JPH0479045A - 光磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は、浮上型ヘッドを利用した光磁気記録再生装置
において用いられる光磁気ディスク及びその製造方法に
関するもので、さらにはその表面処理方法に関するもの
である。

（ロ）従来の技術 光磁気記録方式とは、ガラス、プラスチック、セラミッ
クス等からなる基板上に金属磁性体からなる垂直磁化膜
を形成させにものを記録媒体とし、以下の方法で記録、
再生を行うものである。

即ち、記録する際には、記録媒体をまず、強力な外部磁
場等によって初期化し、磁化の方向を一方向（上向き、
又は下向き）に揃えておく。その後、記録しＴこいエリ
アにレーザビームを照射して、媒体部分の温度をキュー
リー点近傍以上、もしくは補償点近傍に加熱し、その部
分の保磁力（Ｈｅ）をゼロ、又はほとんどゼロとした上
で、初期化の磁化の方向と逆向きの外部磁場（バイアス
磁場）を印加して磁化の向きを反転させる。レーザビー
ムの照射を止めると、記録媒体は常温に戻るので反転し
ｆコ磁化は固定され、軌磁気的に情報が記録される。

再生の際は、別の直線偏光とされたレーザヒームを記録
媒体に照射して、その反射光や透過光の偏光面の回転が
磁化の向きによって異なる現象（磁気カー効果、磁気フ
ァラデー効果）を利用し光学的に読み出しを行う。

上記のような光磁気記録方式は、書き換え可能な大容量
メモリ素子として注目されているが、その記録媒体の情
報を書き換える方法には、１）記録媒体を再度初期化す
ることにより従前に記録された情報を一旦消去する方法
、１１）記録媒体まｆ二は外部磁場発生装置に工夫を加
えてオーバーライド、つまり消去動作を仕ずに直接情報
の書き換えを行う方法の２通りある。

その内１）の方法では、初期化装置か必要となるか又は
２個のヘッドか必要になりコスト高を招くこと１こなる
。まｒ二、１個のみのヘッドを設；すてこれを用いて消
去する場合は、消去の１こめに記録時と同し時間を要し
、非効率的である。

一方、（ｌ）にお叶る記録媒体に工夫をする方法では、
記録媒体の組成、膜厚等の制御か困難ｔものである。そ
のにめ、１１）における外部磁場、発生装置を工夫する
方、去、つまりレーザビームを一定にし外部磁場の向き
を高速スイッチングで反転５せて記録する方法か最も宵
用となる。

ところで、外部磁場の向きを高速で反転させる１こめに
は、外部磁場発生装置におけるコイル及びコイル芯は極
めて小さくする必要かあり、その場合、磁場の発生領域
し小さくなる。従って、磁気ヘッドと記録媒体を近接さ
せる必要かあるので、一般には、第５図に示すように、
外部磁場発生装置を図示しない記録媒体上で滑走可能な
スライダー形式の浮上ヘットＩｔとし、この浮上ヘノＦ
’　１１におけるスライダ一部１２に磁気ヘッド部１３
を設けるとともに、浮上ヘッド１１をサスペンシヨンＩ
Ｏにより支持して記録媒体側に付勢し、記録媒体の回転
に伴って浮上ヘット’　１１を記録媒体の表面から浮上
させるようにしている。９はサスペンション１０を支持
するベースである。

この浮上ヘッド１１は、スライダ部１２と記録媒体間の
空気の流れによって生じる上向きの浮上刃とサスペンシ
ョン１０による下向きの付勢力とを均衡させることによ
り、一定の浮上量を保つものである。このような浮上型
ヘッドは既存のノ＼−ドディスクにも採用されており、
ハードディスクにおける浮上量はサブミクロンのオーダ
ーである。

一方、記録媒体が光磁気ディスクである場合には、可搬
性であるために、ディスクに塵が付着する割合が増加し
、また近接しすぎるとクラツシユ等が起こることが考え
られるｆ二め、ハードディスクの場合に比べ浮上量を大
きくする必要かあり、この場合浮上量は５〜１５μｍ必
要である。

