ1あるいはレチクル4の一方を動か
すことにより前記両マークA、Bを所定の関係にするこ
とによって、ウェハ1とレチクル4との位置決め操作を
行えるように成っている。
しかしながら、このような従来のアライメト光学装置で
は、露光時に第1対物レンズ5が不図示の光源からの露
光用照明光を遮らないような位置に該第1対物レンズ5
が配置され、コリメーター用正レンズ7および結像レン
ズ13の光軸は第1、第2対物レンズ5、6と同軸であ
り、かつ前記両マークA、Bを通った斜光束(軸外光
束)が第1対物レンズ5の周辺部に入射し、該斜光束の
みによって前記両マークA、Bを形成させているので、
結像レンズ13からの光束の主光線がスクリーン14に斜め
に入射してしまう。したがって、レチクル4の厚さが変
わった場合に、アライメント基準マークBが裏面にある
ためにスクリーン14上で前記両マークA、Bの像がボケ
るだけでなく、該スクリーン14上で偏位してしまい、か
つこの状態で合焦操作を行なうと前記両マークA、Bの
像がスクリーン上でシフトしてしまい、該両マークA、
Bの正確な位置検出が出来ない虞れがあるという問題点
があった。
さらに、上記従来例では、第1対物レンズ5に入射した
前記斜光束は該第1対物レンズ5以降の各光学部材の周
辺部を通るため、該各光学部材の口径が大きくなり、そ
れによって光学系全体が大型化してしまうという問題点
があった。
(発明の目的) 本発明は、このような従来の問題点に着目して成された
もので、被検物体の像が結像面上でボケたりしても、あ
るいは該被検物体の像の合焦操作を行なっても該被検物
体の像が結像面上で偏位することがなく、該被検物体の
像の正確な位置検出が可能であり、かつ光学系全体を小
型化したアライメント光学装置を提供することを目的と
している。
(発明の概要) かかる目的を達成するための本発明の要旨は、被検物体
からの軸外光束によって該被検物体の像を形成する像形
成光学系と、その像位置を検出する検出手段とを有する
アライメント光学装置において、前記像形成光学系は、
前記被検物体からの軸外光束を平行光束に変換するコリ
メーターレンズ群と、該平行光束を集光する集光レンズ
群とを有して成り、該集光レンズの光軸を前記コリメー
ターレンズ群からの平行光束の主光線にほぼ合致させて
成ることを特徴とするアライメント光学装置に存する。
そして、上記アライメント光学装置では、集光レンズ群
を通過する光束の主光線は集光レンズ群による結像面に
垂直に入射し、かつ該主光線は前記集光レンズ群以降の
各光学部材の中央部を通るように成っている。
(実施例) 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。な
お、従来例と同様の部位には同一符号を付する。
第1図から第3図は本発明の一実施例を示しており、第
1図は本発明に係るアライメント光学装置を用いた縮小
投影型露光装置の光学系配置図で、第2図はそのアライ
メント光学系の展開図である。
第1図に示すように、縮小投影型露光装置は、露光光学
系とアライメント光学系とから成っている。
露光光学系は、投影対物レンズ2、主照明系コンデンサ
ー20、露光用照明光21を発する不図示の光源等から成っ
ている。ウェハ1のパターン面1aとレチクル4のパター
ン面4aとは投影対物レンズ2に関して共役であり、露光
用照明光21により照明されたパターン面4aの像が投影対
物レンズ2によってウエハ1のパターン面1a上に形成さ
れる。パターン面1a上にはアライメントマークAが、パ
ターン面4a上にはアライメント基準マークBがそれぞれ
設けられている。また、符号3は投影対物レンズ2の入
射瞳面である。
第1図および第2図に示すように、アライメント光学系
は、露光時に露光用照明光21の光束を遮らないような位
置に配置されている。
アライメント光学系において、アライメントマークAお
よびアライメント基準マークBを通る斜光束aを第1対
物レンズ5の周辺部に入射させる反射鏡17が、第1対物
レンズ5の光軸50に対して45゜傾けて設けられている。
この光軸50は反射鏡17によりレチクル4に直交してい
る。したがって、光軸50は露光光学系の光軸22に実質的
に平行になっている。
第1対物レンズ5は斜光束aを平行光束に変換するもの
で、その後方には第2対物レンズ6が設けられている。
第2対物レンズ6とその後側焦点位置B1との間にはハー
フミラー18(第2図ではハーフミラー18は省略されてい
る。)が光軸50に対して傾けて設けられている。アライ
