JPH02236820A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH02236820A JPH02236820A JP5750289A JP5750289A JPH02236820A JP H02236820 A JPH02236820 A JP H02236820A JP 5750289 A JP5750289 A JP 5750289A JP 5750289 A JP5750289 A JP 5750289A JP H02236820 A JPH02236820 A JP H02236820A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
？の発明は、情報処理システムの外部記憶装置として使
用される固定磁気ディスク装置に適用される磁気記録媒
体の製造方法に関する。
用される固定磁気ディスク装置に適用される磁気記録媒
体の製造方法に関する。
磁気記録媒体（以下、単に媒体とも称する）は、一般に
、アルミニウム合金，強化ガラス，プラスチックなどか
らなる非磁性の板を所要の平行度，平面度，表面粗さに
加工し、その表面にアルマイト処理あるいはＮｉ−Ｐ無
電解めっき処理などを施して非磁性の表面層を形成し、
その表面を所要の粗さに研磨加工して非磁性基体とし、
この基体上に、あるいは必要に応じて磁気特性を強化す
るためにスパッタ法によるＣｒ膜などの下地層をこの基
体上に設けたのちその下地層上に、磁性層として無電解
めっき法によるＣｏ−Ｎｉ−Ｐ膜，スパッタ法によるＣ
Ｏ合金膜， スパッタ法によるγ−ＦｅＪ，膜などの強
磁性金属からなる薄膜を形成し、さらにその上に保護層
としてＣ，ＳｉＯ■などの膜をスパッタ法．スピンコー
ト法などで形成し、その表面をヘッドバニッシなどでバ
ニッシして平滑にして媒？とする。なお、表面の保護層
がＳｉＯ■などの自己潤滑性を有しない酸化物系の材料
からなる場合には、保護層を形成しその上に液体潤滑剤
を塗布して潤滑性を付与したのちに、バニッシ処理を行
う。
、アルミニウム合金，強化ガラス，プラスチックなどか
らなる非磁性の板を所要の平行度，平面度，表面粗さに
加工し、その表面にアルマイト処理あるいはＮｉ−Ｐ無
電解めっき処理などを施して非磁性の表面層を形成し、
その表面を所要の粗さに研磨加工して非磁性基体とし、
この基体上に、あるいは必要に応じて磁気特性を強化す
るためにスパッタ法によるＣｒ膜などの下地層をこの基
体上に設けたのちその下地層上に、磁性層として無電解
めっき法によるＣｏ−Ｎｉ−Ｐ膜，スパッタ法によるＣ
Ｏ合金膜， スパッタ法によるγ−ＦｅＪ，膜などの強
磁性金属からなる薄膜を形成し、さらにその上に保護層
としてＣ，ＳｉＯ■などの膜をスパッタ法．スピンコー
ト法などで形成し、その表面をヘッドバニッシなどでバ
ニッシして平滑にして媒？とする。なお、表面の保護層
がＳｉＯ■などの自己潤滑性を有しない酸化物系の材料
からなる場合には、保護層を形成しその上に液体潤滑剤
を塗布して潤滑性を付与したのちに、バニッシ処理を行
う。
固定磁気ディスク装置においては、このような媒体と磁
気ヘッドとが組み合わせられて装置内に密閉内臓されて
おり、磁気ヘッドを介して情報の記録・再生が行われる
。媒体と磁気ヘッドとは装置が停止しているときには互
いに接触しているが、装置駆動時（情報の記録・再生時
）には媒体が高速回転するために、媒体と磁気ヘッドと
の間に発生する空気流の作用により磁気ヘッドは媒体表
面より僅かに浮上して走行する。従って、装置駆動の開
始時点と中止時点では両者は互いに接触して摺動するこ
とになる。このような停止接触している状態から媒体が
回転を開始して両者が摺動を開始し、磁気ヘッドが浮上
走行し、続いて媒体が回転を中止して両者が接触摺動し
て停止する一連の動作を一般にＣ Ｓ Ｓ （Ｃｏｎｔ
ａｃｔ Ｓｔａｒｔ Ｓｔｏｐ） と呼んでいる。Ｃ
ＳＳ動作を繰り返すと、媒体と磁気ヘッドとの間の摩擦
係数が次第に増加してくることが知られており、その結
果、両者の間に一種の焼き付き状態が発生するとともに
、ヘッドクラッシュという致命的なトラブルを引き起こ
すことがある。このような現象の発生を抑制するために
は、媒体表面の摩擦係数を低減することが必要となり、
媒体の最表面である保護層表面を極く微細にあらすこと
が要求されている。