また、この光磁気ディスクの浮上ヘッド側の表面上には
、ディスク表面と浮上ヘラ１１Ｉ表面とが吸着しないよ
うに、微細な物理的凹凸（以下、テクスチャーと称する
）が形成されている。このテクスチャーは、第６図の（
ａ）及び（ｂ）に示すように、表面に微細な凹凸を持つ
テクスチャーテープ１５をテープ押えロール１６により
光磁気ディスクＩ４上に押圧するとともに、テープ１５
を矢印Ｃの方向へ移動させ、かつ光磁気ディスク１４を
回転させることにより形成する。この場合、ディスク１
４の回転方向とテープ１５の送り方向とはほぼ平行であ
るので、得られるテクスチャーは、第７図の２点鎖線で
示すような方向を持ち、光磁気ディスク１４の浮上ヘッ
ト側の表面に一様に形成されている。

（ハ）発明か解決しようとする課題 ところで上述のように、テクスチャーを形成させろため
には、テクスチャーテープを一枚一枚のディスクに押し
つけて加工する必要かあり、コスト高となり、量産には
不向きであっに。さらには加工の際、光磁気ディスクに
不要な応力かかかっ１ニリ、発生したゴミか付着したり
して品質を低下させる一因となっていＴこ。

本発明は上記の事情を考慮してなさワ７二もので、光硬
化樹脂を２段階に分けて硬化させることによリテクスチ
ャーを形成し、量産することが容易な光磁気ディスク及
びその製造方法を提供しようとするものである。

（ニ）課題を解決するｆコめの手段 本発明は、光磁気ディスクにおいて、その最外層か表面
層に微細な物理的凹凸か形成された光硬化樹脂層からな
ることを特徴とする光磁気ディスクであり、また、記録
膜が形成された基板の表面に光硬化樹脂を塗布し、光硬
化樹脂に光を照射してその表面層のみを硬化させ、その
後光の波長を短くして照射して光硬化樹脂の内部層を硬
化させて光硬化樹脂の表面層に微細な物理的凹凸を形成
することを特徴とする光磁気ディスクの製造方法である
。

本発明における光硬化樹脂層としては、例えばＵＶ硬化
型樹脂層か使用でき、これを光ことにＵＶ光により２段
階に硬化させるものである。

本発明における物理的凹凸は、光硬化樹脂層の表面層の
内周部で粗く、外周部で内周部より細かいものであって
もよい。

二のような物理的凹凸：よ、外周部と内周部とで光の照
射量を変化さ廿ることで形成才ることかできる。このよ
うに物理的凹凸を形成する二とによって浮上ヘットの浮
上量を一定としたしのである。

（ホ）作用 本発明により光磁気ディスクのテクスチャー処理を大量
に行うことか可能となり、さらには浮上ヘットの浮上量
；よ変化しないようになる。

（へ）実施例 以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細するが、本発
明は以下の実施例に限定されるちのてはない。

実施例１ 第１図に本発明のテクスチャー形状をしっに光磁気ディ
スクの断面図を示す。

■はガラス、ポリカーホ不一ト、ポリメチルメタアクリ
レート又はアモルファスポリオレフィン等からなる透明
基板であり、その上に単層の記録膜もしくは誘電体膜、
記録膜、反射膜等力・らなる多層の記録膜２か蒸着やス
パッタリンクにより形成され、さらにこれらの保護のｆ
こめにＵ■硬化型樹脂からなる保護層３がコーティング
される。４は、保護層３とは異なる材質からなるテクス
チャー形成用ＵＶ硬化型樹脂である。なお保護層３は必
ずしもコーティングされる必要はなく、テクスチャー形
成用ＵＶ硬化型樹脂４が保護層３を兼ねるものであって
もよい。テクスチャー形成用ＵＶ硬化型樹脂４としては
、アクリレート系の樹脂例えばウレタンアクリレート、
エポキシアクリレートやポリオールアクリレートなどを
使用することかできる。

次に第２図を用いて本発明の光磁気ディスクの製造方法
を説明する。

５は記録膜２が形成された光磁気ディスク本体であり、
同図における上側が保護膜３が形成される側を示す。第
２図の（、ｉ）は樹脂塗布工程であり、例えば、ＲＡＹ
ＶＥＸ　５Ｃ８２Ｆ　（商品名、大日本インキ化学工業
（味））等のスクリーン印刷用インキ等からなるテクス
チャー形成用ＵＶ硬化型樹脂４を塗布する。

