JPH02232836A - 光磁気ディスク - Google Patents
光磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH02232836A JPH02232836A JP1053133A JP5313389A JPH02232836A JP H02232836 A JPH02232836 A JP H02232836A JP 1053133 A JP1053133 A JP 1053133A JP 5313389 A JP5313389 A JP 5313389A JP H02232836 A JPH02232836 A JP H02232836A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magneto
- magnetic head
- optical disk
- disk
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
光磁気ディスクに関し、
浮上磁気ヘッドによる磁界変調を行うことを目的とし、
ディスク基板上に下地膜．記録膜，保護膜と層構造をな
して形成される光磁気ディスクの前記保護膜上に粗面化
処理を施した樹脂膜を設けて光磁気ディスクを構成する
． 〔産業上の利用分野〕 本発明は浮上磁気ヘッドの使用に適した光磁気ディスク
の構成に関する． 光磁気ディスクは記録膜を垂直磁化している磁性膜で形
成し、外部より磁化方向と反対方向に垂直磁界を加えな
からレーザ光を照射すると、照射した磁性膜が温度上昇
することによって磁性膜の保磁力が減少し、磁化反転が
生じるのを利用して情報の記録と消去とを行うメモリで
ある．そして、情報の再生は磁性膜にレーザ光を照射し
た場合に反射光の偏光面が回転するが、この回転方向が
磁性膜の磁化方向により異なるのを利用して行われてい
る． このように光磁気ディスクは情報の書き換え可能なメモ
リ（ｔ！ｒａｓａｂｌｅ Ｍｅｍｏｒｙ）である点に特
徴があり、電算機用ファイルメモリとして期待されてい
る． 然し、従来の光磁気ディスク装置において、既にディス
クに情報が記録されている場合には、記録情報を消去し
て後に記録を行う必要があり、情報の消去に費やす一回
転分の時間と動作が余分に必要であった。
して形成される光磁気ディスクの前記保護膜上に粗面化
処理を施した樹脂膜を設けて光磁気ディスクを構成する
． 〔産業上の利用分野〕 本発明は浮上磁気ヘッドの使用に適した光磁気ディスク
の構成に関する． 光磁気ディスクは記録膜を垂直磁化している磁性膜で形
成し、外部より磁化方向と反対方向に垂直磁界を加えな
からレーザ光を照射すると、照射した磁性膜が温度上昇
することによって磁性膜の保磁力が減少し、磁化反転が
生じるのを利用して情報の記録と消去とを行うメモリで
ある．そして、情報の再生は磁性膜にレーザ光を照射し
た場合に反射光の偏光面が回転するが、この回転方向が
磁性膜の磁化方向により異なるのを利用して行われてい
る． このように光磁気ディスクは情報の書き換え可能なメモ
リ（ｔ！ｒａｓａｂｌｅ Ｍｅｍｏｒｙ）である点に特
徴があり、電算機用ファイルメモリとして期待されてい
る． 然し、従来の光磁気ディスク装置において、既にディス
クに情報が記録されている場合には、記録情報を消去し
て後に記録を行う必要があり、情報の消去に費やす一回
転分の時間と動作が余分に必要であった。
そのため、重ね書き（Ｏｖｅｒ−ｗｒｉｔｅ）の実現が
要望されていた． 〔従来の技術〕 重ね書きを実現する方法の一つとして、レーザ光を光デ
ィスクに照射しながら、外部磁界を記録すべき情報に合
わせて印加する方法がある。
要望されていた． 〔従来の技術〕 重ね書きを実現する方法の一つとして、レーザ光を光デ
ィスクに照射しながら、外部磁界を記録すべき情報に合
わせて印加する方法がある。
この場合、外部磁界発生部は信号に合わせて高速に磁界
反転することが必要であり、そのためには磁界発生部の
磁気回路は小型で且つ小インダクタンスであることが必
要である． また、磁界発生部は迅速に位置決め制御ができることが
必要である。
反転することが必要であり、そのためには磁界発生部の
磁気回路は小型で且つ小インダクタンスであることが必
要である． また、磁界発生部は迅速に位置決め制御ができることが
必要である。
か＼る要求に対して、従来の磁気ディスク装置に用いら
れている浮上磁気ヘッド（Ｆｌｙｉｎｇ−ｈｅａｄ）を
そのま一使用することができれば、ヘッドアクセス機構
は最適であり、また磁気回路についても現状のま〜で適
