JPH02233658A - スルホインドレニン誘導体の製法 - Google Patents
スルホインドレニン誘導体の製法Info
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- JPH02233658A JPH02233658A JP5399589A JP5399589A JPH02233658A JP H02233658 A JPH02233658 A JP H02233658A JP 5399589 A JP5399589 A JP 5399589A JP 5399589 A JP5399589 A JP 5399589A JP H02233658 A JPH02233658 A JP H02233658A
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- sulfoindolenine
- sulfonic acid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の利用分野）
本発明は医薬、良薬、染料等の例えば特開昭６２−１２
３４５４、特開昭６３−５５５４４等Ｋ記載されている
染料の中間体として有用なスルホインドレニン誘導体の
製造法に関する。
３４５４、特開昭６３−５５５４４等Ｋ記載されている
染料の中間体として有用なスルホインドレニン誘導体の
製造法に関する。
（従来技術）
スルホン酸基を有するインドレニン類は例えば２，３．
３ − ｝リメチルインドレニンを直接濃硫酸でスルホ
ン化し、５−スルホー２．３．３−｝リメデルインドレ
ニンを得る方法、あるいは１， １． ２一トリメチル
−ＩＨ一ペンズ〔ｅ〕インドールを同様の方法でスルホ
ン化し７−スルホーｘ，ｌ，’乏−トリメチル−ＩＨ一
ペンズ（ｅｌインドールを得る方法が欧州特許２５１−
２８２に記載されているが収率が著しく低かったり，ベ
ンゾ縮金環あるいはナ７ト縮合環上の望む位置に又は多
くのスルホン酸基を導入することは困難であり、かつ濃
硫酸を原料に対して大量に使用するため後処理が煩雑に
なり工業的な方法としては採用し難い。
３ − ｝リメチルインドレニンを直接濃硫酸でスルホ
ン化し、５−スルホー２．３．３−｝リメデルインドレ
ニンを得る方法、あるいは１， １． ２一トリメチル
−ＩＨ一ペンズ〔ｅ〕インドールを同様の方法でスルホ
ン化し７−スルホーｘ，ｌ，’乏−トリメチル−ＩＨ一
ペンズ（ｅｌインドールを得る方法が欧州特許２５１−
２８２に記載されているが収率が著しく低かったり，ベ
ンゾ縮金環あるいはナ７ト縮合環上の望む位置に又は多
くのスルホン酸基を導入することは困難であり、かつ濃
硫酸を原料に対して大量に使用するため後処理が煩雑に
なり工業的な方法としては採用し難い。
本発明者らは、これらの問題点を解決するため鋭意研究
を重ねた結果スル．ホン酸基を有する芳香族ヒドラジン
が一般式（Ｉ）で表わされるケトンと著しく高い反応性
を示し予想外に温和な条件下で反応が進行し後処理も簡
単な合成法を見出した。
を重ねた結果スル．ホン酸基を有する芳香族ヒドラジン
が一般式（Ｉ）で表わされるケトンと著しく高い反応性
を示し予想外に温和な条件下で反応が進行し後処理も簡
単な合成法を見出した。
（発明の目的）
本発明はスルホン酸基を有する芳香族ヒドラジン類とケ
トン類を用い収率良〈、容易にスルホインドレニン誘導
体を製造する方法を提供することにある。
トン類を用い収率良〈、容易にスルホインドレニン誘導
体を製造する方法を提供することにある。
（発明の構成）
本発明の目的はスルホン酸基を有する芳香族ヒドラジン
Ｋ対して、スルホン酸基と塩を作りうる量のア之ン類の
存在下またはアミン類を存在させず、一般式（Ｉ）で表