第２図の（ｂ）及び（ｃ）は、ＵＶ硬化工程であり、表
面の硬化と内部の硬化とを２段階に分けて行うことによ
りテクスチャー形状を形成させるものである（本発明の
光磁気ディスクにはユニオンカーバイト社のＵＣＣフォ
トキュアノステムを利用）。すなわち、まず波長の長い
ＵＶ光、例えば波長３００〜４００ｎｍでのエネルギー
出力の多いＵＶ光Ｌ１をテクスチャー形成用ＵＶ硬化型
樹脂４に照射し、その表面層のみを硬化させる。次にＵ
Ｖ光Ｌ１より波長の短いＵＶ光、例えば波長２００〜３
００ｎｍでのエネルギー出力の多いＵＶ光Ｌ２を、照射
して内部層を含めてテクスチャー形成用ＵＶ硬化型樹脂
４全体を硬化させる。これによって、先に硬化させた表
面層とその後に硬化させる内部層との間の硬化収縮の差
により、表面層に物理的凹凸つまりテクスチャーか形成
される。

また、Ｕｖ光Ｌｌを照射する際、表面層のみを硬化する
のを助けるにめに、Ｎ２ガスを例えば１０．０ｍ３／ｈ
程度流すとなお良い。

実施例２ 本発明のその他の実施例を第３．４図を用いて以下に説
明する。

第３図において、テクスチャー形成用ＵＶ硬化型樹脂７
は、上記した実施例１のものとは異なり、その内周部に
は粗い物理的凹凸が、また外周部には内周部より細かい
物理的凹凸が、それぞれ形成されているものである。こ
れ以外の構成については実施例１と同じである。

本実施例の処理方法も、表面の硬化と内部の硬化を２段
階に分けて行うことによりテクスチャー形状を形成させ
るものである。まず、第４図の（２Ｌ）に示すように、
光磁気記録媒体である光磁気ディスク本体５における保
護膜が形成されている側の表面上に、テクスチャー形成
用ＵＶ硬化型樹脂７を塗布する。次に、第４図の（ｂ）
に示すように、テクスチャー形成用ＵＶ硬化型樹脂７上
にディスク外周部をほぼ遮光するように形成され几マス
クｇを設置しｆ二のち、ＵＶ光Ｌ３を照射する。更に第
４図の（ｃ）に示すように、マスク８を取り除き再びＵ
Ｖ光Ｌ４をテクスチャー形成用ＴｊＶ硬化型樹脂７上に
照射する。

上記の方法により、光磁気ディスクの内周部においては
、テクスチャー形成用ＵＶ硬化型樹脂７か２段階で硬化
するため凹凸が形成され、外周部では１段階で硬化する
ためほとんど凹凸か形成されず、その結果、内周部に最
大高さ１（１０〜２５００μｍの粗い物理的凹凸が、外
周部に最大高さ２００μｍ以下の細かい物理的凹凸が形
成された光磁気ディスクとなる。

（ト）発明の効果 本発明によれば、光硬化樹脂への光の波長や照射量を変
えて照射することで物理的凹凸を形成するので、大量に
生産することか可能なｆこめ、コストダウンすることが
できる光磁気ディスク及びその製造方法か得られる。さ
らには浮上ヘットの浮上量を一定とすることも可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例１の構造を示す縦断面図、第２
図は実施例１に係る製造工程を示す工程図、第３図は本
発明の実施例２の構造を示す縦断面図、第４図は実施例
２に係る製造工程を示す工程図、第５図は浮上ヘッドの
構成を示す斜視図、第６図は従来例における製造工程を
示す工程図、第７図は従来例の光磁気ディスクにおける
凹凸の構成を示す平面図である。 第　５′ＷＪ ■・・・・・・透明基板、２・・・・・記録膜、３・・
・保護層、 ４．７・・・・・・テクスチャー形成用ＵＶ硬化型樹脂
、５・・　・光磁気ディスク本体、８・・・マスク。 ＼

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、光磁気ディスクにおいて、その最外層が表面層に微
   細な物理的凹凸が形成された光硬化樹脂層からなること
   を特徴とする光磁気ディスク。 ２、物理的凹凸が、光硬化樹脂層の表面層の内周部で粗
   く、外周部で内周部より細かい請求項１記載の光磁気デ
   ィスク。 ３、記録膜が形成された基板の表面に光硬化樹脂を塗布
   し、光硬化樹脂に光を照射してその表面層のみを硬化さ
   せ、その後光の波長を短くして照射して光硬化樹脂の内
   部層を硬化させて光硬化樹脂の表面層に微細な物理的凹
   凸を形成することを特徴とする光磁気ディスクの製造方
   法。 ４、記録膜が形成された基板の表面に光硬化樹脂を塗布
   し、その外周部と内周部とで光の照射量を変化させ、内
   周部で粗く外周部で内部より細かい物理的凹凸を形成す
   ることを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。