気ヘッドとが組み合わせられて装置内に密閉内臓されて
おり、磁気ヘッドを介して情報の記録・再生が行われる
。媒体と磁気ヘッドとは装置が停止しているときには互
いに接触しているが、装置駆動時（情報の記録・再生時
）には媒体が高速回転するために、媒体と磁気ヘッドと
の間に発生する空気流の作用により磁気ヘッドは媒体表
面より僅かに浮上して走行する。従って、装置駆動の開
始時点と中止時点では両者は互いに接触して摺動するこ
とになる。このような停止接触している状態から媒体が
回転を開始して両者が摺動を開始し、磁気ヘッドが浮上
走行し、続いて媒体が回転を中止して両者が接触摺動し
て停止する一連の動作を一般にＣ Ｓ Ｓ （Ｃｏｎｔ
ａｃｔ Ｓｔａｒｔ Ｓｔｏｐ） と呼んでいる。Ｃ
ＳＳ動作を繰り返すと、媒体と磁気ヘッドとの間の摩擦
係数が次第に増加してくることが知られており、その結
果、両者の間に一種の焼き付き状態が発生するとともに
、ヘッドクラッシュという致命的なトラブルを引き起こ
すことがある。このような現象の発生を抑制するために
は、媒体表面の摩擦係数を低減することが必要となり、
媒体の最表面である保護層表面を極く微細にあらすこと
が要求されている。
また、近年、情報の大量化．多様化により固定磁気ディ
スク装置の記憶容量を増大させることが強く要望されて
きている。そのために媒体の高記録密度化が要求され、
その効果的な対策として、情報の記録・再生時の磁気ヘ
ッドの低浮上走行化が進められており、媒体表面をより
平滑に微小突起の少ないものにすることが要求されてい
る。
スク装置の記憶容量を増大させることが強く要望されて
きている。そのために媒体の高記録密度化が要求され、
その効果的な対策として、情報の記録・再生時の磁気ヘ
ッドの低浮上走行化が進められており、媒体表面をより
平滑に微小突起の少ないものにすることが要求されてい
る。
ところが、゜媒体の保護層表面をヘッドバニッシする従
来の方法では、ＣＳＳにおける摩擦係数の低減，磁気ヘ
ッドの低浮上走行化には限界がある。
来の方法では、ＣＳＳにおける摩擦係数の低減，磁気ヘ
ッドの低浮上走行化には限界がある。
すなわち、微細にあらすためにバニッシを強《するとか
えって保護層表面に傷をつけ微小突起が増加することに
なり、バニッシを弱くすると保護層表面を適切に微細に
あらすことができず、また、微小突起の除去が不充分と
なる。
えって保護層表面に傷をつけ微小突起が増加することに
なり、バニッシを弱くすると保護層表面を適切に微細に
あらすことができず、また、微小突起の除去が不充分と
なる。
この発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、
要望されている磁気ヘッドの０．１２μｍ程度の安定な
低浮上走行が可能で高記録密度化に対応でき、かつ、Ｃ
ＳＳにおける摩擦係数が実用上充分な程度に小さい媒体
の製造方法を提供することを目的とする。
要望されている磁気ヘッドの０．１２μｍ程度の安定な
低浮上走行が可能で高記録密度化に対応でき、かつ、Ｃ
ＳＳにおける摩擦係数が実用上充分な程度に小さい媒体
の製造方法を提供することを目的とする。
上記の目的は、この発明によれば、非磁性基体上に設け
られた強磁性金属薄膜からなる磁性層を被覆する自己潤
滑性を有する保護層を備えた磁気記録媒体の製造方法に
おいて、前記保護層の表面を平均粒径０．５μｍ以上２
．０μｍ以下の範囲内の砥粒の固着した研磨テープを用
いて研磨する工程を含む製造工程とすることによって達
成される。また、非磁性基体上に設けられた強磁性金属
薄膜からなる磁性層を被覆する自己潤滑性を有しない保
護層を備えた磁気記録媒体の製造方法においては、前記
保護層表面に液体潤滑剤を塗布したのち、この保護層表
面を平均粒径０．５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内の
砥粒の固着した研磨テープを用いて研磨する工程を含む
製造工程とすることによって達成される。
られた強磁性金属薄膜からなる磁性層を被覆する自己潤
滑性を有する保護層を備えた磁気記録媒体の製造方法に
おいて、前記保護層の表面を平均粒径０．５μｍ以上２
．０μｍ以下の範囲内の砥粒の固着した研磨テープを用
いて研磨する工程を含む製造工程とすることによって達
成される。また、非磁性基体上に設けられた強磁性金属
薄膜からなる磁性層を被覆する自己潤滑性を有しない保