メント基準マークBの位置の変更に対応できるように、
反射鏡17および第1対物レンズ5は一体的に光軸50上で
移動可能に成っている。
ハーフミラー18を透過した第2対物レンズ6からの光束
を平行光束に変換するコリメーター用正レンズ7が、そ
の前側焦点位置を前記位置B1に一致させて光軸50上に設
けられている。
コリメーター用正レンズ7の後方にはその平行光束を集
光する結像レンズ8が、その光軸80をコリメーター用正
レンズ7からの平行光束の主光線a1に合致させて配置さ
れている。結像レンズ8の後側焦点位置には、スクリー
ン9が設けられている。
スクリーン9の後方には、該スクリーン9上に再結像さ
れたアライメントマークA、アライメント基準マークB
の像B2を撮像装置12の撮像面12a上に送るリレー系第1
対物レンズ10、リレー系第2対物レンズ11が光軸80と同
軸上に配設されている。スクリーン9はリレー系第1対
物レンズ10の前側焦点位置に、撮像面12aはリレー系第
2対物レンズ11の後側焦点位置にそれぞれ設けられてい
る。また、スクリーン9とリレー系第1対物レンズ10と
は合焦を目的として一体的に光軸方向に移動可能であ
る。
さらに、ハーフミラー18に関して後側焦点位置B1と共役
な位置には視野絞り19が、視野絞り19の後方にはレーザ
ー等のアライメント用照射光源23がそれぞれ設けられて
いる。
ここで、被検物体としての前記両マークA、Bからの斜
光束aによって該両マークA、Bの像B1を形成する像形
成光学系が、反射鏡17、第1対物レンズ5、第2対物レ
ンズ6、コリメーター用正レンズ7、結像レンズ8によ
って構成されている。斜光束aを平行光束a1に変換する
コリメーターレンズ群がコリメーター用正レンズ7によ
り、該平行光束a1を集光する集光レンズ群が結像レンズ
8によりそれぞれ構成されている。また、前記両マーク
A、B(被検物体)の像位置を検出する検出手段がスク
リーン9、リレー系第1対物レンズ10、リレー系第2対
物レンズ11、撮像装置12により構成されている。
上記構成を有する縮小投影型露光装置の動作を説明す
る。
上記アライメント光学系によりアライメントマークA、
アライメント基準マークBの位置決めを行なう際には、
アライメント用照明光源23から照明光が発せられる。こ
の照明光は、視野絞り19を通り、ハーフミラー18で反射
された後第2対物レンズ6、第1対物レンズ5および反
射鏡17を介してアライメント基準マークBを、さらに投
影対物レンズ2を介してアライメントマークAをそれぞ
れ照明する。この時、アライメント用照明光源23らの照
明光は視野絞り19を通って来るので、該照明光はアライ
メントマークA、アライメント基準マークB以外の領域
を照明する虞れはない。照明されたアライメントマーク
A、アライメント基準マークBからの斜光束aは、反射
鏡17で反射された後第1対物レンズ5により平行光束に
変換される。この平行光束は第2対物レンズ6により集
光され、ハーフミラー18を透過して第2対物レンズ6の
後側焦点位置B1に結像される。後側焦点位置B1からの光
束は、コリメーター用正レンズ7により平行光束a1に変
換され、該平行光束a1は結像レンズ8により集光されて
スクリーン9上に前記両マークA、Bの像B2として再結
像される。この像B2はリレー系第1対物レンズ10、リレ
ー系第2対物レンズ11により撮像装置12の撮像面12a上
に送られる。したがって、撮像装置12を通して前記両マ
ークA、Bの像B2を観察できる。
撮像装置12を通して前記両マークA、Bの像B2を観察し
ながら、スクリーン9およびリレー系第1対物レンズ10
を一体的に動かすことにより像B2の合焦操作を行なうと
共にウェハ1あるいはレチクル4の一方を動かすことに
より前記両マークA、Bの所定の関係に合致させて、ウ
ェハ1とレチクル4との位置決め操作を行なう。
この時、結像レンズ8からの光束の主光線はスクリーン
9に垂直に入射しているので、上記合焦操作時に像B2が
スクリーン9上でシフトすることはない。したがって、
前記両マークA、Bの位置決めを正確に行なえる。ま
た、レチクル4の厚さが変わる等により、スクリーン9
上で前記両マークA、Bの像B2がボケた場合に、同様の
理由により該像B2がスクリーン9上で偏位してしまうこ
とはない。
このようにして前記両マークA、Bの位置決め操作が完
了した状態で、前記露光光学系における不図示の光源か
ら露光用照明光21を発する。この露光用照明光21によ
り、レチクル4のパターンは投影対物レンズ2によって