用でき、垂直磁界を効率よく発生できるようにすること
で、適用性を大幅に増すことができる． 然し、浮上磁気ヘッド（以下略して磁気ヘッド）を使用
する場合は、ＣＳＳ （コンタクト・スタート・スト
ップ）動作に耐えることが必要である。
れている浮上磁気ヘッド（Ｆｌｙｉｎｇ−ｈｅａｄ）を
そのま一使用することができれば、ヘッドアクセス機構
は最適であり、また磁気回路についても現状のま〜で適
用でき、垂直磁界を効率よく発生できるようにすること
で、適用性を大幅に増すことができる． 然し、浮上磁気ヘッド（以下略して磁気ヘッド）を使用
する場合は、ＣＳＳ （コンタクト・スタート・スト
ップ）動作に耐えることが必要である。
すなわら、磁気ディスク回転の始動時と停止時に磁気ヘ
ッドとの間に発生する摺動摩擦と、浮上の際や塵埃の存
在などによって生ずるヘッドクラッシュ（ｌｌｅａｄ−
ｃｒａｓｈ）に対して、記録膜が耐えて損傷しないこと
が必要である。
ッドとの間に発生する摺動摩擦と、浮上の際や塵埃の存
在などによって生ずるヘッドクラッシュ（ｌｌｅａｄ−
ｃｒａｓｈ）に対して、記録膜が耐えて損傷しないこと
が必要である。
先に記したように磁気ディスク装置において行われてい
る重ね書き法を光磁気ディスクに適用しようとすると、
磁気ヘッドの摺動摩擦やヘッドクラッシュによる記録膜
の破壊が問題となる。
る重ね書き法を光磁気ディスクに適用しようとすると、
磁気ヘッドの摺動摩擦やヘッドクラッシュによる記録膜
の破壊が問題となる。
すなわち、第２図に示すように光磁気ディスクは透明な
ディスク基板１の上に下地膜２．記録膜３，保護膜４と
層構造をなして形成されている。
ディスク基板１の上に下地膜２．記録膜３，保護膜４と
層構造をなして形成されている。
二一で、ディスク基板１としてはディスク状をしたガラ
ス基板の上にフォトポリマを型形成した状態でガラス基
板を通して紫外線を照射し、硬化させることにより案内
溝（ブリグループ）を形成したディスク基板を用いるか
、或いは直接に樹脂モールドを施して案内溝をつけたデ
ィスク基板１が使用されている。
ス基板の上にフォトポリマを型形成した状態でガラス基
板を通して紫外線を照射し、硬化させることにより案内
溝（ブリグループ）を形成したディスク基板を用いるか
、或いは直接に樹脂モールドを施して案内溝をつけたデ
ィスク基板１が使用されている。
そして、フォトボリマや樹脂を通って湿気や不純物の拡
散による記録膜３の劣化を防ぐために、このディスク基
板１の上に、二酸化硅素（Ｓｉ（ｈ）や窒化硅素（Ｓｉ
Ｊｓ）などからなる下地膜２を設け、また記録膜３の上
には同様な材料を用いて保護膜４が形成されている． 然し、これら下地膜２，記録膜３，保護膜４などの厚さ
は０．１μ糟程度と薄いために、磁気ヘッドの摺動摩擦
やヘッドクラッシュのような機械的な衝撃に対しては弱
く、数回の繰り返しで記録膜に傷がついて不良となる。
散による記録膜３の劣化を防ぐために、このディスク基
板１の上に、二酸化硅素（Ｓｉ（ｈ）や窒化硅素（Ｓｉ
Ｊｓ）などからなる下地膜２を設け、また記録膜３の上
には同様な材料を用いて保護膜４が形成されている． 然し、これら下地膜２，記録膜３，保護膜４などの厚さ
は０．１μ糟程度と薄いために、磁気ヘッドの摺動摩擦
やヘッドクラッシュのような機械的な衝撃に対しては弱
く、数回の繰り返しで記録膜に傷がついて不良となる。
そこで、か＼る問題を解決し、重ね書きを実用化するこ
とが課題である。
とが課題である。
上記の課題はディスク基板１の上に下地膜２，記録膜３
，保護膜４と層構造をなして形成されている光磁気ディ
スクの保護膜４の上に、粗面化処理を施した樹脂膜を設
けて光磁気ディスクを構成することにより解決すること
ができる。
，保護膜４と層構造をなして形成されている光磁気ディ
スクの保護膜４の上に、粗面化処理を施した樹脂膜を設
けて光磁気ディスクを構成することにより解決すること
ができる。
本発明は第１図に示すように、
ディスク基板１／下地膜２／記録膜３／保護膜４と層構
造をなして形成されている光磁気ディスクの保護膜４の
上に樹脂膜５を設けるものである。
造をなして形成されている光磁気ディスクの保護膜４の
上に樹脂膜５を設けるものである。
こ一で、保護膜は紫外線硬化樹脂，熱硬化樹脂や両者の
混合樹脂など各種の樹脂を使用することができる。
混合樹脂など各種の樹脂を使用することができる。
例えば、紫外線硬化樹脂としてアクリル系やエボキシ系
の樹脂があり、また熱硬化樹脂としてアクリル樹脂，エ
ボキシ樹脂，メラミン樹脂などがあるが、これを単独に
、また混合して使用してもよい。