護層を備えた磁気記録媒体の製造方法においては、前記
保護層表面に液体潤滑剤を塗布したのち、この保護層表
面を平均粒径０．５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内の
砥粒の固着した研磨テープを用いて研磨する工程を含む
製造工程とすることによって達成される。
上述のように、媒体の保護層表面を平均粒径０．５μｍ
以上２．０μｍ以下の範囲内の砥粒の固着した研磨テー
プを用いて研磨することによって、保護屡の表面形状を
バニッシ加工を施すときよりも合目的，より適切に制御
することが可能となり、所要の表面粗さ，表面形状に加
工することができる。
以上２．０μｍ以下の範囲内の砥粒の固着した研磨テー
プを用いて研磨することによって、保護屡の表面形状を
バニッシ加工を施すときよりも合目的，より適切に制御
することが可能となり、所要の表面粗さ，表面形状に加
工することができる。
研磨に際して、保護層が自己潤滑性を有する材料からな
る場合にはその表面を直接研磨するが、保護層が自己潤
滑性を有しない材料からなる場合にはその表面に液体潤
滑剤を塗布し摩擦係数を小さくした状態で研暦する。こ
のように液体潤滑剤を塗布することにより、研磨時の傷
の発生．研暦テーブの焼き付きなどを防ぎ、また、研暦
仕上げ後も液体潤滑剤層が保護層表面を被覆して潤滑性
を付与することができ有効である。
る場合にはその表面を直接研磨するが、保護層が自己潤
滑性を有しない材料からなる場合にはその表面に液体潤
滑剤を塗布し摩擦係数を小さくした状態で研暦する。こ
のように液体潤滑剤を塗布することにより、研磨時の傷
の発生．研暦テーブの焼き付きなどを防ぎ、また、研暦
仕上げ後も液体潤滑剤層が保護層表面を被覆して潤滑性
を付与することができ有効である。
実施例１
ディスク状八１合金板を所要の平行度，平面度，表面粗
さに加工し、その表面に無電解めっきでＮｉ−Ｐ合金層
を形成し、その表面を研磨して所要の表面形状の非磁性
基体とする。この基体上にスパッタ法でＣｒ下地層，
Ｃｏ合金磁性層．アモルファスカーボンからなる自己潤
滑性を有する保護層を順次成膜積層したのち、保護層表
面をスピードファム社製のファイナルテープポリッシン
グ（以下、単にＦＴＰとも称する）装置を用いてＦＴＰ
加工を施して媒体を作製する。
さに加工し、その表面に無電解めっきでＮｉ−Ｐ合金層
を形成し、その表面を研磨して所要の表面形状の非磁性
基体とする。この基体上にスパッタ法でＣｒ下地層，
Ｃｏ合金磁性層．アモルファスカーボンからなる自己潤
滑性を有する保護層を順次成膜積層したのち、保護層表
面をスピードファム社製のファイナルテープポリッシン
グ（以下、単にＦＴＰとも称する）装置を用いてＦＴＰ
加工を施して媒体を作製する。
第９図はＦＴＰ装置の要部概念図であって、第９図（ａ
） ｉｔ平面図，第９図ら）は第９図（ａ）のＸ−ｘ断
面図を示す。第９図において、１はディスク状の媒体，
２は研磨テープ，３は研磨テーブ２を媒体ｌの保謹層表
面に押圧するためのエアー（あるいは窒素ガスなど）を
研磨テープ２０幅方向に直角な方向のスリット４から吹
き付けるノズルである。
） ｉｔ平面図，第９図ら）は第９図（ａ）のＸ−ｘ断
面図を示す。第９図において、１はディスク状の媒体，
２は研磨テープ，３は研磨テーブ２を媒体ｌの保謹層表
面に押圧するためのエアー（あるいは窒素ガスなど）を
研磨テープ２０幅方向に直角な方向のスリット４から吹
き付けるノズルである。
媒体１を矢印Ａの方向に回転させ、２本の研磨テープ２
をノズル３のスリット４から矢印Ｄの方向に吹き出すエ
アーにより媒体１の表裏両面にそれぞれ押しつけて接触
させ、矢印Ｂの方向に走行させながら、同時に媒体１の
半径方向全長にわたって双方向矢印Ｃの方向に往復動さ
せて保護層表面全面を研磨する。研磨テーブ２はノズル
３のスリット４から吹き出すエアーにより研磨テープ２
の幅方向全長にわたって幅方向に直角の方向でほぼ線接
触状態で保護層表面に圧接し、常時新しい研磨テープ面
で保護層表面を均一に研磨することになる。
をノズル３のスリット４から矢印Ｄの方向に吹き出すエ
アーにより媒体１の表裏両面にそれぞれ押しつけて接触
させ、矢印Ｂの方向に走行させながら、同時に媒体１の
半径方向全長にわたって双方向矢印Ｃの方向に往復動さ
せて保護層表面全面を研磨する。研磨テーブ２はノズル
３のスリット４から吹き出すエアーにより研磨テープ２