縮小投影されてウェハ1のパターン上に焼き付けられ
る。
上記実施例の構成により、コリメーター用正レンズ7か
ら主光線a1が各光学部材8から11の中央部を通るので、
該各光学部材8から11の口径を小さくでき、これによっ
てアライメント光学系全体を小型化できる。
なお、結像レンズ8の光軸80を主光線a1に正確に合致さ
せるには、第3図に示すようにコリメーター用正レンズ
7と結像レンズ8との間に平行平面板30を入れ、該平行
平面板30を傾けて微調整すれば良い。
なお、結像レンズ8の光軸80を主光線a1に合致させる代
りに、斜光束aを平行光束に変換する第1対物レンズ5
からの該平行光束の主光線に、第2対物レンズ6の光軸
を合致させ、かつ第2対物レンズ6以降の各光学部材
7、8、9、10および11の光軸を第2対物レンズ6の光
軸に合致させて構成しても良い。
この構成により、第1対物レンズ5からの主光線が各光
学部材6から11の中央部を通るので、第2対物レンズ6
からリレー系第2対物レンズ11までの各光学部材の口径
を小さくでき、これによってアライメント光学系全体を
上記実施例の場合よりも更に小型化できる。
このように構成した場合には、斜光束aを平行光束に変
換するコリメーターレンズ群が第1対物レンズ5によ
り、該平行光束を集光する集光レンズ群が第2対物レン
ズ6によりそれぞれ構成されている。
(発明の効果) 本発明に係るアライメント光学装置によれば、集光レン
ズ群の光軸をコリメーターレンズ群からの平行光束の主
光線にほぼ合致させることにより、該集光レンズ群から
の光束の主光線を被検物体の結像面に垂直に入射させて
いるので、合焦操作時に被検物体の像がその結像面上で
シフトすることはないと共に、レチクルやマスクのよう
な被検物体の裏面観察の場合に物体の厚さが変わる等に
よりその結像面上で該被検物体の像がボケた時に、該被
検物体の像が結像面上で偏位してしまうことはないた
め、被検物体の位置決めを正確に行なうことができる。
さらに、本発明に係るアライメント光学装置によれば、
前記集光レンズ群からの主光線が該集光レンズ群以降の
各光学部材の中央部を通るので、該集光レンズ群および
これ以降の各光学部材の口径を小さくでき、これによっ
て光学系全体を小型化できる。
【図面の簡単な説明】
第1図から第3図は本発明の一実施例を示しており、第
1図は装置全体の光学系配置図、第2図はアライメント
光学系の展開光路図、第3図は光軸調整の方法を示す説
明図、第4図は従来例を示す展開光路図である。 1……ウェハ(被検物体) 4……レチクル(被検物体) 5〜8、17……像形成光学系 7……コリメーター用正ンズ(コリメーターレンズ群 8……結像レンズ(集光レンズ群) 9〜12……像位置の検出手段 a……斜光束(軸外光束) a1……平行光束の主光線

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被検物体からの軸外光束によって該被検物
    体の像を形成する像形成光学系と、その像位置を検出す
    る検出手段とを有するアライメント光学装置において、
    前記像形成光学系は、前記被検物体からの軸外光束を平
    行光束に変換するコリメーターレンズ群と、該平行光束
    を集光する集光レンズ群とを有して成り、該集光レンズ
    の光軸を前記コリメーターレンズ群からの平行光束の主
    光線にほぼ合致させて成ることを特徴とするアライメン
    ト光学装置。
JP60071657A 1985-04-04 1985-04-04 アライメント光学装置 Expired - Lifetime JPH079500B2 (ja)

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US06/845,637 US4660966A (en) 1985-04-04 1986-03-28 Optical alignment apparatus

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JPS61230114A JPS61230114A (ja) 1986-10-14
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JPS61230114A (ja) 1986-10-14

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