JPH02237606A - 沈殿処理槽 - Google Patents
沈殿処理槽Info
- Publication number
- JPH02237606A JPH02237606A JP5737089A JP5737089A JPH02237606A JP H02237606 A JPH02237606 A JP H02237606A JP 5737089 A JP5737089 A JP 5737089A JP 5737089 A JP5737089 A JP 5737089A JP H02237606 A JPH02237606 A JP H02237606A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- settling
- tank
- sludge
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
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Landscapes
- Treatment Of Biological Wastes In General (AREA)
- Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は.下水処理を行う沈殿処理槽,特に.浮体上に
設置される沈殿処理槽の改良に間するものである. [従来の技術] 第2図に下水処理の一般的なフローを示してある. Aは最初沈殿槽で,下水中の大きな固形物を沈殿除去す
るためのもの.Bは曝気槽で下水中に含まれるBOD成
分を微生物で処理するため.空気を吹き込んでエアレー
ションする所である.Cは最終沈殿槽で,本発明の対象
となる沈殿処理槽が採用されており,曝気された下水に
含まれる汚泥を静置し沈殿させるものである.Dは滅菌
槽で,最終沈殿槽の上澄みを滅菌処理して排出するもの
である. なお.最初沈殴槽A.および.最終沈殿槽Cがら得られ
る汚泥は,肥料として再利用したり,焼却炉で焼却処理
したり,あるいは.埋め立て等で処理される. 第3図には.最終沈殿槽Cで用いる沈殿処理槽の概略を
示してある. 1は沈殿槽で.多くの孔のあいた整流板4によって流入
室2と沈殿室3とに区画されている.流入室2には流入
管5が取り付けられており,通常2000ないし300
0ppmの活性汚泥混合液が供給され,整流板4によっ
て一様流が形成されて沈殿室3に流れ込む。
設置される沈殿処理槽の改良に間するものである. [従来の技術] 第2図に下水処理の一般的なフローを示してある. Aは最初沈殿槽で,下水中の大きな固形物を沈殿除去す
るためのもの.Bは曝気槽で下水中に含まれるBOD成
分を微生物で処理するため.空気を吹き込んでエアレー
ションする所である.Cは最終沈殿槽で,本発明の対象
となる沈殿処理槽が採用されており,曝気された下水に
含まれる汚泥を静置し沈殿させるものである.Dは滅菌
槽で,最終沈殿槽の上澄みを滅菌処理して排出するもの
である. なお.最初沈殴槽A.および.最終沈殿槽Cがら得られ
る汚泥は,肥料として再利用したり,焼却炉で焼却処理
したり,あるいは.埋め立て等で処理される. 第3図には.最終沈殿槽Cで用いる沈殿処理槽の概略を
示してある. 1は沈殿槽で.多くの孔のあいた整流板4によって流入
室2と沈殿室3とに区画されている.流入室2には流入
管5が取り付けられており,通常2000ないし300
0ppmの活性汚泥混合液が供給され,整流板4によっ
て一様流が形成されて沈殿室3に流れ込む。
沈殿室3には処理水排出用の越流堰(穴明き潜り管でも
良い)6が配置され,滞留時間3時間程度静置された排
水の上澄みは浮遊物質濃度10ppm程度5あるいは,
それ以下になり,排水管7から排出されるようになって
いる. 沈殿室3の底部に沈殿した汚泥は,図示を省略したスク
レーパなどにより流入室2側に掻き寄せれれ,整流板4
と沈殿室3との間の隙間を通って流入室2の底部に形成
された汚泥室8に集められる.集められた数千ないし数
万ppra程度の沈殿汚泥は.排出管9より外部に取り
出される.[発明が解決しようとする問題点] 従来の下水処理設備は地上に配置されており,その設備
を浮体上に設置しようとすると,様々な不具合が生じて
くる.すなわち.静置した状態で本来使用するものを,
浮体と言う揺動するところで使用すると種々の影響が出
てくる. 最初沈殿槽Aは下水中の大きな固形分を沈殿させるもの
であり,槽が揺勤することに対してそれほど敏感ではな
い.また.曝気槽Bは積極的に掻き回すことが必要であ
り.槽の掃動は寧ろ好ましいものとなっている. しかし,最終沈殿槽Cでは,この揺動が大きな問題とな
る.すなわち.最終沈殿槽Cの沈殿室3で沈殿させるも
のは水とほぼ比重の等しい活性汚泥であるため.出来る