の幅方向全長にわたって幅方向に直角の方向でほぼ線接
触状態で保護層表面に圧接し、常時新しい研磨テープ面
で保護層表面を均一に研磨することになる。
このようなＦＴＰ装置を用い、研磨テープとして、材質
がＡＩ ， ０．で、平均粒径が３．Ｑμｍ， ２．０
／Ｊｍ，１．０μｍ，０．５μｍの砥粒をそれぞれ固着
させた番手＄４０００， ＃６０００゜． ＃８０００
． ｌｔｌｏ０００の４種類の研磨テープを用い、第１
表に示す研磨条件で保護層表面第 １ 表 これらの媒体について、媒体表面の塵埃などの付着物を
゜除去する目的でバニツシヘッドを用いてヘッドクリー
ニング（媒体半径方向往復１回）を行った後、Ｇｌｉｄ
ｅ Ｈｉｇｈｔ Ｔｅｓｔ （ヘー）ド滑走特性試験）
をヘッド浮上量０，１２μｍ均一で実施し接触突起数を
カウントした。また、摺動摩擦試験を行って勤摩擦係数
を測定した。
がＡＩ ， ０．で、平均粒径が３．Ｑμｍ， ２．０
／Ｊｍ，１．０μｍ，０．５μｍの砥粒をそれぞれ固着
させた番手＄４０００， ＃６０００゜． ＃８０００
． ｌｔｌｏ０００の４種類の研磨テープを用い、第１
表に示す研磨条件で保護層表面第 １ 表 これらの媒体について、媒体表面の塵埃などの付着物を
゜除去する目的でバニツシヘッドを用いてヘッドクリー
ニング（媒体半径方向往復１回）を行った後、Ｇｌｉｄ
ｅ Ｈｉｇｈｔ Ｔｅｓｔ （ヘー）ド滑走特性試験）
をヘッド浮上量０，１２μｍ均一で実施し接触突起数を
カウントした。また、摺動摩擦試験を行って勤摩擦係数
を測定した。
研磨テープの砥粒の平均粒径と接触突起数との関係を第
１図に、また、同平均粒径と動摩擦係数の最大値との関
係を第２図に示す。磁気ヘッドを損傷するおそれのある
突起はあってはならないものであり、できるだけ少なく
することが要求され、第１図より研磨テープの砥粒の平
均粒径は０．５μｍ以上２．ＯＪＪＩＴ１以下が望まし
＜、１．０μｍが好適であることが判る。また、動摩擦
係数は小さい方がｃｓＳを繰り返したときの磁気ヘッド
の走行が安定して良好であり、第２図より研磨テープの
砥粒の平均粒径は２．０μｍ以下が望ましい。以上の結
果より、磁気ヘッドの安定した低浮上走行化および媒体
表面の動摩擦係数の低減を図るためには、媒体の保護層
表面を砥粒の平均粒径０，５μｍ以上２．０μｍ以下の
研磨テープでＦＴＰ加工を施すことが有効であり、砥粒
の平均粒径が１．０μｍの研磨テープを用いると好適で
あることが判る。
１図に、また、同平均粒径と動摩擦係数の最大値との関
係を第２図に示す。磁気ヘッドを損傷するおそれのある
突起はあってはならないものであり、できるだけ少なく
することが要求され、第１図より研磨テープの砥粒の平
均粒径は０．５μｍ以上２．ＯＪＪＩＴ１以下が望まし
＜、１．０μｍが好適であることが判る。また、動摩擦
係数は小さい方がｃｓＳを繰り返したときの磁気ヘッド
の走行が安定して良好であり、第２図より研磨テープの
砥粒の平均粒径は２．０μｍ以下が望ましい。以上の結
果より、磁気ヘッドの安定した低浮上走行化および媒体
表面の動摩擦係数の低減を図るためには、媒体の保護層
表面を砥粒の平均粒径０，５μｍ以上２．０μｍ以下の
研磨テープでＦＴＰ加工を施すことが有効であり、砥粒
の平均粒径が１．０μｍの研磨テープを用いると好適で
あることが判る。
実施例２
実施例１と同様にして基体上にアモルファスカーボンの
保護層まで形成したのち、保護層表面を実施例１と同様
のＦＴＰ装置により、砥粒の平均粒径１．０μｍの研磨
テープを用い、第２表に示すように研磨条件を変化させ
てＦＴＰ加工を行って媒体を作製した。
保護層まで形成したのち、保護層表面を実施例１と同様
のＦＴＰ装置により、砥粒の平均粒径１．０μｍの研磨
テープを用い、第２表に示すように研磨条件を変化させ
てＦＴＰ加工を行って媒体を作製した。
第 ２
表
これらの媒体について、実施例ｌに準じてＧｌｉｄｅＲ
ｉｇｈｔ Ｔｅｓｔをヘッド浮上ｆｆｉ０．１２μｍ均
一で実施し、接触突起数をカウントした。研磨テープ往
復回数および媒体周速と接触突起数との関係を第３図に
示す。第３図に見られるように媒体周速１２５ｍ／分，
研磨テープ往復回数４回のときに接触突起数は最少とな
る。また、研磨テープ往復速度と接触突起数との関係を
第４図に示すが、研磨テープ往復速度２００ｃｍ／分以
上６００ｃｍ／分以下の範囲では接触突起数はほぼ同数