の樹脂があり、また熱硬化樹脂としてアクリル樹脂，エ
ボキシ樹脂，メラミン樹脂などがあるが、これを単独に
、また混合して使用してもよい。
然し、二＼で問題となるのは樹脂膜５の表面状態である
。
。
すなわち、磁気ディスクの場合、磁気ヘッドは例えばマ
ンガン（Ｍｎ） ・亜鉛（Ｚｎ）フエライトからなり
、磁気ヘッドの荷重は約８ｇで、磁気ディスクを３００
Ｏ ｒｐｍで回転させた場合に記録膜上に０．１６μｍ
浮上するようにして使用されている。
ンガン（Ｍｎ） ・亜鉛（Ｚｎ）フエライトからなり
、磁気ヘッドの荷重は約８ｇで、磁気ディスクを３００
Ｏ ｒｐｍで回転させた場合に記録膜上に０．１６μｍ
浮上するようにして使用されている。
然し、記録膜の表面粗さが悪いと磁気ヘッドの浮上は困
難となり、一方、ガラス基板のように平坦な場合〔表面
粗さ＜０．０１μｍ Ｒａ（Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ−ａｖ
ｅｒａｇｅの略）〕では磁気ヘッドは吸着を起こして磁
気ディスクを回転させるのに大きな回転トルクを必要と
し、また、例え吸着力以上のトルクで磁気ディスクを回
転させても、吸着が解除された瞬間に、磁気ヘッドは吸
着による拘束力の反動でディスクに衝突する． これらのことから、光磁気ディスクにおいて、表面が平
滑な樹脂膜を作るのは簡単であるが、この場合に起こる
吸着を避けるために、吸着が発生しない程度の粗面化を
行うことが必要である．〔実施例〕 厚さが１．２ｍｍ，直径が８インチのガラス基板面にフ
ォトボリマを用いて案内溝を形成してあるディスク基板
を使用した。
難となり、一方、ガラス基板のように平坦な場合〔表面
粗さ＜０．０１μｍ Ｒａ（Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ−ａｖ
ｅｒａｇｅの略）〕では磁気ヘッドは吸着を起こして磁
気ディスクを回転させるのに大きな回転トルクを必要と
し、また、例え吸着力以上のトルクで磁気ディスクを回
転させても、吸着が解除された瞬間に、磁気ヘッドは吸
着による拘束力の反動でディスクに衝突する． これらのことから、光磁気ディスクにおいて、表面が平
滑な樹脂膜を作るのは簡単であるが、この場合に起こる
吸着を避けるために、吸着が発生しない程度の粗面化を
行うことが必要である．〔実施例〕 厚さが１．２ｍｍ，直径が８インチのガラス基板面にフ
ォトボリマを用いて案内溝を形成してあるディスク基板
を使用した。
そして、従来のように高周波スバッタ法によりテルビウ
ム・二酸化硅素の混合物（Ｔｂ−Ｓ１０ｇ）からなる下
地膜，テルビウム・鉄・コバルト（ＴｂＦｅＣｏ）合金
からなる記録膜，Ｔｂ−Ｓｉｎｇからなる保護膜を順次
に、それぞれ０．１ μ鋤の厚さに形成して光磁気ディ
スクを作った． 次に、この従来の光ディスクの上にアクリル系紫外線硬
化樹脂（三菱油化，品名ＳＡ−１００２）をスピンコー
トし、紫外線を照射を施して硬化せしめ、厚さが１μ嘗
の樹脂膜を形成した． 次に、樹脂膜の上に表面粗さがｌＯμ一Ｒａのラッピン
グテープを当接し、ゴム製のビンチローラを押しつけ荷
重ＩＫｇの条件で摺動させることにより表面粗さがＯ．
ｌ μｓ Ｒａの樹脂膜とした．か一る光磁気ディスク
を磁気ディスク装置に装着し、ヘッド材質がＭｎ−Ｚｎ
フェライトで、ヘッド荷重が８ｇの磁気ヘッドを用い、
最高回転数が３００Ｏ ｒｐｍ，最高回転数維持時間ｌ
Ｏ秒． ＣＳＳサイクル０〜３０００ ｒｐｍ＋の条件
でＣＳＳ試験を行った．その結果、ＣＳＳ １０万回以
上の耐久性を付与できることが判った． なお、樹脂膜の表面粗さを０．１μｔａ Ｒａ程度とす
ると磁気ヘッドは１μ一以上の浮上が可能であり、光磁
気ディスクの場合、５〜６μ量浮上させた状態でも重ね
書きが可能なことから、本発明の実施により重ね書き可
能な光磁気ディスクを実用化することができる．
ム・二酸化硅素の混合物（Ｔｂ−Ｓ１０ｇ）からなる下
地膜，テルビウム・鉄・コバルト（ＴｂＦｅＣｏ）合金
からなる記録膜，Ｔｂ−Ｓｉｎｇからなる保護膜を順次
に、それぞれ０．１ μ鋤の厚さに形成して光磁気ディ
スクを作った． 次に、この従来の光ディスクの上にアクリル系紫外線硬
化樹脂（三菱油化，品名ＳＡ−１００２）をスピンコー
トし、紫外線を照射を施して硬化せしめ、厚さが１μ嘗
の樹脂膜を形成した． 次に、樹脂膜の上に表面粗さがｌＯμ一Ｒａのラッピン
グテープを当接し、ゴム製のビンチローラを押しつけ荷
重ＩＫｇの条件で摺動させることにより表面粗さがＯ．
ｌ μｓ Ｒａの樹脂膜とした．か一る光磁気ディスク