だけ静かに沈殿させることが望ましいからである. ところが.浮体上に下水処理設備を設置すると.潮の満
ち干.波,風の影響を受け,浮体は少なからず動揺する
.浮体.すなわち沈殿槽1が僅か数度傾いただけであっ
ても槽内の液面は傾斜し,その都度活性汚泥混合液が整
流板4を通って流入室2内と沈殿室3内の間を行き来す
ることになる.汚泥の沈降に最も影響を与えるのは,流
入室2から沈殿室3に入る入口部,つまり,整流板4の
付近であって,この入口部で汚泥の凝集によるフロック
化が生じ,凝集したフロックを含有する活性汚泥混合液
が沈殿室3に流入して沈降分離が進行する.従って.整
流板4を行き来する活性汚泥混合液によって沈殿が阻害
され.また,やっと凝集した汚泥の撹拌も行われ,十分
な沈殿分離の効果を得ることができない. [問題点を解決するための手段] 本発明は,整流板によって流入室と沈殿室とに区画され
た沈殿槽と,上記流入室に活性汚泥混合液(原水)を供
給する手段と,上記沈殿室から上澄みを排水する手段と
,上記沈殿槽の沈殿室に沈殿した汚泥を掻き寄せる手段
と,掻き寄せられた汚泥を排出する手段とを有する沈殿
処理槽において.上記流入室の水面を上記沈殿室の基準
水面以下に保持する天井板とを備え.上記流入室を常時
満水状態になるようにしたものである.[作用] 流入室に天井板を設けることにより,整流板,天井板で
囲まれた流入室のほぼ密閉された空間が満水の状態とな
り.液面が傾斜することが無い.したがって,沈殿槽全
体が傾き.沈殿室内の液面が傾斜したとしても.整流板
を通しての活性汚泥混合液の出入りがない. C実施例] 以下,本発明を第1図に示す一実施例の沈殿処理装置に
ついて説明するが,符号1ないし9を付したものの構造
作用は第3図のものと同一であるので説明を省略する. 図において10は天井板で.流入室2の全面を覆うよう
に取り付けられており.その位置は沈殿室3内の基準水
面L以下になっている.なお.図示は省略してあるが,
天井板10に逆止弁等を備えた空気抜き管を取り付け,
流入室3内に流入する活性汚泥混合液の量が変動した場
合でも流入室が常に満水状態になるようにしてある. このような沈殿処理槽を浮体上に乗せると.浮体の動揺
に応じて沈殿室3内の水面は傾斜する.しかし,流入室
2には天井板10が取り付けてあり上部の空気のみが空
気抜き管により外部へ排出されているので.常に満水状
態となっており,活性汚泥混合液が流入室2と沈殿室3
の間を行き来する事がない。
良い)6が配置され,滞留時間3時間程度静置された排
水の上澄みは浮遊物質濃度10ppm程度5あるいは,
それ以下になり,排水管7から排出されるようになって
いる. 沈殿室3の底部に沈殿した汚泥は,図示を省略したスク
レーパなどにより流入室2側に掻き寄せれれ,整流板4
と沈殿室3との間の隙間を通って流入室2の底部に形成
された汚泥室8に集められる.集められた数千ないし数
万ppra程度の沈殿汚泥は.排出管9より外部に取り
出される.[発明が解決しようとする問題点] 従来の下水処理設備は地上に配置されており,その設備
を浮体上に設置しようとすると,様々な不具合が生じて
くる.すなわち.静置した状態で本来使用するものを,
浮体と言う揺動するところで使用すると種々の影響が出
てくる. 最初沈殿槽Aは下水中の大きな固形分を沈殿させるもの
であり,槽が揺勤することに対してそれほど敏感ではな
い.また.曝気槽Bは積極的に掻き回すことが必要であ
り.槽の掃動は寧ろ好ましいものとなっている. しかし,最終沈殿槽Cでは,この揺動が大きな問題とな
る.すなわち.最終沈殿槽Cの沈殿室3で沈殿させるも
のは水とほぼ比重の等しい活性汚泥であるため.出来る
だけ静かに沈殿させることが望ましいからである. ところが.浮体上に下水処理設備を設置すると.潮の満
ち干.波,風の影響を受け,浮体は少なからず動揺する
.浮体.すなわち沈殿槽1が僅か数度傾いただけであっ
ても槽内の液面は傾斜し,その都度活性汚泥混合液が整
流板4を通って流入室2内と沈殿室3内の間を行き来す
ることになる.汚泥の沈降に最も影響を与えるのは,流
入室2から沈殿室3に入る入口部,つまり,整流板4の
付近であって,この入口部で汚泥の凝集によるフロック
化が生じ,凝集したフロックを含有する活性汚泥混合液
が沈殿室3に流入して沈降分離が進行する.従って.整
流板4を行き来する活性汚泥混合液によって沈殿が阻害
され.また,やっと凝集した汚泥の撹拌も行われ,十分
な沈殿分離の効果を得ることができない. [問題点を解決するための手段] 本発明は,整流板によって流入室と沈殿室とに区画され
た沈殿槽と,上記流入室に活性汚泥混合液(原水)を供
給する手段と,上記沈殿室から上澄みを排水する手段と
,上記沈殿槽の沈殿室に沈殿した汚泥を掻き寄せる手段
と,掻き寄せられた汚泥を排出する手段とを有する沈殿
処理槽において.上記流入室の水面を上記沈殿室の基準
水面以下に保持する天井板とを備え.上記流入室を常時
満水状態になるようにしたものである.[作用] 流入室に天井板を設けることにより,整流板,天井板で
囲まれた流入室のほぼ密閉された空間が満水の状態とな
り.液面が傾斜することが無い.したがって,沈殿槽全
体が傾き.沈殿室内の液面が傾斜したとしても.整流板
を通しての活性汚泥混合液の出入りがない. C実施例] 以下,本発明を第1図に示す一実施例の沈殿処理装置に
ついて説明するが,符号1ないし9を付したものの構造
作用は第3図のものと同一であるので説明を省略する. 図において10は天井板で.流入室2の全面を覆うよう
に取り付けられており.その位置は沈殿室3内の基準水
面L以下になっている.なお.図示は省略してあるが,
天井板10に逆止弁等を備えた空気抜き管を取り付け,
流入室3内に流入する活性汚泥混合液の量が変動した場
合でも流入室が常に満水状態になるようにしてある. このような沈殿処理槽を浮体上に乗せると.浮体の動揺
に応じて沈殿室3内の水面は傾斜する.しかし,流入室
2には天井板10が取り付けてあり上部の空気のみが空
気抜き管により外部へ排出されているので.常に満水状
態となっており,活性汚泥混合液が流入室2と沈殿室3
の間を行き来する事がない。
したがって,沈殿室における汚泥の沈殿は順調に行われ
.地上の設備tなんら変わることのない程度の沈殿分離
効率をあげることが可能となる.[発明の効果] 本発明の沈殿処理槽を用いることにより.従来困難とさ
れていた浮体上への下水処理設備の設置が可能となり,
産業上極めて有用である.
.地上の設備tなんら変わることのない程度の沈殿分離
効率をあげることが可能となる.[発明の効果] 本発明の沈殿処理槽を用いることにより.従来困難とさ
れていた浮体上への下水処理設備の設置が可能となり,
産業上極めて有用である.
第1図は本発明の一実施例を示す沈殿処理槽の図,第2
図は下水処理の流れを示す図,第3rJ!Jは従来の沈
殿処理槽の図である. l:沈殿槽. 2:流入室, 3:沈殿室、4:整
流板, 5;流入管. 6:堰.7:排水管,
8:汚泥室, 9:排出管.10:天井板
図は下水処理の流れを示す図,第3rJ!Jは従来の沈
殿処理槽の図である. l:沈殿槽. 2:流入室, 3:沈殿室、4:整
流板, 5;流入管. 6:堰.7:排水管,
8:汚泥室, 9:排出管.10:天井板
Claims (1)
- 整流板によって流入室と沈殿室とに区画された沈殿槽と
、上記流入室に活性汚泥混合液を供給する手段と、上記
沈殿室から上澄みを排水する手段と、上記沈殿槽の沈殿
室に沈殿した汚泥を掻き寄せる手段と、掻き寄せられた
汚泥を排出する手段とを有する沈殿処理槽において、上
記流入室の水面を上記沈殿室の基準水面以下に保持する
天井板とを備え、上記流入室を常時満水状態になるよう
にしたことを特徴とする沈殿処理槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5737089A JP2691003B2 (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 沈殿処理槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5737089A JP2691003B2 (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 沈殿処理槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02237606A true JPH02237606A (ja) | 1990-09-20 |
| JP2691003B2 JP2691003B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=13053705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5737089A Expired - Lifetime JP2691003B2 (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 沈殿処理槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2691003B2 (ja) |
-
1989
- 1989-03-09 JP JP5737089A patent/JP2691003B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2691003B2 (ja) | 1997-12-17 |
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