であるが、６００ｃｍ／分を超えると増大していくこと
が判る。
ｉｇｈｔ Ｔｅｓｔをヘッド浮上ｆｆｉ０．１２μｍ均
一で実施し、接触突起数をカウントした。研磨テープ往
復回数および媒体周速と接触突起数との関係を第３図に
示す。第３図に見られるように媒体周速１２５ｍ／分，
研磨テープ往復回数４回のときに接触突起数は最少とな
る。また、研磨テープ往復速度と接触突起数との関係を
第４図に示すが、研磨テープ往復速度２００ｃｍ／分以
上６００ｃｍ／分以下の範囲では接触突起数はほぼ同数
であるが、６００ｃｍ／分を超えると増大していくこと
が判る。
さらに、これらの媒体について、実施例１に準じて摺動
摩擦試験を行って動摩擦係数を測定した結果、得られた
動摩擦係数の最大値と研磨テープ往復速度との関係を第
５図に示す。第５図より、研暦テーブ往復速度を遅くす
ると動摩擦係数を低減できることが判る。なお、エアー
圧，研暦テープ送り速度は接触突起数にあまり影響しな
かった。
摩擦試験を行って動摩擦係数を測定した結果、得られた
動摩擦係数の最大値と研磨テープ往復速度との関係を第
５図に示す。第５図より、研暦テーブ往復速度を遅くす
ると動摩擦係数を低減できることが判る。なお、エアー
圧，研暦テープ送り速度は接触突起数にあまり影響しな
かった。
以上の結果より、磁気ヘッドの安定した低浮上走行を可
能とし、かつ、ＣＳＳにおける摩擦係数が充分小さい媒
体を得るためには、媒体の保護層表面に砥粒の平均粒径
が０．５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内の研磨テープ
を用いてＦＴＰ加工を施すことが適しており、特に、砥
粒の平均粒径が１．０μｍの研磨テープを用い、媒体周
速１２５ｍ ／秒，エアー圧３７． ５ｎ １ ／分，
研磨テープ送り速度１０ｍｍ／分，研磨テープ往復速
度３００ｃｍ／分， 研磨テープ往復回数４回の条件で
ＦＴＰ加工を施すことが好適であることが判る。
能とし、かつ、ＣＳＳにおける摩擦係数が充分小さい媒
体を得るためには、媒体の保護層表面に砥粒の平均粒径
が０．５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内の研磨テープ
を用いてＦＴＰ加工を施すことが適しており、特に、砥
粒の平均粒径が１．０μｍの研磨テープを用い、媒体周
速１２５ｍ ／秒，エアー圧３７． ５ｎ １ ／分，
研磨テープ送り速度１０ｍｍ／分，研磨テープ往復速
度３００ｃｍ／分， 研磨テープ往復回数４回の条件で
ＦＴＰ加工を施すことが好適であることが判る。
実施例３
実施例１と同様にして基体上に磁性層まで形成し、その
上にＳｉｎ２を成膜して自己潤滑性を有しない酸化物か
らなる保護層を形成し、この保護層上に液体潤滑剤Ｆｏ
ｍｂｒｉｎ Ｚ−ｄｏｌ（分子量４０００） （モンテ
フルオス側製）を塗布したのち、実施例１と同様のＦＴ
Ｐ装置を用いてＦＴＰ加工を施して媒体を作製する。
上にＳｉｎ２を成膜して自己潤滑性を有しない酸化物か
らなる保護層を形成し、この保護層上に液体潤滑剤Ｆｏ
ｍｂｒｉｎ Ｚ−ｄｏｌ（分子量４０００） （モンテ
フルオス側製）を塗布したのち、実施例１と同様のＦＴ
Ｐ装置を用いてＦＴＰ加工を施して媒体を作製する。
研磨テープとして、実施例１と同じく、材質がＪＶ ２
０ ｓで砥粒の平均粒径がそれぞれ３．０μｍ， ２．
０ｐｍ． １．０μｍ， ［ｌ．５μｍである番手＄４
０００， ＄６０００，＃８０００， ＄１００００の
研磨テープを用い、媒体周速１００ｍ／分，エアー圧２
９ｎ ｊ！ ／分，研磨テープ送り速度５ｍｍ／分，研
暦テープ往復速度９００ｃｆｆｌ／分，研磨テープ往復
回数３回の条件で保護層表面にＦＴＰ加工を施して媒体
とした。
０ ｓで砥粒の平均粒径がそれぞれ３．０μｍ， ２．
０ｐｍ． １．０μｍ， ［ｌ．５μｍである番手＄４
０００， ＄６０００，＃８０００， ＄１００００の
研磨テープを用い、媒体周速１００ｍ／分，エアー圧２
９ｎ ｊ！ ／分，研磨テープ送り速度５ｍｍ／分，研
暦テープ往復速度９００ｃｆｆｌ／分，研磨テープ往復
回数３回の条件で保護層表面にＦＴＰ加工を施して媒体
とした。
これらの媒体について、ＡＬＬ／Ｔｉｃのバニツシヘッ
ドを用い媒体の保護層表面全面にヘッドバニッシ（媒体
半径方向往復３回）を行った後、実施例１に準じてＧｌ
ｉｄｅ Ｈｉｇｈｔ Ｔｅｓｔをヘ−）ド浮上量０．１