わされるケトンを酸の存在下加熱することκより、スル
ホインドレニン化合物の製造法を開発することにより達
成された。
Ｋ対して、スルホン酸基と塩を作りうる量のア之ン類の
存在下またはアミン類を存在させず、一般式（Ｉ）で表
わされるケトンを酸の存在下加熱することκより、スル
ホインドレニン化合物の製造法を開発することにより達
成された。
本発明の製法を反応式で示せば次の如くなる。
上記反応式でＲ１、Ｒ２，几５は互いに同じでも異なっ
ていてもよく、置換もしくは無置換のアルキル基を示し
、Ｒ２とＲ３はそれらが結合している炭素原子と共に、
炭素原子を介して環状構造を形成してもよい。２はペン
ゾ縮合環又はナフト縮合環を形成するに必要な非金属原
子群を表わし、Ｍはアンモニア、トリエチルアミン、ビ
リジン等のスルホン酸基と塩を形成し得る塩基性物質を
表わし、ｍは整数０〜４を表わし、ｎは整数１〜４を表
わしている。また酸は酢酸、塩化亜鉛、ポリリン酸等の
有機酸、無機酸を表わしている。
ていてもよく、置換もしくは無置換のアルキル基を示し
、Ｒ２とＲ３はそれらが結合している炭素原子と共に、
炭素原子を介して環状構造を形成してもよい。２はペン
ゾ縮合環又はナフト縮合環を形成するに必要な非金属原
子群を表わし、Ｍはアンモニア、トリエチルアミン、ビ
リジン等のスルホン酸基と塩を形成し得る塩基性物質を
表わし、ｍは整数０〜４を表わし、ｎは整数１〜４を表
わしている。また酸は酢酸、塩化亜鉛、ポリリン酸等の
有機酸、無機酸を表わしている。
一般式（Ｉ）′ｒ：表わされるケトンの具体例としては
、３−メチル−２−ブタノン、アセチルシクロへキサン
、アセチルシクロペンタン、アセチルシクロへブタン、
メチル−１−メチル−４−ビペリジルケトン、イソプロ
ビルエチルケトン、３−メチル−２−ぺ冫タノン、イン
プロビル７エニルケトン、３−アセチルテトラヒドロフ
ラン、イソプロビル−４−クロロフエニルケトンなどの
化合物があげられる。
、３−メチル−２−ブタノン、アセチルシクロへキサン
、アセチルシクロペンタン、アセチルシクロへブタン、
メチル−１−メチル−４−ビペリジルケトン、イソプロ
ビルエチルケトン、３−メチル−２−ぺ冫タノン、イン
プロビル７エニルケトン、３−アセチルテトラヒドロフ
ラン、イソプロビル−４−クロロフエニルケトンなどの
化合物があげられる。
またスルホン酸基を有する芳香族ヒドラジンのＡ体ｆｌ
ｌ ．！：して７エニルヒドラジンーｐ−スルホン酸、
クエニルヒドラジンーｍ−スルホン酸、フ工ニルヒドラ
ジン一〇−スルホン酸、ヒドラジノーＪ酸、５−ヒトラ
シノ−１−ナフタレンスルホン酸、６−ヒドラジノ−２
−ナ７タレンスルホン酸、２−ヒドラジノ−５−ナフト
ール−７−スルホン酸、８−ヒドラジノ−１．５−ナ７
タレンジスルホン酸、８−ヒドラジノ−１．３．６−ナ
フタレントリスルホン酸、５−ヒドラジノ−２＝ナフタ
レンスルホン酸、６−ヒドラジノ−１−ナフタレンスル
ホン酸、７−ヒドラジノ−１−ナ７タレンスルホン緩、
８−ヒドラジノ−２−ナフタレンスルホン酸、４−ヒド
ラジノーｌ−ナ７タレンスルホン酸等があげられる。
ｌ ．！：して７エニルヒドラジンーｐ−スルホン酸、
クエニルヒドラジンーｍ−スルホン酸、フ工ニルヒドラ
ジン一〇−スルホン酸、ヒドラジノーＪ酸、５−ヒトラ
シノ−１−ナフタレンスルホン酸、６−ヒドラジノ−２
−ナ７タレンスルホン酸、２−ヒドラジノ−５−ナフト
ール−７−スルホン酸、８−ヒドラジノ−１．５−ナ７
タレンジスルホン酸、８−ヒドラジノ−１．３．６−ナ
フタレントリスルホン酸、５−ヒドラジノ−２＝ナフタ
レンスルホン酸、６−ヒドラジノ−１−ナフタレンスル
ホン酸、７−ヒドラジノ−１−ナ７タレンスルホン緩、
８−ヒドラジノ−２−ナフタレンスルホン酸、４−ヒド
ラジノーｌ−ナ７タレンスルホン酸等があげられる。
上記反応を実施する好ましい方法は、ヒドラジン化合物
のスルホン酸基をトリエチルアミン、トリブテルアミン
、ピリジンの様な塩基と塩を作るかあるいはそのままで
、ヒドラジンに対して１〜２当量のケトンと酢酸、塩化
亜鉛、ポリリン酸の様な無機酸あるいは有機酸なヒドラ
ジンに対して１〜５当量の存在下１００〜１５０℃で１
〜５時間反応させることである。
のスルホン酸基をトリエチルアミン、トリブテルアミン
、ピリジンの様な塩基と塩を作るかあるいはそのままで
、ヒドラジンに対して１〜２当量のケトンと酢酸、塩化
亜鉛、ポリリン酸の様な無機酸あるいは有機酸なヒドラ
ジンに対して１〜５当量の存在下１００〜１５０℃で１
〜５時間反応させることである。
以下実施例によって本発明を説明する。
（発明の実施例）
実施例１
フエニルヒドラジンーｐ−スルホン酸７．５３ ｆのメ
タノール４〇一溶液にトリエチルアミン５．６―を加え
呈温で３０分攪拌した後、３−メチル−２一ブタノン３
．４５ｔと酢酸０．３−を加え、加熱還流を１時間行な
った。溶媒を減圧留去した後酢酸２．５ｍを加え１２０
℃で２時間加熱した。反応混合物’２クロロホルムとメ
タノールの３：１の溶ｆｉｘｏｏ一に溶かし活性炭を加
え口遇し溶媒を減圧留去し５−スル，ｊｔ−２．３．３
−｝リメチルインドレニントリエチルアンモニウムの油
状物を８．８８ｆ得た。
タノール４〇一溶液にトリエチルアミン５．６―を加え
呈温で３０分攪拌した後、３−メチル−２一ブタノン３
．４５ｔと酢酸０．３−を加え、加熱還流を１時間行な
った。溶媒を減圧留去した後酢酸２．５ｍを加え１２０
℃で２時間加熱した。反応混合物’２クロロホルムとメ
タノールの３：１の溶ｆｉｘｏｏ一に溶かし活性炭を加
え口遇し溶媒を減圧留去し５−スル，ｊｔ−２．３．３
−｝リメチルインドレニントリエチルアンモニウムの油
状物を８．８８ｆ得た。
収率８８％
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｔｓ／ＴＭＳ）ｒ：７．８５（ｍ
．２Ｈ）、７．５３（ｄ．ＩＨ）、３．１７（ｑ．６Ｈ
）、２．３０（ｓ．３Ｈ）、１．３３（ｍ．１５Ｈ） 実施例２ ７エニルヒトラシンーｐ−スルホン［６．５ ９ ｔと
アセチルシクロヘキサン４．８ ６ ｆと酢酸３．５−
を加え１２０℃で３時間加熱した。反応混合物をクロロ
ホルムーメタノール（３：１）１００−に溶かし活性炭
を加え口過して溶媒を減圧留去し、カラメル状の２′−
メチル−， ５／−スルホスピロ〔シクロヘキサン−１
．３’− （ ３’Ｈ ）一インドール〕アンモニウム
９．７ｆを得た。収率９４％ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ）？ｉ： ７．
９８（ｓ．ＩＨ）、７．６１ （ｄ． ＩＨ）、７．３
７（ｄ．ＩＨ）、７． １２ （ ｂｒｓ，４Ｈ）、２
．２３ （ ｓ， ３Ｈ）、２．０〜１．０５（ｂら１
０Ｈ） 実施例３ ６−ヒドラジノ−２−ナ７タレンスルホン酸塩酸塩５．
５２のメタノール４〇一溶液Ｋトリエチルアミン６．３
−を加え室温で３０分攪拌し溶媒を減圧留去した後３−
メチル−２−ブタノン１．７３Ｆと酢酸５−を加え１４
０℃で２時間加熱しシリカゲルクロマトグラフイにより
単離し６−スルホー２．３．３−トリメチル−３Ｈ−ペ
ンズ［ｆ）インドールトリエチルアンモニウム６．５１
Ｆを得た。収率８３％融点１７８〜１８１℃ １Ｈ−ＮＭＲ（ ＣＤＣｚｓ／’Ｉ’ＭＳ ） ｒ ：
８．４８ （ Ｓ， ＩＨ）、８．０２（ｍ，２Ｈ）
、７．８９ （ ｄ， ＩＨ）、７．７ ８ （ ｄ．
ＩＨ，）、３．１６（ｑ，６Ｈ）、２．３ ７ （
ｓ． ３Ｈ）、１．５２（ｓ，６Ｈ）、１．３ ６ （
ｔ． ９Ｈ） 実施例４ ヒドラジノーＪ酸５．９Ｏｆのメタノール４０ｗｔ溶液
にトリエテルアミン５．７ｄを加え室温で３０分攪拌し
た後アセテルシクロヘキサン２．４ ６ ｔと酢酸０．
２−を加え加熱還流を１時間行ない溶媒な減圧留去した
。残渣に酢酸３．５１Ｒｔを加え１３０℃で２時間加熱
した。反応混合物をシリカゲルクロマトグラ７イで単離
し２′−メチル−５′，７′−ジスルホスビロ（シクロ
ヘキサン−１．３’− （ ３’ Ｈ）一ベンズ［ｅ）
インドールビストリエチルアンモニウムのカラメル状物
質を７．５２ｆ得た。収率７５チ’Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２０
／ＤＳＳ）ｒ：８．８１（ｄ，ＩＨ）、８．６４（ｓ，
ＩＨ）、８．４５（ｓ，ＩＨ）、７．８７（ｄ，ＩＨ）
、３．１０（ｑ，１２Ｈ）、２．０〜１．１ （ｂｒ，
ｍ，２８Ｈ）実施例５ フエ二ルヒドラジンーｐ−スルホン酸３．７ ７ ｆに
アセチルシクロベンタン４．８６ｆと酢酸３．５１Ｒｔ
を加え１２０℃で２時間加熱した。反応混合物をクロロ
ホルムーメタノール（５：１）に溶かしシリカゲルを加
え口過し単離してアメ状の２′〜メチル−５′一スルホ
スピロ〔シクロペンタン−１．３’一（３’Ｈ）一イン
ドール〕アンモニウム４．４ｔを得た。収率９２％ ’Ｈ−ＮＭＲ （ ＤＭＳＯ−ｄ ６／ＴＭＳ ） （
： ７．９ ８ （ ｓ． ＩＨ）、７．６１ （ ｄ
， ＩＨ）、７．３７（ｄ．ＩＨ）、７．１２（ｂｒｓ
，４Ｈ）、２．２３ （ ｓ， ３Ｈ）、２．０〜１．
０ ５ （ ８Ｈ）実施例６ フエニルヒドラジンーｐ−スルホン酸６．５ ９ ｆの
メタノール５０ｍ溶液にトリエチルアミン５．３７ｓｇ
ｊを加え室温で３０分攪拌した後アセチルシクロへブタ
ン４．９１ ｆと酢酸０．２−を加え加熱還流を１時間
行なった。溶媒を減圧留去後酢＠５−を加え１２０℃で
２時間加熱した。反応混合物をシリカゲルクロマトグラ
フイーで単離して油状の２′−メチルー５′−スルホス
ビロ〔シクロヘブタン−１．３’− （ ３’Ｈ）一イ
ンドール〕トリエチルアンモニウム１３．２ｔを得た。
．２Ｈ）、７．５３（ｄ．ＩＨ）、３．１７（ｑ．６Ｈ
）、２．３０（ｓ．３Ｈ）、１．３３（ｍ．１５Ｈ） 実施例２ ７エニルヒトラシンーｐ−スルホン［６．５ ９ ｔと
アセチルシクロヘキサン４．８ ６ ｆと酢酸３．５−
を加え１２０℃で３時間加熱した。反応混合物をクロロ
ホルムーメタノール（３：１）１００−に溶かし活性炭
を加え口過して溶媒を減圧留去し、カラメル状の２′−
メチル−， ５／−スルホスピロ〔シクロヘキサン−１
．３’− （ ３’Ｈ ）一インドール〕アンモニウム
９．７ｆを得た。収率９４％ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ）？ｉ： ７．
９８（ｓ．ＩＨ）、７．６１ （ｄ． ＩＨ）、７．３
７（ｄ．ＩＨ）、７． １２ （ ｂｒｓ，４Ｈ）、２
．２３ （ ｓ， ３Ｈ）、２．０〜１．０５（ｂら１
０Ｈ） 実施例３ ６−ヒドラジノ−２−ナ７タレンスルホン酸塩酸塩５．
５２のメタノール４〇一溶液Ｋトリエチルアミン６．３
−を加え室温で３０分攪拌し溶媒を減圧留去した後３−
メチル−２−ブタノン１．７３Ｆと酢酸５−を加え１４
０℃で２時間加熱しシリカゲルクロマトグラフイにより
単離し６−スルホー２．３．３−トリメチル−３Ｈ−ペ
ンズ［ｆ）インドールトリエチルアンモニウム６．５１
Ｆを得た。収率８３％融点１７８〜１８１℃ １Ｈ−ＮＭＲ（ ＣＤＣｚｓ／’Ｉ’ＭＳ ） ｒ ：
８．４８ （ Ｓ， ＩＨ）、８．０２（ｍ，２Ｈ）
、７．８９ （ ｄ， ＩＨ）、７．７ ８ （ ｄ．
ＩＨ，）、３．１６（ｑ，６Ｈ）、２．３ ７ （
