JPH02234302A - 発光部材 - Google Patents
発光部材Info
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- JPH02234302A JPH02234302A JP5279589A JP5279589A JPH02234302A JP H02234302 A JPH02234302 A JP H02234302A JP 5279589 A JP5279589 A JP 5279589A JP 5279589 A JP5279589 A JP 5279589A JP H02234302 A JPH02234302 A JP H02234302A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【産1業上の利用分野】
本発明は電場.電線,X線.紫外線.あるいは可視光や
赤外線などの励起エネルギーを吸収させる事により、蛍
光や燐光などの光を放出する作用を有する発光部材に関
する. ?従来の技術] 従来、蛍光や燐光を発する発光部材としては種々のもの
が知られて来た.例えば直接遷移型の半導体であるGa
AsやfnPなどの■一v族化合物の結晶やZnS,
ZnSeなどのII〜■族化合物の結晶では、これらの
材料のバンドギャップよりも大きな.エネルギーの光を
照射すると、これを吸収して照射光すなわち励起光より
も低エネルギーの光を放出して発光する.また、いわゆ
る間接遷移型の材料でも例えばSiCなどの様にバンド
ギャップ内に再結合中心をつくってやればかなり強く発
光する.また、イオン性の強い結晶では不純物による蛍
光が生じる.例えば、KCI : Tl”ではTI”イ
オンが短波長の励起光により励起され、196nmおよ
び249nmに蛍光スペクトルのピークが出る.この様
な発光は電磁波だけでなく電子線によっても引き起こさ
れる.例えばブラウン管に用いられる蛍光体であるYク
0■Sではアクチベータ不純物としてEu”が加えられ
、赤色の発光が電子線照射により引き起こされる.この
様な例はZnSへのAg”による青の蛍光, ZnFz
へのMn添加によるオレンジ色の蛍光など多くの例が知
られている.また、例えばApplied Physi
cs Letters 13 210 (1968)に
みられるように発光部材に電極をつけて電場をかける事
によって発光させる方法も従来知られてきた方法である
.例えば、Mnを添加したZnSやCuとCIを添加し
たZnSなどの微結晶粒をバインダーに分散させたもの
を発光部材として用い、これに交流電場を印加すると、
いわゆるエレクトロルミネッセンス(EL)による発光
が見られる。これらはディスプレーなどに利用される。 また、III − V族化合物などの直接遷移型半導体
のp−n接合を用いた注入発光も現在では良く知られた
技術である.さらに、このようないわゆる LEDを改
良してレーザー発振させる事を可能にしたものが半導体
レーザーである.これらについては例えばS. M.
Sze著のPhysics of Semicondu
ctor Devices第12章(John Wil
ey & Sons. 1981 )などの標準的な参
考書に詳しく述べられているし、製品も市場に沢山出回
っている. この様に様々な形で励起エネルギーを与える事により、
紫外線、可視光、あるいは赤外線などの光を放出する発
光部材は良く知られたものである.これらの発光特性は
一般に、まずフォト・ルミネッセンスの有無.強弱およ
びその発光波長分布を調べる事によりチェック出来る. 〔発明が解決しようとしている課題1 しかしながらその一方で発光強度が弱いものや実用上発
光特性を科用できる程に発光しないものも沢山あった.
また、発光の内部量子効率がかなり高い材料であっても
、その屈折率が高いため仁発光した光が外へ出射できる
臨界角が小さいため、内部から外へ出られず、外へ出る
前に多重反射をくり返して、減衰してしまう場合も多い
。また、発光した光の波長は吸収もされ易い場合が多い
ので内部での多重反射は発光の利用という点で不利であ
り、大きな問題となって来た。これらの問題を解決する
ためには発光部材の物性の改質という側面だけでなく、
上記の様な発光した光の効率的な外部への取り出しを工
夫していく必要があるが、個々のケースでは現象がかな
り複雑になり、これらを総合的に解決して行くのは困難
であった. 本発明の目的は、上記の様な発光の弱い材料に関してそ
の実質的な発光強度を増加させ、又は新たに発光特性を
付加させた新規な発光部材を提供することにある. [課題を解決するための手段]. 本発明は、励起エネルギーを付与することにより光を放
出する発光部材に於いて、発光部材がC,SiおよびG
eからなる群より選ばれた1種以上の元素を主成分とし
、かつ水素を原子数としてlO%以上含む微粒子を含む
ことを特徴とし、該水素は少くともAH.およびA}I
tの形態で含有されており、ただしここで^は該元素で
あり、かつAH5とAH署の含有割合が 八H3 /^■2≦0,! を満たしている゛ことを特徴とする発光部材である. 本発明の発光部材を用いることにより発光強度をより増
大させたり、発光が実用上認められなかった材料を発光
させたりすることを可能にしたのである. 特に実用上は、微粒子の集合体が基体上に層状に堆積し
た微粒子膜もしくはバインダー分散膜となっている発光
部材が取り扱い易さの点から望ましいが、しかし本発明
の有効性はこの様な微粒子膜もしくはバインダー分散膜
のみに限定されるものではない. 本発明における微粒子はその大きさが発光波長と同程度
又はそれ以下のものであれば良い。可視光の発光の場合
には大体lμm以下、望ましくは0.1 μm以下、さ
らに望ましくは500人以下である. 上記の微粒子の形状は特に制限されるものではないが、
比較的球に近く、大きすぎる粒子が混合しない場合の方
が効果的である.大きさの下限は不明であるが、透過電
子顕微鏡(TEM)及び電解放射型走査電子顕微鏡によ
る観察結果によれば、数10人の平均粒子を持つ超微粒
子であっても効果が認められる. 実用上は上記の様な本発明の微粒子を取扱うためにはそ
れを何らかの基体上にのせて固定すれば良い.その際個
々の微粒子は必ずしも相互に接触している必要はなく基
体上で孤立していても良いが、一般的には全体としての
発光強度をかせぐため微粒子の集合体、例えば凝集体や
堆積膜などの方が望ましい. 本発明における材料の微粒子化及び微粒子の水素の含有
量や含有形態が発光強度の増大を引き起こす原因につい
ては必ずしも明らかではない.しかし、材料の微粒子化
により表面積が著しく増大し、それにともない、表面が
活性になったり何らかの物性変化が生じることが考えら
れる.また、これとは別に発光部材中心から光が外へ放
出される時の微粒子化による反射率の減少のために、光
の取出し効率が増加した事も考えられる.さらに、発光
部材が基体上に積層した微粒子膜の場合に、膜の表面か
ら深い部分で放出された光が微粒子の大きさが光の波長
よりもずっと小さいために散乱を余り受けずに膜表面へ
達するために、見かけ上発光強度が増加して見えること
も考えられる. また、微粒子が水素を原子数として10%以上含有する
ことは通常のアモルファス材料と同様に、ダングリング
ボンドを減らし、かつバンドキャップを広げランダムネ
ットワークの柔軟性を与えることに寄与していると考え
られる.さらに、我々の検討結果では水素量が元素数と
してlO%未満では、この効果が十分でないことがわか
った。 また、ほとんどの含有水素の結合様式はAH3 /AH
a≦0.1が好ましいが、この関係は経験的なものであ
り、理由は定かではない. 本発明に係る微粒子において、発光強度を驚異的に上げ
る材料としてはアモルファスシリコンなどの■族系の材
料であるが、Ge, Cおよびその混合材料でも効果が
ある. 本発明の発光部材に用いられる原科ガスとしては、Si
H<だけでなく、Si成膜に使わりるシランの誘導体例
、たとえばSi.H.なども使用可能である.さらに、
他の■族系のガス、たとえば、CH.,CH30H.
C2}Illその他の炭化水素系のガス、また同様にG
e系のガスの使用も可能である.また、Si系ガスとC
系ガス、St系のガスとGe系のガスの様に、2種.3
種のガスを混合して使用することも可能である.また、
本発明は上記材料に限定されるものではない. 本発明の発光部材に用いる微粒子の形成方法としては一
般に超微粒子作成に用いられる種々の方法が使用可能で
ある.例えばJapanese Journalof
Applied Physics, [21, 70
2, (1963)に見られる様なガス中蒸発法やC
hemistry Letters. 267,(19
136)に見られるような熱泳動CVD法、あるいは液
体中で合成する方法などが挙げられる。この様な超微粒
子の製法は超微粒子の分野で今やよく知られているもの
であり、上記の個々の製法に限定されるものではない.
これらの種々の方法については例えば日本化学会編.化
学総説No.48r超微粒子J (1985)などに詳
しく紹介されている.本発明の発光部材を製造する装置
としては、例えば第1図に示す装置を使用することがで
きる.図においてノズル2は空胴共振器5に直結してい
ても良い.反応ガスをガス導入口lOから空胴共振器5
へ導入した時は反応は5の中で起き、5は反応室として
動く. 例えば、a−S iの微粒子膜をつくる場合にはガス導
入010よりSi}l4ガスと必要ならばH,ガスを送
り込み、反応室内でプラズマを発生させてガスを分解し
て反応させ、微粒子を形成させる.そしてこれを一部未
反応の気体状の活性種とともにノズルlから噴出させ、
基体7の上に吹き付けて固定する.ガスにエネルギーを
与える手段としては、マイクロ波や紫外線あるいはRF
なとの高周波などの電磁波や低周波や直流などの電場印
加などが使える.実用上最も使い易いのは紫外線又はマ
イクロ波であり、この時は反応室の形状を工夫する必要
はあるが、反応室内に電極などの構造物を置く必要iな
く、エネルギー投入用の窓があれば良い.マイクロ波用
プラズマを用いる場合にも色々なやり方があり、同軸管
を用いるJapanese Journalof Ap
plied Physics 21 [8] L470
(1982)に見られる方法などがあるが、効率的な微
粒子形成を行う立場から見れば、反応室をマイクロ波の
空胴共振器とする方法が非常に有効である. また、ノズルlは上流室内でできた微粒子を、残りのガ
スとともに高速で吹き出し、基体7上に吹き付けて固定
化するために設けてある.ノズルの形状は特に制限され
るものではないが、微粒子の基体7への付着力を高め、
また微粒子をビーム化して基体7上に高速でしかも効率
的に集めるためには、上流側から下流側へ、いわゆる縮
小拡大型の口径変化をもつ超音波ノズルを使用すること
が望ましい.その断面形状は円形だけではなく特開昭6
1−221377号公報に示されている様な変形が目的
に応じて使用可能である。 ノズルより下流側の基体室付近は通常10−3Torr
以下程度に圧力を下げて使用する。ノズル上流と下流と
の圧力比は数lO位から100位あることが望ましい. 以下に本発明における発光部材を形成する微粒子への水
素の導入方法及び含有水素の結合様式を上記のように制
御する方法について説明する.■プラズマを発生させる
手段として、例えばマイクロ波を用いてかつ!00w以
上のパワーの投入等により高エネルギーでガスを分解す
る。 ■キャリアガスにH2または水素の割合の多いガスを用
いる. ■原材料に水素化合物を用いる. 上述した方法以外の水素の導入方法または結合様式の制
御方法を用いても良いことはもちろんである。いずれに
しても微粒子中の水素量と、その結合様式が発光部材の
発光強度を左右することがわかった.また本発明の発光
部材における微粒子が基体上に堆積した微粒子膜は、そ
の表面に保護層が設けてあっても良い。この保護層は微
粒子膜の機械的強度を高め、また変質による発光層の劣
化その他の変化を防止するために有効である。ボリスチ
レン,ポリカーボネートその他の有機ボリマーや石英や
低融点ガラスなどの無機ガラス、あるいは、SiN,
a−Cその他のプラズマ重合膜などが使える。有機ボリ
マーなとでは溶剤塗布などの方法も使えて便利である.
また本発明の微粒子を合成樹脂等のバインダーに分散さ
せた、バインダー分散膜として用いてもよい.その場合
は加熱蒸発法等でバインダー材を微粒子表面にコーティ
ング後、堆積させるようにして行なってもよい.[実施
例] 以下実施例に基づき、本発明を具体的に説明する。 実施例1 第1図の装置を用いてa−St:H微粒子をシリコンウ
ユハの基体7上に堆積させた. 発光部材の作成は、まずシリコンウエハ基板を基板ホル
ダー6にセットした後、排気系11で下流室4を2 X
10−’Torrまで減圧した.次にH2ガスで1%
に希釈したSiHaガスをガス導入管lOから空胴共振
器5内へ流量1503CCMで流した.すると空胴共振
器5内の圧力は4 X 10”’Torrとなり、ノズ
ル1からSi}l<を含むガスが下流室4へ吹き出した
.この時下流室4内の圧力は4. 5X In−3To
rrとなつた.次にマイクロ波をマイクロ波発振器(不
図示)から導波管9および石英製の窓8を通して空胴共
振器5内へ送り込み、空胴共振器5内で放電プラズマを
発生させた.マイクロ波のパワーは!50Wであった.
するとプラズマ内で微粒子が形成されて、残りのガス成
分とともにノズル1から下流室4に吹き出し、微粒子ビ
ームとなって下流室4内の基体7上に衝突し、微粒子を
基体7上に固定した. 基体7上に付着した微粒子の堆積した層の厚さは6分間
の放電で3.0μmであった.また微粒子の堆積物の色
は茶かっ色で光沢があった。 比較例1−1 マイクロ波パワーを60wに変更した以外は、実施例l
と同様にして微粒子を得た。 基体7上に付着した微粒子の堆積した層の厚さは25分
間の放電で5.3}Illであった.また微粒子の堆積
の状況や色は、実施例lと変わらなかった。 比較例1−2 通常のグローディスチャージ(GO)法により、SiJ
sと■2を用いて基板水冷状態で、a−Si:Hの薄膜
を得た.膜の厚さは、1.2μであり茶色の均一膜で■
とSiの結合はSt−H結合を主とするものであった. 実施例2 実施例1と同様の方法で、SiH.ガスをH,ガスで3
%に希釈したものを流量1003CCMで流した.その
他の条件は実施例1と同様にして微粒子を得た. 堆積した層の厚さは6分間の放電で2.2μ鳳であり、
微粒子の堆積の状況や色は実施例1と変わらなかった. 比較例2 希釈するH,ガスをHi 100%からHz/Ar=2
/1の混合ガスに変更した以外は実施例2と全く同様に
して微粒子を得た. 基体6上に付看した微粒子の堆積した石の厚さは1分間
で2.5μ―であった. また上記比較例2は微粒子の堆積の状況や色は実施例2
と変わらなかった. 実施例3 第1図の装置を用い、実施例lに準ずる方法によりガラ
ス基板上に膜形成した.原料は■2ガスで5%に希釈し
たCH4ガスを用いガス流量は753CCMとした.こ
のときの空洞共振器内の圧力は、!.2 x 10−’
Torrであり、マイクロ波パワーは200Wとした.
この膜も、茶色の光沢のある膜状の堆積物であった. 以上のように作成した膜を以下の2項目について評価し
た. ■フォトルミネセンス(PL) 室温で、A「イオンレーザー(λ= 488nm)の青
色の光を各膜に照射し、分光器を用いてスペクトルを観
察した. ■水素含有量 作成した各膜をFT−IRにて分析し、a−Si:}!
膜は2000〜2300cm− ’のピークをa−C:
H膜は2900〜3000ca+− ’のピーク面積よ
り水素量を計算した.■AH2 /A}lm比 ■のFT− I Rチャートよりa−Si:H膜は21
00cm−’をSfH2のピーク2150cm−’をS
il{sのピークと考え、ガウス関数に近似、ピーク分
離により面積比を求めた. またa−C:H膜は2925cm−’をCH.のビーク
、2960cm− ’をCLのピークと考え、ガウス関
数に近似し、ピーク分離により同様に面積比を求めた.
■膜の形状 膜の表面状態なFE−SEM (日立製)で観察した.
結果のまとめを表一lに示す. (以 下 余 白) またAH2 /ALの計算例として実施例1と比較例1
−1.1−2.の各FT− IIIのチャートを第2,
第4.第6図に、また第2図と第4図をAHs /^H
,の比を出すために拡大して吸光度に直したものを第3
図と第5図に示した. さらに実施例1の代表的な発光スペクトルを第7図に示
す. 〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明によれば通常は発光しない
材料を発光させたり、または通常発光するものであって
も発光強度を飛躍的に高めたりすることができる.
赤外線などの励起エネルギーを吸収させる事により、蛍
光や燐光などの光を放出する作用を有する発光部材に関
する. ?従来の技術] 従来、蛍光や燐光を発する発光部材としては種々のもの
が知られて来た.例えば直接遷移型の半導体であるGa
AsやfnPなどの■一v族化合物の結晶やZnS,
ZnSeなどのII〜■族化合物の結晶では、これらの
材料のバンドギャップよりも大きな.エネルギーの光を
照射すると、これを吸収して照射光すなわち励起光より
も低エネルギーの光を放出して発光する.また、いわゆ
る間接遷移型の材料でも例えばSiCなどの様にバンド
ギャップ内に再結合中心をつくってやればかなり強く発
光する.また、イオン性の強い結晶では不純物による蛍
光が生じる.例えば、KCI : Tl”ではTI”イ
オンが短波長の励起光により励起され、196nmおよ
び249nmに蛍光スペクトルのピークが出る.この様
な発光は電磁波だけでなく電子線によっても引き起こさ
れる.例えばブラウン管に用いられる蛍光体であるYク
0■Sではアクチベータ不純物としてEu”が加えられ
、赤色の発光が電子線照射により引き起こされる.この
様な例はZnSへのAg”による青の蛍光, ZnFz
へのMn添加によるオレンジ色の蛍光など多くの例が知
られている.また、例えばApplied Physi
cs Letters 13 210 (1968)に
みられるように発光部材に電極をつけて電場をかける事
によって発光させる方法も従来知られてきた方法である
.例えば、Mnを添加したZnSやCuとCIを添加し
たZnSなどの微結晶粒をバインダーに分散させたもの
を発光部材として用い、これに交流電場を印加すると、
いわゆるエレクトロルミネッセンス(EL)による発光
が見られる。これらはディスプレーなどに利用される。 また、III − V族化合物などの直接遷移型半導体
のp−n接合を用いた注入発光も現在では良く知られた
技術である.さらに、このようないわゆる LEDを改
良してレーザー発振させる事を可能にしたものが半導体
レーザーである.これらについては例えばS. M.
Sze著のPhysics of Semicondu
ctor Devices第12章(John Wil
ey & Sons. 1981 )などの標準的な参
考書に詳しく述べられているし、製品も市場に沢山出回
っている. この様に様々な形で励起エネルギーを与える事により、
紫外線、可視光、あるいは赤外線などの光を放出する発
光部材は良く知られたものである.これらの発光特性は
一般に、まずフォト・ルミネッセンスの有無.強弱およ
びその発光波長分布を調べる事によりチェック出来る. 〔発明が解決しようとしている課題1 しかしながらその一方で発光強度が弱いものや実用上発
光特性を科用できる程に発光しないものも沢山あった.
また、発光の内部量子効率がかなり高い材料であっても
、その屈折率が高いため仁発光した光が外へ出射できる
臨界角が小さいため、内部から外へ出られず、外へ出る
前に多重反射をくり返して、減衰してしまう場合も多い
。また、発光した光の波長は吸収もされ易い場合が多い
ので内部での多重反射は発光の利用という点で不利であ
り、大きな問題となって来た。これらの問題を解決する
ためには発光部材の物性の改質という側面だけでなく、
上記の様な発光した光の効率的な外部への取り出しを工
夫していく必要があるが、個々のケースでは現象がかな
り複雑になり、これらを総合的に解決して行くのは困難
であった. 本発明の目的は、上記の様な発光の弱い材料に関してそ
の実質的な発光強度を増加させ、又は新たに発光特性を
付加させた新規な発光部材を提供することにある. [課題を解決するための手段]. 本発明は、励起エネルギーを付与することにより光を放
出する発光部材に於いて、発光部材がC,SiおよびG
eからなる群より選ばれた1種以上の元素を主成分とし
、かつ水素を原子数としてlO%以上含む微粒子を含む
ことを特徴とし、該水素は少くともAH.およびA}I
tの形態で含有されており、ただしここで^は該元素で
あり、かつAH5とAH署の含有割合が 八H3 /^■2≦0,! を満たしている゛ことを特徴とする発光部材である. 本発明の発光部材を用いることにより発光強度をより増
大させたり、発光が実用上認められなかった材料を発光
させたりすることを可能にしたのである. 特に実用上は、微粒子の集合体が基体上に層状に堆積し
た微粒子膜もしくはバインダー分散膜となっている発光
部材が取り扱い易さの点から望ましいが、しかし本発明
の有効性はこの様な微粒子膜もしくはバインダー分散膜
のみに限定されるものではない. 本発明における微粒子はその大きさが発光波長と同程度
又はそれ以下のものであれば良い。可視光の発光の場合
には大体lμm以下、望ましくは0.1 μm以下、さ