２μｍで実施し、接触突起数をカウントした。
ドを用い媒体の保護層表面全面にヘッドバニッシ（媒体
半径方向往復３回）を行った後、実施例１に準じてＧｌ
ｉｄｅ Ｈｉｇｈｔ Ｔｅｓｔをヘ−）ド浮上量０．１
２μｍで実施し、接触突起数をカウントした。
また、これらの媒体の表面形状を■小坂研究所製の微細
形状測定器サーフコーダＥ Ｔ −３０ Ｈ Ｋで調べ
た。
形状測定器サーフコーダＥ Ｔ −３０ Ｈ Ｋで調べ
た。
研磨テープの砥粒の平均粒径と接触突起数との関係を第
６図に、また、同平均粒径と媒体表面形状との関係のう
ちピークカウント（十方式）との関係を第７図に，ΔＣ
ｖ （１０％−１％》との関係を第８図に示す。ここ
に、ピークカウント（十方式）は基準長さ２．５μｍを
とりその範囲内での表面凹凸で平均線からの山の高さが
０． ０１５μｍ以上のピークとしてカウントされたピ
ーク個数であり、△Ｃｖ（１０％−１％）は表面の相対
負荷曲線の相対負荷長さ１０％におけるカッティング深
さから相対負荷長さ１％におけるカッティング深さを差
し引いた値で示される表面粗さの一指標である。第６図
より、突起の除去に関しては砥粒の平均粒径が０．５μ
ｍ以上２．０μｍ以下の範囲の研磨テープを用いると好
適であることが判る。また、ＣＳＳにおける摩擦係数が
実用上充分な程度に小さく、かつ、磁気ヘッドの焼き付
き状態が発生しない程度の適度の表面粗さの表面形状と
しては、ピークカウントは８０ないし１５０．ΔＣｖ（
１０％−１％）は１３０人ないし２３０人が望ましいと
されており、第７図および第８図より砥粒の平均粒径が
０．５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内の研暦テーブを
用いることが望ましいことが判る。
６図に、また、同平均粒径と媒体表面形状との関係のう
ちピークカウント（十方式）との関係を第７図に，ΔＣ
ｖ （１０％−１％》との関係を第８図に示す。ここ
に、ピークカウント（十方式）は基準長さ２．５μｍを
とりその範囲内での表面凹凸で平均線からの山の高さが
０． ０１５μｍ以上のピークとしてカウントされたピ
ーク個数であり、△Ｃｖ（１０％−１％）は表面の相対
負荷曲線の相対負荷長さ１０％におけるカッティング深
さから相対負荷長さ１％におけるカッティング深さを差
し引いた値で示される表面粗さの一指標である。第６図
より、突起の除去に関しては砥粒の平均粒径が０．５μ
ｍ以上２．０μｍ以下の範囲の研磨テープを用いると好
適であることが判る。また、ＣＳＳにおける摩擦係数が
実用上充分な程度に小さく、かつ、磁気ヘッドの焼き付
き状態が発生しない程度の適度の表面粗さの表面形状と
しては、ピークカウントは８０ないし１５０．ΔＣｖ（
１０％−１％）は１３０人ないし２３０人が望ましいと
されており、第７図および第８図より砥粒の平均粒径が
０．５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内の研暦テーブを
用いることが望ましいことが判る。
．以上の結果より、自己潤滑性を有しない保護層を有す
る媒体においては、保護層表面に液体潤滑剤を塗布した
後に、保護層表面に砥粒の平均粒径が０．５μｍ以上２
．０μｍ以下の範囲内の研磨テープを用いてＦＴＰ加工
を施すことにより、磁気ヘッドの安定した低浮上走行を
可能とし、かつ、ＣＳＳにおける摩擦係数が充分小さく
、磁気ヘッドの焼き付き状態も発生しにくい媒体を得る
ことができる。
る媒体においては、保護層表面に液体潤滑剤を塗布した
後に、保護層表面に砥粒の平均粒径が０．５μｍ以上２
．０μｍ以下の範囲内の研磨テープを用いてＦＴＰ加工
を施すことにより、磁気ヘッドの安定した低浮上走行を
可能とし、かつ、ＣＳＳにおける摩擦係数が充分小さく
、磁気ヘッドの焼き付き状態も発生しにくい媒体を得る
ことができる。
自己潤滑性を有しない保護層を形成する材料としてはＳ
ｉｎ２のほかに、ＺｒＯａ （酸化ジルコニウム）Ｓｉ
Ａ４７０Ｎ， ＺｎＯ（酸化亜鉛）などがあり、これら
の材料からなる保護層の場合にも実施例の方法は有効で
ある。
ｉｎ２のほかに、ＺｒＯａ （酸化ジルコニウム）Ｓｉ
Ａ４７０Ｎ， ＺｎＯ（酸化亜鉛）などがあり、これら
の材料からなる保護層の場合にも実施例の方法は有効で
ある。
この発明によれば、非磁性基体上に設けられた強磁性金
属薄膜からなる磁性層を被覆する保護層を備えた媒体の
製造方法において、この保護層表面を、自己潤滑性を有
する保護層の場合には直接，自己潤滑性を有しない保護
層の場合には液体潤滑剤を塗布したのちに、平均粒径０
，５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内の砥粒の固着した
研暦テーブを用いて研磨する。
属薄膜からなる磁性層を被覆する保護層を備えた媒体の
製造方法において、この保護層表面を、自己潤滑性を有
する保護層の場合には直接，自己潤滑性を有しない保護
層の場合には液体潤滑剤を塗布したのちに、平均粒径０
，５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内の砥粒の固着した
研暦テーブを用いて研磨する。
このような研磨テープで研磨することにより保護層表面
形状を従来のバニッシ加工を施すときよりも合目的に適
切に制御して、磁気ヘッドの０．１２μｍ程度の安定な
低浮上走行が可能で高記録密度化に対応でき、かつ、Ｃ
ＳＳにおける摩擦係数が実用上充分な程度に小さく、磁
気ヘッドの焼き付き状態も発生しにくい、信頼性の高い
磁気記録媒体を得ることが可能となる。
形状を従来のバニッシ加工を施すときよりも合目的に適
切に制御して、磁気ヘッドの０．１２μｍ程度の安定な
低浮上走行が可能で高記録密度化に対応でき、かつ、Ｃ
ＳＳにおける摩擦係数が実用上充分な程度に小さく、磁
気ヘッドの焼き付き状態も発生しにくい、信頼性の高い
磁気記録媒体を得ることが可能となる。
第１図ないし第５図はアモルファスカーボンからなる保
護層を有する媒体に関するもので、第１図は研磨テープ
の砥粒平均粒径と接触突起数との関係を示す線図、第２
図は同じく平均粒径と動摩擦係数の最大値との関係を示
す線図、第３図は媒体周速および研磨テープ往復回数と
接触突起数との関係を示す線図、第４図は研磨テープ往
復速度と接触突起数との関係を示す線図、第５図は研磨
テープ往復速度と動摩擦係数の最大値との関係を示す線
図である。第６図ないし第８図はＳｉｎ．からなる保護
層を有する媒体に関するもので、第６図は研磨テープの
砥粒平均粒径と接触突起数との関係を示す線図、第７図
は同じく平均粒径とピークカウン゜ト（十方式） との
関係を示す線図、第８図は同じく平均粒径とΔＣｖ（１
０％−１％）との関係を示す線図である。第９図はこの
発明の実施例で用いたＦＴＰ装置の要部概念図で、第９
図（ａ）は平面図、第９図ら）は第９図（ａ）のＸ−ｘ
断面図である。 平均粒径（＃Ｌｍ） 第１図 接触突起数〔個／面〕 Ｑ 平均粒径 〔μｍ〕 第 図 研磨テープ往復速度 （ｃｍ／ｍｉｎ） 第 図 研磨テープ往復速度 （ｃｍ／ｍｉｎ） 第 図 平均粒径 （ｐｍ） 第 図 平均粒径（ｐｍ） 第８図 （ａ） 第 図
護層を有する媒体に関するもので、第１図は研磨テープ
の砥粒平均粒径と接触突起数との関係を示す線図、第２
図は同じく平均粒径と動摩擦係数の最大値との関係を示
す線図、第３図は媒体周速および研磨テープ往復回数と
接触突起数との関係を示す線図、第４図は研磨テープ往
復速度と接触突起数との関係を示す線図、第５図は研磨
テープ往復速度と動摩擦係数の最大値との関係を示す線
図である。第６図ないし第８図はＳｉｎ．からなる保護
層を有する媒体に関するもので、第６図は研磨テープの
砥粒平均粒径と接触突起数との関係を示す線図、第７図
は同じく平均粒径とピークカウン゜ト（十方式） との
関係を示す線図、第８図は同じく平均粒径とΔＣｖ（１
０％−１％）との関係を示す線図である。第９図はこの
発明の実施例で用いたＦＴＰ装置の要部概念図で、第９
図（ａ）は平面図、第９図ら）は第９図（ａ）のＸ−ｘ
断面図である。 平均粒径（＃Ｌｍ） 第１図 接触突起数〔個／面〕 Ｑ 平均粒径 〔μｍ〕 第 図 研磨テープ往復速度 （ｃｍ／ｍｉｎ） 第 図 研磨テープ往復速度 （ｃｍ／ｍｉｎ） 第 図 平均粒径 （ｐｍ） 第 図 平均粒径（ｐｍ） 第８図 （ａ） 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）非磁性基体上に設けられた強磁性金属薄膜からなる
磁性層を被覆する自己潤滑性を有する保護層を備えた磁
気記録媒体の製造方法において、前記保護層の表面を平
均粒径０．５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内の砥粒の
固着した研磨テープを用いて研磨する工程を含むことを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ２）非磁性基体上に設けられた強磁性金属薄膜からなる
磁性層を被覆する自己潤滑性を有しない保護層を備えた
磁気記録媒体の製造方法において、前記保護層表面に液
体潤滑剤を塗布したのち、この保護層表面を平均粒径０
．５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内の砥粒の固着した
研磨テープを用いて研磨する工程を含むことを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1057502A JP2580762B2 (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1057502A JP2580762B2 (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02236820A true JPH02236820A (ja) | 1990-09-19 |
| JP2580762B2 JP2580762B2 (ja) | 1997-02-12 |
Family
ID=13057500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1057502A Expired - Fee Related JP2580762B2 (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2580762B2 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5990428A (ja) * | 1982-11-13 | 1984-05-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ジヨセフソン接合素子を用いた超伝導回路装置 |
| JPS61261820A (ja) * | 1985-05-16 | 1986-11-19 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気デイスク媒体の製造方法 |
| JPS62282858A (ja) * | 1986-05-27 | 1987-12-08 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS63312074A (ja) * | 1987-06-13 | 1988-12-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 緩衝性を有する研磨テ−プ |
-
1989
- 1989-03-09 JP JP1057502A patent/JP2580762B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5990428A (ja) * | 1982-11-13 | 1984-05-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ジヨセフソン接合素子を用いた超伝導回路装置 |
| JPS61261820A (ja) * | 1985-05-16 | 1986-11-19 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気デイスク媒体の製造方法 |
| JPS62282858A (ja) * | 1986-05-27 | 1987-12-08 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS63312074A (ja) * | 1987-06-13 | 1988-12-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 緩衝性を有する研磨テ−プ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2580762B2 (ja) | 1997-02-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |