JPH02234101A - 多層反射防止材の製造法 - Google Patents
多層反射防止材の製造法Info
- Publication number
- JPH02234101A JPH02234101A JP1054384A JP5438489A JPH02234101A JP H02234101 A JPH02234101 A JP H02234101A JP 1054384 A JP1054384 A JP 1054384A JP 5438489 A JP5438489 A JP 5438489A JP H02234101 A JPH02234101 A JP H02234101A
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- antireflection
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- index layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は透明基付表面に２層以上の反射防止層の形戎さ
れ之多層反射防止材の新規な製造法に閃する。
れ之多層反射防止材の新規な製造法に閃する。
（従来の技術）
コンピュータのディスプレイｆテレビのブラウン管など
に用いる反射防止材としては，透明基材上に単ｆ一反射
防止層を設け之もの、或いは屈折率の互に異なる２ｊ一
以上の反射防止７ｍを設けｔものが知られている。
に用いる反射防止材としては，透明基材上に単ｆ一反射
防止層を設け之もの、或いは屈折率の互に異なる２ｊ一
以上の反射防止７ｍを設けｔものが知られている。
反射防止性能は一般に多ｆｆ！１反射防止Ｊ−を有する
ものの方が単層タイプに比べて優ルており好ましいもの
である。
ものの方が単層タイプに比べて優ルており好ましいもの
である。
そして．この多ノー反射防止層を有する反射防止材の製
造法としては．透明基村上に第１の反射防止ｊ一として
のＺｒＯｔ Ｉ＆ （高屈折率ノｍ ）および第２の反
射防止層としてのＳｉ０２＋１１１１ （低屈折率層〕
を．嶌空蒸ＷｔＩＣより順次役ける方法が知られている
。
造法としては．透明基村上に第１の反射防止ｊ一として
のＺｒＯｔ Ｉ＆ （高屈折率ノｍ ）および第２の反
射防止層としてのＳｉ０２＋１１１１ （低屈折率層〕
を．嶌空蒸ＷｔＩＣより順次役ける方法が知られている
。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら．上記方法による場合は高屈折率層および
低屈折率１ｍを形成する定め２種の材料を用意しなけ九
ばならず．ま几高屈折率層を形成した後．一たん蒸着装
置をリークし．蒸着装置の清掃，蒸発源の変更などの作
業を実施し，その後低屈折率ＪｒｌＪの゛形成を行なわ
なければならず．ｌ１ＬＴ倒であるばかりでなく生産性
も悪いという問題があっ之。
低屈折率１ｍを形成する定め２種の材料を用意しなけ九
ばならず．ま几高屈折率層を形成した後．一たん蒸着装
置をリークし．蒸着装置の清掃，蒸発源の変更などの作
業を実施し，その後低屈折率ＪｒｌＪの゛形成を行なわ
なければならず．ｌ１ＬＴ倒であるばかりでなく生産性
も悪いという問題があっ之。
従って，本発明は互に接し且つ屈折率の異なる２つの反
射防止Ｉ一を同材料を用いて形成し得る方法を提供する
ことを目的とするものである。
射防止Ｉ一を同材料を用いて形成し得る方法を提供する
ことを目的とするものである。
（課題を解決するための手段）
本発明者は従来技術の有する上記問題を解決するため鋭
意検討の結果，蒸着に際し，蒸発源に対し透明基材を斜
めにし几場合には．斜めにせずに蒸着し几場合に比べ，
基材土に形吠される反射防止層の屈折率が低くなること
を見出し，本発明に至つ友。
意検討の結果，蒸着に際し，蒸発源に対し透明基材を斜
めにし几場合には．斜めにせずに蒸着し几場合に比べ，
基材土に形吠される反射防止層の屈折率が低くなること
を見出し，本発明に至つ友。
即ち，本発明に係る多ｊｔ４反射防止材の製造法は，透
明基材の表面に少なくとも２層の反射防止層を有し，反
射防止層の１つとそれに接する１つの反射防止層は同材
質であると共にその屈折率を異にする多層反射防止材の