らに望ましくは500人以下である. 上記の微粒子の形状は特に制限されるものではないが、
比較的球に近く、大きすぎる粒子が混合しない場合の方
が効果的である.大きさの下限は不明であるが、透過電
子顕微鏡(TEM)及び電解放射型走査電子顕微鏡によ
る観察結果によれば、数10人の平均粒子を持つ超微粒
子であっても効果が認められる. 実用上は上記の様な本発明の微粒子を取扱うためにはそ
れを何らかの基体上にのせて固定すれば良い.その際個
々の微粒子は必ずしも相互に接触している必要はなく基
体上で孤立していても良いが、一般的には全体としての
発光強度をかせぐため微粒子の集合体、例えば凝集体や
堆積膜などの方が望ましい. 本発明における材料の微粒子化及び微粒子の水素の含有
量や含有形態が発光強度の増大を引き起こす原因につい
ては必ずしも明らかではない.しかし、材料の微粒子化
により表面積が著しく増大し、それにともない、表面が
活性になったり何らかの物性変化が生じることが考えら
れる.また、これとは別に発光部材中心から光が外へ放
出される時の微粒子化による反射率の減少のために、光
の取出し効率が増加した事も考えられる.さらに、発光
部材が基体上に積層した微粒子膜の場合に、膜の表面か
ら深い部分で放出された光が微粒子の大きさが光の波長
よりもずっと小さいために散乱を余り受けずに膜表面へ
達するために、見かけ上発光強度が増加して見えること
も考えられる. また、微粒子が水素を原子数として10%以上含有する
ことは通常のアモルファス材料と同様に、ダングリング
ボンドを減らし、かつバンドキャップを広げランダムネ
ットワークの柔軟性を与えることに寄与していると考え
られる.さらに、我々の検討結果では水素量が元素数と
してlO%未満では、この効果が十分でないことがわか
った。 また、ほとんどの含有水素の結合様式はAH3 /AH
a≦0.1が好ましいが、この関係は経験的なものであ
り、理由は定かではない. 本発明に係る微粒子において、発光強度を驚異的に上げ
る材料としてはアモルファスシリコンなどの■族系の材
料であるが、Ge, Cおよびその混合材料でも効果が
ある. 本発明の発光部材に用いられる原科ガスとしては、Si
H<だけでなく、Si成膜に使わりるシランの誘導体例
、たとえばSi.H.なども使用可能である.さらに、
他の■族系のガス、たとえば、CH.,CH30H.
C2}Illその他の炭化水素系のガス、また同様にG
e系のガスの使用も可能である.また、Si系ガスとC
系ガス、St系のガスとGe系のガスの様に、2種.3
種のガスを混合して使用することも可能である.また、
本発明は上記材料に限定されるものではない. 本発明の発光部材に用いる微粒子の形成方法としては一
般に超微粒子作成に用いられる種々の方法が使用可能で
ある.例えばJapanese Journalof
Applied Physics, [21, 70
2, (1963)に見られる様なガス中蒸発法やC
hemistry Letters. 267,(19
136)に見られるような熱泳動CVD法、あるいは液
体中で合成する方法などが挙げられる。この様な超微粒
子の製法は超微粒子の分野で今やよく知られているもの
であり、上記の個々の製法に限定されるものではない.
これらの種々の方法については例えば日本化学会編.化
学総説No.48r超微粒子J (1985)などに詳
しく紹介されている.本発明の発光部材を製造する装置
としては、例えば第1図に示す装置を使用することがで
きる.図においてノズル2は空胴共振器5に直結してい
ても良い.反応ガスをガス導入口lOから空胴共振器5
へ導入した時は反応は5の中で起き、5は反応室として
動く. 例えば、a−S iの微粒子膜をつくる場合にはガス導
入010よりSi}l4ガスと必要ならばH,ガスを送
り込み、反応室内でプラズマを発生させてガスを分解し
て反応させ、微粒子を形成させる.そしてこれを一部未
反応の気体状の活性種とともにノズルlから噴出させ、
基体7の上に吹き付けて固定する.ガスにエネルギーを
与える手段としては、マイクロ波や紫外線あるいはRF
なとの高周波などの電磁波や低周波や直流などの電場印
加などが使える.実用上最も使い易いのは紫外線又はマ
イクロ波であり、この時は反応室の形状を工夫する必要
はあるが、反応室内に電極などの構造物を置く必要iな
く、エネルギー投入用の窓があれば良い.マイクロ波用
プラズマを用いる場合にも色々なやり方があり、同軸管
を用いるJapanese Journalof Ap
plied Physics 21 [8] L470
(1982)に見られる方法などがあるが、効率的な微
粒子形成を行う立場から見れば、反応室をマイクロ波の
空胴共振器とする方法が非常に有効である. また、ノズルlは上流室内でできた微粒子を、残りのガ
スとともに高速で吹き出し、基体7上に吹き付けて固定
化するために設けてある.ノズルの形状は特に制限され
るものではないが、微粒子の基体7への付着力を高め、
また微粒子をビーム化して基体7上に高速でしかも効率
的に集めるためには、上流側から下流側へ、いわゆる縮
小拡大型の口径変化をもつ超音波ノズルを使用すること
が望ましい.その断面形状は円形だけではなく特開昭6
1−221377号公報に示されている様な変形が目的
に応じて使用可能である。 ノズルより下流側の基体室付近は通常10−3Torr
以下程度に圧力を下げて使用する。ノズル上流と下流と
の圧力比は数lO位から100位あることが望ましい. 以下に本発明における発光部材を形成する微粒子への水
素の導入方法及び含有水素の結合様式を上記のように制
御する方法について説明する.■プラズマを発生させる
手段として、例えばマイクロ波を用いてかつ!00w以
上のパワーの投入等により高エネルギーでガスを分解す
る。 ■キャリアガスにH2または水素の割合の多いガスを用
いる. ■原材料に水素化合物を用いる. 上述した方法以外の水素の導入方法または結合様式の制
御方法を用いても良いことはもちろんである。いずれに
しても微粒子中の水素量と、その結合様式が発光部材の
発光強度を左右することがわかった.また本発明の発光
部材における微粒子が基体上に堆積した微粒子膜は、そ
の表面に保護層が設けてあっても良い。この保護層は微
粒子膜の機械的強度を高め、また変質による発光層の劣
化その他の変化を防止するために有効である。ボリスチ
レン,ポリカーボネートその他の有機ボリマーや石英や
低融点ガラスなどの無機ガラス、あるいは、SiN,
a−Cその他のプラズマ重合膜などが使える。有機ボリ
マーなとでは溶剤塗布などの方法も使えて便利である.
また本発明の微粒子を合成樹脂等のバインダーに分散さ
せた、バインダー分散膜として用いてもよい.その場合
は加熱蒸発法等でバインダー材を微粒子表面にコーティ
ング後、堆積させるようにして行なってもよい.[実施
例] 以下実施例に基づき、本発明を具体的に説明する。 実施例1 第1図の装置を用いてa−St:H微粒子をシリコンウ
ユハの基体7上に堆積させた. 発光部材の作成は、まずシリコンウエハ基板を基板ホル
ダー6にセットした後、排気系11で下流室4を2 X
10−’Torrまで減圧した.次にH2ガスで1%
に希釈したSiHaガスをガス導入管lOから空胴共振
器5内へ流量1503CCMで流した.すると空胴共振
器5内の圧力は4 X 10”’Torrとなり、ノズ
ル1からSi}l<を含むガスが下流室4へ吹き出した
.この時下流室4内の圧力は4. 5X In−3To
rrとなつた.次にマイクロ波をマイクロ波発振器(不
図示)から導波管9および石英製の窓8を通して空胴共
振器5内へ送り込み、空胴共振器5内で放電プラズマを
発生させた.マイクロ波のパワーは!50Wであった.
するとプラズマ内で微粒子が形成されて、残りのガス成
分とともにノズル1から下流室4に吹き出し、微粒子ビ
ームとなって下流室4内の基体7上に衝突し、微粒子を
基体7上に固定した. 基体7上に付着した微粒子の堆積した層の厚さは6分間
の放電で3.0μmであった.また微粒子の堆積物の色
は茶かっ色で光沢があった。 比較例1−1 マイクロ波パワーを60wに変更した以外は、実施例l
と同様にして微粒子を得た。 基体7上に付着した微粒子の堆積した層の厚さは25分
間の放電で5.3}Illであった.また微粒子の堆積
の状況や色は、実施例lと変わらなかった。 比較例1−2 通常のグローディスチャージ(GO)法により、SiJ
sと■2を用いて基板水冷状態で、a−Si:Hの薄膜
を得た.膜の厚さは、1.2μであり茶色の均一膜で■
とSiの結合はSt−H結合を主とするものであった. 実施例2 実施例1と同様の方法で、SiH.ガスをH,ガスで3
%に希釈したものを流量1003CCMで流した.その
他の条件は実施例1と同様にして微粒子を得た. 堆積した層の厚さは6分間の放電で2.2μ鳳であり、
微粒子の堆積の状況や色は実施例1と変わらなかった. 比較例2 希釈するH,ガスをHi 100%からHz/Ar=2
/1の混合ガスに変更した以外は実施例2と全く同様に
して微粒子を得た. 基体6上に付看した微粒子の堆積した石の厚さは1分間
で2.5μ―であった. また上記比較例2は微粒子の堆積の状況や色は実施例2
と変わらなかった. 実施例3 第1図の装置を用い、実施例lに準ずる方法によりガラ
ス基板上に膜形成した.原料は■2ガスで5%に希釈し
たCH4ガスを用いガス流量は753CCMとした.こ
のときの空洞共振器内の圧力は、!.2 x 10−’
Torrであり、マイクロ波パワーは200Wとした.
この膜も、茶色の光沢のある膜状の堆積物であった. 以上のように作成した膜を以下の2項目について評価し
た. ■フォトルミネセンス(PL) 室温で、A「イオンレーザー(λ= 488nm)の青
色の光を各膜に照射し、分光器を用いてスペクトルを観
察した. ■水素含有量 作成した各膜をFT−IRにて分析し、a−Si:}!
膜は2000〜2300cm− ’のピークをa−C:
H膜は2900〜3000ca+− ’のピーク面積よ
り水素量を計算した.■AH2 /A}lm比 ■のFT− I Rチャートよりa−Si:H膜は21
00cm−’をSfH2のピーク2150cm−’をS
il{sのピークと考え、ガウス関数に近似、ピーク分
離により面積比を求めた. またa−C:H膜は2925cm−’をCH.のビーク
、2960cm− ’をCLのピークと考え、ガウス関
数に近似し、ピーク分離により同様に面積比を求めた.
■膜の形状 膜の表面状態なFE−SEM (日立製)で観察した.
結果のまとめを表一lに示す. (以 下 余 白) またAH2 /ALの計算例として実施例1と比較例1
−1.1−2.の各FT− IIIのチャートを第2,
第4.第6図に、また第2図と第4図をAHs /^H
,の比を出すために拡大して吸光度に直したものを第3
図と第5図に示した. さらに実施例1の代表的な発光スペクトルを第7図に示
す. 〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明によれば通常は発光しない
材料を発光させたり、または通常発光するものであって
も発光強度を飛躍的に高めたりすることができる.
第1図は本発明の発光部材を作成するのに用いた装置の
例を示す図、第2図から第6図は微粒子堆積膜のFT−
IR吸収スペクトルを示す図、第7図はArイオンレー
ザーの励起光による、ケイ光スペクトルを示す図である
. l・・・・・・縮小拡大ノズル 2・・・・・・ノズルののど部 2a,2b・・・ノズルの開口部 3・・・・・・磁石 4・・・・・・下流室 5・・・・・・空胴共振器 6・・・・・・基体ホルダー 7・・・・・・基体 8・・・・・・マイクロ波投入窓 9・・・・・・マイクロ波導波管 IO・・・・・・ガス導入口 1l・・・・・・排気系 特許出願人 キヤノン株式会社
例を示す図、第2図から第6図は微粒子堆積膜のFT−
IR吸収スペクトルを示す図、第7図はArイオンレー
ザーの励起光による、ケイ光スペクトルを示す図である
. l・・・・・・縮小拡大ノズル 2・・・・・・ノズルののど部 2a,2b・・・ノズルの開口部 3・・・・・・磁石 4・・・・・・下流室 5・・・・・・空胴共振器 6・・・・・・基体ホルダー 7・・・・・・基体 8・・・・・・マイクロ波投入窓 9・・・・・・マイクロ波導波管 IO・・・・・・ガス導入口 1l・・・・・・排気系 特許出願人 キヤノン株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 励起エネルギーを付与することにより光を放出する発
光部材に於いて、発光部材がC、SiおよびGeからな
る群より選ばれた1種以上の元素を主成分とし、かつ水
素を原子数として10%以上含む微粒子を含むことを特
徴とし、該水素は少なくともAH_3およびAH_2の
形態で含有されており、ただしここでAは該元素であり
、かつAH_3とAH_2の含有割合が AH_3/AH_2≦0.1 を満たしていることを特徴とする発光部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5279589A JPH02234302A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | 発光部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5279589A JPH02234302A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | 発光部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02234302A true JPH02234302A (ja) | 1990-09-17 |
Family
ID=12924774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5279589A Pending JPH02234302A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | 発光部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02234302A (ja) |
-
1989
- 1989-03-07 JP JP5279589A patent/JPH02234302A/ja active Pending
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