ｓ． ３Ｈ）、１．５２（ｓ，６Ｈ）、１．３ ６ （
ｔ． ９Ｈ） 実施例４ ヒドラジノーＪ酸５．９Ｏｆのメタノール４０ｗｔ溶液
にトリエテルアミン５．７ｄを加え室温で３０分攪拌し
た後アセテルシクロヘキサン２．４ ６ ｔと酢酸０．
２−を加え加熱還流を１時間行ない溶媒な減圧留去した
。残渣に酢酸３．５１Ｒｔを加え１３０℃で２時間加熱
した。反応混合物をシリカゲルクロマトグラ７イで単離
し２′−メチル−５′，７′−ジスルホスビロ（シクロ
ヘキサン−１．３’− （ ３’ Ｈ）一ベンズ［ｅ）
インドールビストリエチルアンモニウムのカラメル状物
質を７．５２ｆ得た。収率７５チ’Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２０
／ＤＳＳ）ｒ：８．８１（ｄ，ＩＨ）、８．６４（ｓ，
ＩＨ）、８．４５（ｓ，ＩＨ）、７．８７（ｄ，ＩＨ）
、３．１０（ｑ，１２Ｈ）、２．０〜１．１ （ｂｒ，
ｍ，２８Ｈ）実施例５ フエ二ルヒドラジンーｐ−スルホン酸３．７ ７ ｆに
アセチルシクロベンタン４．８６ｆと酢酸３．５１Ｒｔ
を加え１２０℃で２時間加熱した。反応混合物をクロロ
ホルムーメタノール（５：１）に溶かしシリカゲルを加
え口過し単離してアメ状の２′〜メチル−５′一スルホ
スピロ〔シクロペンタン−１．３’一（３’Ｈ）一イン
ドール〕アンモニウム４．４ｔを得た。収率９２％ ’Ｈ−ＮＭＲ （ ＤＭＳＯ−ｄ ６／ＴＭＳ ） （
： ７．９ ８ （ ｓ． ＩＨ）、７．６１ （ ｄ
， ＩＨ）、７．３７（ｄ．ＩＨ）、７．１２（ｂｒｓ
，４Ｈ）、２．２３ （ ｓ， ３Ｈ）、２．０〜１．
０ ５ （ ８Ｈ）実施例６ フエニルヒドラジンーｐ−スルホン酸６．５ ９ ｆの
メタノール５０ｍ溶液にトリエチルアミン５．３７ｓｇ
ｊを加え室温で３０分攪拌した後アセチルシクロへブタ
ン４．９１ ｆと酢酸０．２−を加え加熱還流を１時間
行なった。溶媒を減圧留去後酢＠５−を加え１２０℃で
２時間加熱した。反応混合物をシリカゲルクロマトグラ
フイーで単離して油状の２′−メチルー５′−スルホス
ビロ〔シクロヘブタン−１．３’− （ ３’Ｈ）一イ
ンドール〕トリエチルアンモニウム１３．２ｔを得た。
収率９５チ
’Ｈ−ＮＭＲ （ ＣＤＣｔｓ／ＴＭＳ ） ｒｆ’．
８．０ ５ （ ｓ， ＩＨ）、７．８５（ｄ， Ｉ
Ｈ）、７．５２ （ ｄ． ＩＨ）、３．１８ （ ｑ
， ６Ｈ）、２．３９ （ ｓ， ３Ｈ）、２．１−１
．５ （ｂｒ， １２Ｈ）、１．３６（ｔ．９Ｈ） （本発明の効果） 本発明の製造方法によればスルホインドレニン誘導体が
７５〜９５％の高収率で得られ選択硅良く生成し副生物
の成分数及び量がきわめて微量である。また従来の製造
法に比して酸性の排液が殆ど無く問題点は非常に少ない
。
８．０ ５ （ ｓ， ＩＨ）、７．８５（ｄ， Ｉ
Ｈ）、７．５２ （ ｄ． ＩＨ）、３．１８ （ ｑ
， ６Ｈ）、２．３９ （ ｓ， ３Ｈ）、２．１−１
．５ （ｂｒ， １２Ｈ）、１．３６（ｔ．９Ｈ） （本発明の効果） 本発明の製造方法によればスルホインドレニン誘導体が
７５〜９５％の高収率で得られ選択硅良く生成し副生物
の成分数及び量がきわめて微量である。また従来の製造
法に比して酸性の排液が殆ど無く問題点は非常に少ない
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、スルホン酸基を有する芳香族ヒドラジン化合物を酸
の存在下、一般式（ I ） （ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３はそれぞれ互いに同じ
でも異なっていてもよく、置換もしくは無置換のアルキ
ル基を示し、またＲ＿２とＲ＿３はそれらが結合してい
る炭素原子と共に炭素原子を介して環状構造を形成して
もよい。）で表わされる化合物と共に加熱することを特
徴とするスルホインドレニン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5399589A JPH02233658A (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | スルホインドレニン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5399589A JPH02233658A (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | スルホインドレニン誘導体の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02233658A true JPH02233658A (ja) | 1990-09-17 |
Family
ID=12958190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5399589A Pending JPH02233658A (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | スルホインドレニン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02233658A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2289563A1 (en) | 2009-08-28 | 2011-03-02 | Fujifilm Corporation | Near infrared fluorescent imaging agent |
| EP2289562A1 (en) | 2009-08-28 | 2011-03-02 | Fujifilm Corporation | Near infrared fluorescent imaging agent |
| EP4146741A4 (en) * | 2020-05-08 | 2024-08-14 | On Target Laboratories, LLC | Methods of manufacture and synthesis of fluorescent dye compounds and uses thereof |
-
1989
- 1989-03-06 JP JP5399589A patent/JPH02233658A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2289563A1 (en) | 2009-08-28 | 2011-03-02 | Fujifilm Corporation | Near infrared fluorescent imaging agent |
| EP2289562A1 (en) | 2009-08-28 | 2011-03-02 | Fujifilm Corporation | Near infrared fluorescent imaging agent |
| EP4146741A4 (en) * | 2020-05-08 | 2024-08-14 | On Target Laboratories, LLC | Methods of manufacture and synthesis of fluorescent dye compounds and uses thereof |
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