製造法であって，これら反射防止ｒｄのうちの低屈折率
・Ｉ１を，蒸発源に対し透明基材を斜めに配置して蒸着
する方法によって形成することを特徴とするものである
。
明基材の表面に少なくとも２層の反射防止層を有し，反
射防止層の１つとそれに接する１つの反射防止層は同材
質であると共にその屈折率を異にする多層反射防止材の
製造法であって，これら反射防止ｒｄのうちの低屈折率
・Ｉ１を，蒸発源に対し透明基材を斜めに配置して蒸着
する方法によって形成することを特徴とするものである
。
以下．図面を参照しながら本発明の実例を説明する。第
１図は本発明の方法の一つの実例を示し．先ず．第１図
（ａ）の如く，常法．即ち．蒸発源１と透明基材２の成
す角変θ（蒸発源から透明基材に向って延長した垂線ａ
と透明基材のつくる角度）が９０°になるように両者を
配置し，透明基材１の表面に第１の反射防止層を蒸着に
より形戎する。
１図は本発明の方法の一つの実例を示し．先ず．第１図
（ａ）の如く，常法．即ち．蒸発源１と透明基材２の成
す角変θ（蒸発源から透明基材に向って延長した垂線ａ
と透明基材のつくる角度）が９０°になるように両者を
配置し，透明基材１の表面に第１の反射防止層を蒸着に
より形戎する。
なお，透明基材２としてはガラス板，プラスチック板，
プラスチックフイルム．プラスチック成形品等を用い得
る。
プラスチックフイルム．プラスチック成形品等を用い得
る。
そして，次に第１図（ｂ）に示す如く，θが約２０〜６
０’になるようにｇ４幀し（通常．透明基材を移動させ
て角度調整する）．第１の反射防止層と同じ蒸発源を用
いて．′＃．第１の反射防止層上に第２の反射防止層を
蒸着（以下．θを約２０〜６０°ＫＬて行なう蒸着を斜
め蒸着と称す〕により形成する。
０’になるようにｇ４幀し（通常．透明基材を移動させ
て角度調整する）．第１の反射防止層と同じ蒸発源を用
いて．′＃．第１の反射防止層上に第２の反射防止層を
蒸着（以下．θを約２０〜６０°ＫＬて行なう蒸着を斜
め蒸着と称す〕により形成する。
かようにして得られる多ノー反射防止材は，第２図に示
す如く．透明基材２の表面に高屈折率１−３および低屈
折率層４が順次積膚され之構造をＭする。
す如く．透明基材２の表面に高屈折率１−３および低屈
折率層４が順次積膚され之構造をＭする。
これら両／ｄ３．４の屈折率は蒸発源の種類，低屈折ａ
ｔ一形成時のθによって変わり得る。ＺｒＯｚを蒸発源
とした場合は．高屈折率層および低屈折率Ｉ一の屈折率
は，通常，前者が１．８〜２．４、後者が１．４〜１．
５５である。なお，低屈折率層の屈折率は他の条件が同
じであれば，θが大きい程大きくなる。まｔ．両層の厚
さは．外光の反射を有効に防止し得る光学的膜厚が適宜
設定されるが．一般には各々約８００〜１５００Ａとさ
れる。
ｔ一形成時のθによって変わり得る。ＺｒＯｚを蒸発源
とした場合は．高屈折率層および低屈折率Ｉ一の屈折率
は，通常，前者が１．８〜２．４、後者が１．４〜１．
５５である。なお，低屈折率層の屈折率は他の条件が同
じであれば，θが大きい程大きくなる。まｔ．両層の厚
さは．外光の反射を有効に防止し得る光学的膜厚が適宜
設定されるが．一般には各々約８００〜１５００Ａとさ
れる。
斜め蒸着し之場合の屈折率が．θを９０°にした場合の
それに比べ低くなる理由は必らずしも明らかではないが
．これによって形成される薄膜は緻密性が低いこと．薄
膜表面の凹凸が大きく入射光の薄膜表面での散乱が大き
いことが関係一していると思われる。
それに比べ低くなる理由は必らずしも明らかではないが
．これによって形成される薄膜は緻密性が低いこと．薄
膜表面の凹凸が大きく入射光の薄膜表面での散乱が大き
いことが関係一していると思われる。
上記は透明基材表面に先ず高屈折率１−を形吠し，その
上に低屈折率層を形吠する例であるが，本発明にお一て
は基材表面に斜め蒸着により低屈折率ＩＩＩを形成し，
次いで同材質の高屈折率層を形吠することもできる。こ
の場合には，高屈折率層上に更に低屈折率層よりも屈折
率の低い第３の反射防止ｔｔＡ （材質は高屈折率１−
と同じであっても異なつてもよい）を設けるのが好まし
いことが判明し之。
上に低屈折率層を形吠する例であるが，本発明にお一て
は基材表面に斜め蒸着により低屈折率ＩＩＩを形成し，
次いで同材質の高屈折率層を形吠することもできる。こ
の場合には，高屈折率層上に更に低屈折率層よりも屈折
率の低い第３の反射防止ｔｔＡ （材質は高屈折率１−
と同じであっても異なつてもよい）を設けるのが好まし
いことが判明し之。
例えば．Ｚｒ０２を蒸発源とし且つθを前述の２０〜６
０°として，透明基材表面に屈折率１．６〜１．９の低
屈折率層を斜め蒸着により形成し、次にθを９０°とし
てＺｒＯ＊から成る屈折率１。８〜２．４の高屈折率１
一を蒸着により形収し，更にＳｉｆ２から収る屈折率１
．４〜１．５５゜の第３の反射防正ｊ一を形収すること
ができる。
０°として，透明基材表面に屈折率１．６〜１．９の低
屈折率層を斜め蒸着により形成し、次にθを９０°とし
てＺｒＯ＊から成る屈折率１。８〜２．４の高屈折率１
一を蒸着により形収し，更にＳｉｆ２から収る屈折率１
．４〜１．５５゜の第３の反射防正ｊ一を形収すること
ができる。
（実施例）
以下，実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例１
厚さ１００μ鴨の透明なポリエチレンテレフタレート（
以下， ＰＥＴ ）フィルムを耐圧容器内にセットし，
雰囲気圧を２ Ｘ １０ Ｔｏｒｒ Ｋ調整する。
以下， ＰＥＴ ）フィルムを耐圧容器内にセットし，
雰囲気圧を２ Ｘ １０ Ｔｏｒｒ Ｋ調整する。
Ｚｒ０２ｔ蒸発源とし，これとＰＥＴフィルムのつくる
角度θを９０°とし．ＥＢ蒸着（ ４０ｍＡ．ＩＯＫＶ
）によりＰＥＴフィルムの片面に，厚さが１２０ＯＡで
屈折率が２，０５の高屈折率ｊ−を形成する。
角度θを９０°とし．ＥＢ蒸着（ ４０ｍＡ．ＩＯＫＶ
）によりＰＥＴフィルムの片面に，厚さが１２０ＯＡで
屈折率が２，０５の高屈折率ｊ−を形成する。
次に，θを３０°とする以外は上記と同蟻にした斜め蒸
ｓにより．高屈折率層上＆で厚さが９０ＯＡで屈折率が
１．４８の低屈折率ＩｔＩを形・成し，多層反射防止材
を得几。
ｓにより．高屈折率層上＆で厚さが９０ＯＡで屈折率が
１．４８の低屈折率ＩｔＩを形・成し，多層反射防止材
を得几。
この反射防止材の入射光（波長４００へ−７ｏｏｎｍ）
に対する平均反射率は０．７５％であっ之。
に対する平均反射率は０．７５％であっ之。
実施例２
θを５０°とする以外は実施例１と同嫌にして．ＰＥＴ
フィルムの片面に．厚さが８０ＯＡで屈折率が１．９の
Ｚｒ（ｈから成る低屈折率層を斜め蒸着により形成する
。
フィルムの片面に．厚さが８０ＯＡで屈折率が１．９の
Ｚｒ（ｈから成る低屈折率層を斜め蒸着により形成する
。
次に．θを９０°とする以外は上記と同様にして．低屈
折率膚上に、厚さが１２００Ａで屈折率が２．０５のＺ
ｒ０２から伐る高屈折率層を形吠する。
折率膚上に、厚さが１２００Ａで屈折率が２．０５のＺ
ｒ０２から伐る高屈折率層を形吠する。
次いで２蒸発源をＳｉ０２に変える以外は上記と同様に
して（θに９０°） ． Ｚｒ０２高屈折率層上に．厚
さが９０ＯＡで屈折率が１．４８のＳｉＯｚ層を形成し
，多層反射防止材を得之。
して（θに９０°） ． Ｚｒ０２高屈折率層上に．厚
さが９０ＯＡで屈折率が１．４８のＳｉＯｚ層を形成し
，多層反射防止材を得之。
この反射防止材の入射光（波長４００〜７００ｎｍ）に
対する平均反射率ｒｉ０．６５％であった。
対する平均反射率ｒｉ０．６５％であった。
（発明の効果）
本発明によれば，互に接する高屈折率層と低屈折率膚を
同一材質によって形成できるもので．これら両Ｊ−の透
明基材表而への形成に際し．蒸発源の変更のよ５な面倒
な作業は不要であり．多層反射防止材を能率よく生産で
きる。
同一材質によって形成できるもので．これら両Ｊ−の透
明基材表而への形成に際し．蒸発源の変更のよ５な面倒
な作業は不要であり．多層反射防止材を能率よく生産で
きる。
第１図（ａ）および第１図（ｂ）は本発明に係る多層反
射防止材の製造法の実例を示す説明図．第２図は本発明
の方法によって得られる多ｌ１反射防止材の実例を示す
正面図である。 １・−・蒸発源 ２・・・透明基材 ３・・・
高屈折率ノー ４・・・低屈ｈ率層
射防止材の製造法の実例を示す説明図．第２図は本発明
の方法によって得られる多ｌ１反射防止材の実例を示す
正面図である。 １・−・蒸発源 ２・・・透明基材 ３・・・
高屈折率ノー ４・・・低屈ｈ率層
Claims (1)
- 透明基材の表面に少なくとも２層の反射防止層を有し、
反射防止層の１つとそれに接する１つの反射防止層は同
材質であると共に互にその屈折率を異にする多層反射防
止材の製造法であつて、これら反射防止層のうちの低屈
折率層を、蒸発源に対し透明基材を斜めに配置して蒸着
する方法によつて形成することを特徴とする多層反射防
止材の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1054384A JPH02234101A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | 多層反射防止材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1054384A JPH02234101A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | 多層反射防止材の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02234101A true JPH02234101A (ja) | 1990-09-17 |
Family
ID=12969190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1054384A Pending JPH02234101A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | 多層反射防止材の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02234101A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100721218B1 (ko) * | 2000-06-07 | 2007-05-22 | 대우전자부품(주) | 편향요크용 세퍼레이터 |
| JP2011175952A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 有機発光表示装置及びその製造方法 |
| US8213086B2 (en) | 2006-12-29 | 2012-07-03 | Lg Chem, Ltd. | Coating composition for antireflection with resistance and antireflection characteristic and antireflection film prepared by using the same |
-
1989
- 1989-03-07 JP JP1054384A patent/JPH02234101A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100721218B1 (ko) * | 2000-06-07 | 2007-05-22 | 대우전자부품(주) | 편향요크용 세퍼레이터 |
| US8213086B2 (en) | 2006-12-29 | 2012-07-03 | Lg Chem, Ltd. | Coating composition for antireflection with resistance and antireflection characteristic and antireflection film prepared by using the same |
| JP2011175952A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 有機発光表示装置及びその製造方法 |
| US8530888B2 (en) | 2010-02-24 | 2013-09-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device and method of manufacturing the same |
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