を磁気ディスク装置に装着し、ヘッド材質がＭｎ−Ｚｎ
フェライトで、ヘッド荷重が８ｇの磁気ヘッドを用い、
最高回転数が３００Ｏ ｒｐｍ，最高回転数維持時間ｌ
Ｏ秒． ＣＳＳサイクル０〜３０００ ｒｐｍ＋の条件
でＣＳＳ試験を行った．その結果、ＣＳＳ １０万回以
上の耐久性を付与できることが判った． なお、樹脂膜の表面粗さを０．１μｔａ Ｒａ程度とす
ると磁気ヘッドは１μ一以上の浮上が可能であり、光磁
気ディスクの場合、５〜６μ量浮上させた状態でも重ね
書きが可能なことから、本発明の実施により重ね書き可
能な光磁気ディスクを実用化することができる．
第１図は本発明に係る光磁気ディスクの構成を示す断面
図、 第２図は従来の光磁気ディスクの構成を示す断面図、で
ある． 図において、 １はディスク基板、 ２は下地膜、３は記録膜、
４は保護膜、５は樹脂膜、 である． 〔発明の効果〕 以上記したように本発明の実施により、光磁気ディスク
の記録膜を磁気ヘッドの摺動摩擦および衝撃から保護す
ることができ、浮上磁気ヘッドを用いて安定に情報の重
ね書きを行うことが可能となる。
図、 第２図は従来の光磁気ディスクの構成を示す断面図、で
ある． 図において、 １はディスク基板、 ２は下地膜、３は記録膜、
４は保護膜、５は樹脂膜、 である． 〔発明の効果〕 以上記したように本発明の実施により、光磁気ディスク
の記録膜を磁気ヘッドの摺動摩擦および衝撃から保護す
ることができ、浮上磁気ヘッドを用いて安定に情報の重
ね書きを行うことが可能となる。
Claims (1)
- ディスク基板上に下地膜、記録膜、保護膜と層構造をな
して形成されている光磁気ディスクの前記保護膜上に、
粗面化処理を施した樹脂膜を設けたことを特徴とする光
磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1053133A JP2958015B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1053133A JP2958015B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02232836A true JPH02232836A (ja) | 1990-09-14 |
| JP2958015B2 JP2958015B2 (ja) | 1999-10-06 |
Family
ID=12934320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1053133A Expired - Fee Related JP2958015B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2958015B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0479045A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-03-12 | Sharp Corp | 光磁気ディスクの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01319143A (ja) * | 1988-06-20 | 1989-12-25 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
-
1989
- 1989-03-06 JP JP1053133A patent/JP2958015B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01319143A (ja) * | 1988-06-20 | 1989-12-25 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0479045A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-03-12 | Sharp Corp | 光磁気ディスクの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2958015B2 (ja) | 1999-10-06 |
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| JPH0463451B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |