JPH02237627A - 選択性気体透過膜 - Google Patents
選択性気体透過膜Info
- Publication number
- JPH02237627A JPH02237627A JP1056841A JP5684189A JPH02237627A JP H02237627 A JPH02237627 A JP H02237627A JP 1056841 A JP1056841 A JP 1056841A JP 5684189 A JP5684189 A JP 5684189A JP H02237627 A JPH02237627 A JP H02237627A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- permeable membrane
- gas permeable
- selective gas
- carbon atoms
- Prior art date
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- Pending
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、混合気体から特定の気体を選択的に透過さ
せる気体分離濃縮用の選択性気体透過膜に関するもので
ある。
せる気体分離濃縮用の選択性気体透過膜に関するもので
ある。
従来の技術
近年、混合気体より特定の気体を高分子の膜を介して分
離濃縮する技術が実用化され始め、既に空気中よりの酸
素の濃縮、工業用水素分離濃縮および炭酸ガスの回収等
に用いられている。特に、空気中より酸素を濃縮するい
わゆる酸素富化膜は、その用途が広いために産業界に与
える影響が大きい。
離濃縮する技術が実用化され始め、既に空気中よりの酸
素の濃縮、工業用水素分離濃縮および炭酸ガスの回収等
に用いられている。特に、空気中より酸素を濃縮するい
わゆる酸素富化膜は、その用途が広いために産業界に与
える影響が大きい。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、現在実用化されている酸素富化膜で考え
ると、大気空気を処理するものとしては、ポリオルガノ
シロキサy系の膜が多く、同膜の材料固有の酸素透過速
度は、約0.1 cc/c+J−sec −atm程度
である。一方、ポリオルガノシロキサン系の膜の酸素/
窒素の分離比は2に達せず小さく、生成される酸素富化
空気中の酸素濃度も30%に達しない。
ると、大気空気を処理するものとしては、ポリオルガノ
シロキサy系の膜が多く、同膜の材料固有の酸素透過速
度は、約0.1 cc/c+J−sec −atm程度
である。一方、ポリオルガノシロキサン系の膜の酸素/
窒素の分離比は2に達せず小さく、生成される酸素富化
空気中の酸素濃度も30%に達しない。
酸素富化膜のうち医療用に用いられるものは、酸素/窒
素の分離比が3〜4と高く、40%前後の酸素富化空気
が得られるのであるが、気体の処理量が少ない。例えば
,ポリオレフィン系の膜の材料固有の酸素透過速度は、
0.01〜0.001 cc/ctd−sec−atm
と極めて小さいのである。
素の分離比が3〜4と高く、40%前後の酸素富化空気
が得られるのであるが、気体の処理量が少ない。例えば
,ポリオレフィン系の膜の材料固有の酸素透過速度は、
0.01〜0.001 cc/ctd−sec−atm
と極めて小さいのである。
さらに、ポリオルガノシロキサン系の膜よりも高気体透
過性の材料として、アセチレン系高分子である1−モノ
アルキルシリルプロピレン重合体膜材料がある(特開昭
69 − 1 54106号公報)。
過性の材料として、アセチレン系高分子である1−モノ
アルキルシリルプロピレン重合体膜材料がある(特開昭
69 − 1 54106号公報)。
この膜材料は気体透過性が約1桁も高い。しかしながら
、1−モノアルキルシリルプロピレン重合体膜は、酸素
と窒素の分離性が悪く、比率が1.4程度しかない。し
かも、気体透過性も初期特性は上記のように優れている
が、経時劣化が激しい。
、1−モノアルキルシリルプロピレン重合体膜は、酸素
と窒素の分離性が悪く、比率が1.4程度しかない。し
かも、気体透過性も初期特性は上記のように優れている
が、経時劣化が激しい。
例えば、0.1μm程度の膜だと分オーダで特性が劣化
してゆくので、実用性に乏しく応用展開が困難である。
してゆくので、実用性に乏しく応用展開が困難である。
もちろん、1−モノアルキルシリルプロピレン重合体膜
の特性改善の試みもなされてはいるが、実用レベルに達
するようなものは無いのが現状である。
の特性改善の試みもなされてはいるが、実用レベルに達
するようなものは無いのが現状である。
この発明は、上記事情に鑑み、十分な気体選択性と気体
透過性を兼ね備え、しかも、その経時劣化が少ない高性
能選択性気体透過膜を提供することを課題とする。
透過性を兼ね備え、しかも、その経時劣化が少ない高性
能選択性気体透過膜を提供することを課題とする。
課題を解決するための手段
前記課題を解決するため、請求項1〜4記載の発明は、
以下のような構成をとっている。
以下のような構成をとっている。
請求項1〜4記載の選択性気体透過膜は、下記一般式(
a)であらわされ気体透過性の優れた第1の高分子と、
下記一般式(b)であらわされ気体透過性の優れた第2
の高分子で構成するようにしている。
a)であらわされ気体透過性の優れた第1の高分子と、
下記一般式(b)であらわされ気体透過性の優れた第2
の高分子で構成するようにしている。
(但し、R1は炭素数が1〜3のアルキル基またはハロ
ゲン原子を表し、R2はフェニル基,炭素数が1〜6の
アルキル基またはトリアルキルシリル基を表し、このト
リアルキルシリル基のアルキル基は炭素数が1〜6であ
る。1分子内のR1は同種でも異種でもよく、R2も同
様である。)R.. (但し、Xはシルエチレン残基またはシルフエニレン残
基を表し、R3,几4は炭素数が1〜6のアルキル基ま
たはフェニル基を表す。1分子内のXは同種でも異種で
もよ<R31R4も同様である。) 請求項2記載の選択性気体透過膜は、加えて、第1の高
分子と第2の高分子が別々に水面展開法により薄膜化さ
れていて、第1の高分子薄膜が多孔質支持体上に直接支
持され、その上に第20高分子薄膜が積層されている構
成となっている。
ゲン原子を表し、R2はフェニル基,炭素数が1〜6の
アルキル基またはトリアルキルシリル基を表し、このト
リアルキルシリル基のアルキル基は炭素数が1〜6であ
る。1分子内のR1は同種でも異種でもよく、R2も同
様である。)R.. (但し、Xはシルエチレン残基またはシルフエニレン残
基を表し、R3,几4は炭素数が1〜6のアルキル基ま
たはフェニル基を表す。1分子内のXは同種でも異種で
もよ<R31R4も同様である。) 請求項2記載の選択性気体透過膜は、加えて、第1の高
分子と第2の高分子が別々に水面展開法により薄膜化さ
れていて、第1の高分子薄膜が多孔質支持体上に直接支
持され、その上に第20高分子薄膜が積層されている構
成となっている。
請求項3記載の選択性気体透過膜は、加えて、多孔質支
持体が芳香族ボリスルホンまたはポリエーテルスルホン
で形成するようにしている。
持体が芳香族ボリスルホンまたはポリエーテルスルホン
で形成するようにしている。
請求項4記載の選択性気体透過膜は、加えて、第2の高
分子として、シロキサン含有率が80%以上であるとと
もに、その重量平均分子量が10000以上であるもの
を用いている。
分子として、シロキサン含有率が80%以上であるとと
もに、その重量平均分子量が10000以上であるもの
を用いている。
作用
この発明の選択性気体透過膜は、前記第1、2の両高分
子、すなわちアセチレン系高分子とシリコーン変性ポリ
マーからなる複合膜であるため、気体透過性および気体
選択性が共に良く、しかも、その経時劣化が少ない。
子、すなわちアセチレン系高分子とシリコーン変性ポリ
マーからなる複合膜であるため、気体透過性および気体
選択性が共に良く、しかも、その経時劣化が少ない。
気体透過性についてみると、例えば、この発明の膜の酸
素透過流量(Fo1)は、0.4 〜1. 2 cc/
一・sec−atmと、従来のポリオルガノシロキサン
系の膜の0. 1 cc/ad−see−atmに比べ
てかなり多い。
素透過流量(Fo1)は、0.4 〜1. 2 cc/
一・sec−atmと、従来のポリオルガノシロキサン
系の膜の0. 1 cc/ad−see−atmに比べ
てかなり多い。
気体選択性についてみると、例えば、この発明の膜の酸
素と窒素の流量比:α= F 02/F N2は、2.
6〜3.0程度と、従来膜の流量比率の2に比べて、か
なり高くなっている。
素と窒素の流量比:α= F 02/F N2は、2.
6〜3.0程度と、従来膜の流量比率の2に比べて、か
なり高くなっている。
つまり、この発明の膜を使えば、酸素の流量が増えると
同時に得られる酸素富化気体における酸素濃度も高くな
るのである。
同時に得られる酸素富化気体における酸素濃度も高くな
るのである。
そして、経時劣化が少なく信頼性の高い膜である点は以
下の通りである。
下の通りである。
この発明の膜(例えば、第2図に示す選択性気体透過膜
)は、第1図の曲線(a)で示すように、600時間の
連続運転後においても、初期流量(100%)の96%
の流量を維持する。得られる酸素富化気体の酸素濃度も
殆ど変わりない。
)は、第1図の曲線(a)で示すように、600時間の
連続運転後においても、初期流量(100%)の96%
の流量を維持する。得られる酸素富化気体の酸素濃度も
殆ど変わりない。
これに対し、第3図に示す従来のアセチレン高分子膜だ
と、第1図の曲線(b)で示すように、600時間の連
続運転後においては、初期流量(100%)の10%程
度まで流量が低下してしまうのである。
と、第1図の曲線(b)で示すように、600時間の連
続運転後においては、初期流量(100%)の10%程
度まで流量が低下してしまうのである。
第1の高分子と、第2の高分子をそれぞれ水面展開法に
より薄膜化し、第2の高分子薄膜を第1の高分子膜を介
して多孔質支持体上に積層した3層構成は、作り易くて
所定の性能を発揮させ易い。
より薄膜化し、第2の高分子薄膜を第1の高分子膜を介
して多孔質支持体上に積層した3層構成は、作り易くて
所定の性能を発揮させ易い。
芳香族ポリスルホンまたはポリエーテルスルホンからな
る多孔質支持体は、気体透過性が良いので、膜を支持す
るのに好適である。
る多孔質支持体は、気体透過性が良いので、膜を支持す
るのに好適である。
第2の高分子は、そのシロキサン含有率が80%以上で
あるとともにその重量平均分子量が10ooo以上であ
るものが適しており、特にシロキサン含有率が高い程、
気体透過性がよい。さらに、第2の高分子は水面上に展
開し膜形成できるものが作り易いため、好適である。
あるとともにその重量平均分子量が10ooo以上であ
るものが適しており、特にシロキサン含有率が高い程、
気体透過性がよい。さらに、第2の高分子は水面上に展
開し膜形成できるものが作り易いため、好適である。
実施例
以下、この発明にかかる選択性気体透過膜の一実施例を
その製造の段階から説明する。
その製造の段階から説明する。
実施例1
気体透過性に優れる第1の高分子として、アセチレン系
高分子である重量平均分子量95万のポリ(1−(トリ
メチルシリル)−1−プロピン〕(以下、l’− FM
S P jと言う)を用いた。
高分子である重量平均分子量95万のポリ(1−(トリ
メチルシリル)−1−プロピン〕(以下、l’− FM
S P jと言う)を用いた。
気体透過性に優れる第2の高分子として、シリコーン変
性ポリマーである重量平均分子量40万のポリジメチル
シロキサンーシルフェニレン共重合体(チノソ■製PS
O95)を用いた。この共重合体のシロキサン含有率は
元素分析の結果92%であった。
性ポリマーである重量平均分子量40万のポリジメチル
シロキサンーシルフェニレン共重合体(チノソ■製PS
O95)を用いた。この共重合体のシロキサン含有率は
元素分析の結果92%であった。
つぎに、上記PMSPを1wt%含む第1のベンゼン溶
液と、上記PSO95を3wt%含む第2のベンゼン溶
液をそれぞれ調整した。
液と、上記PSO95を3wt%含む第2のベンゼン溶
液をそれぞれ調整した。
ついで、第1のベンゼン溶液を水面に滴下し、極薄の水
面展開膜を現出させPMSP薄膜(第1の高分子薄膜)
を得るとともに、第2のベンゼン溶液を水面に滴下し、
極薄の水面展開膜を現出させPSO95薄膜(第2の高
分子薄膜)を得た。
面展開膜を現出させPMSP薄膜(第1の高分子薄膜)
を得るとともに、第2のベンゼン溶液を水面に滴下し、
極薄の水面展開膜を現出させPSO95薄膜(第2の高
分子薄膜)を得た。
これら水面に展開現出させた両膜をポリエーテルスルホ
ン材からなる多孔質支持体(東洋クロス■製Kl−12
)表面に先ずPMSP薄膜を積層し、ついで、PSO9
5薄膜を積層して、第2図に示す選択性気体透過膜を完
成した。
ン材からなる多孔質支持体(東洋クロス■製Kl−12
)表面に先ずPMSP薄膜を積層し、ついで、PSO9
5薄膜を積層して、第2図に示す選択性気体透過膜を完
成した。
したがって、完成した選択性気体透過膜は、第2図にみ
るように、多孔質支持体1の上に第1の高分子膜(アセ
チレン高分子層)2、ついで、第2の高分子膜3が順に
積層された構成である。もちろん、両膜2、3は水面展
開法により形成された膜である。
るように、多孔質支持体1の上に第1の高分子膜(アセ
チレン高分子層)2、ついで、第2の高分子膜3が順に
積層された構成である。もちろん、両膜2、3は水面展
開法により形成された膜である。
つぎに、この膜を用い約250 cdのモジュールを作
製し、その膜特性を測定した。圧力差60cmHg、室
温下、大気(酸素濃度21%)を透過させた結果、2.
20 l/分の流量で32,3%の酸素濃度の酸素富化
空気が得られた。600時間連続運転した後も、流量は
2.11//分と殆ど変化なく、得られた酸素富化空気
における酸素濃度も略同じであった。
製し、その膜特性を測定した。圧力差60cmHg、室
温下、大気(酸素濃度21%)を透過させた結果、2.
20 l/分の流量で32,3%の酸素濃度の酸素富化
空気が得られた。600時間連続運転した後も、流量は
2.11//分と殆ど変化なく、得られた酸素富化空気
における酸素濃度も略同じであった。
実施例2
第2の高分子として、ポリテトラメチルジシロキサンー
エチレン共重合体(チノソ■製PSO93)を用いた他
は実施例1と同様、選択性気体透過膜を得た後、モジー
−ル化して特性を調べた。なお、上記ポリテトラメチル
ジシロキサンーエチレン共重合体は、そのシロキサン含
有率が86%であり、重量平均分子量は1o万であった
。
エチレン共重合体(チノソ■製PSO93)を用いた他
は実施例1と同様、選択性気体透過膜を得た後、モジー
−ル化して特性を調べた。なお、上記ポリテトラメチル
ジシロキサンーエチレン共重合体は、そのシロキサン含
有率が86%であり、重量平均分子量は1o万であった
。
モジー−ルの初期特性は、流量が2.Ol/分、酸素富
化空気における酸素濃度が33.0%であった。600
時間連続運転後のモジー−ルの特性は、流量が1.92
l/分と幾分低くなるだけであり、酸素富化空気にお
ける酸素濃度が略同じであった。
化空気における酸素濃度が33.0%であった。600
時間連続運転後のモジー−ルの特性は、流量が1.92
l/分と幾分低くなるだけであり、酸素富化空気にお
ける酸素濃度が略同じであった。
実施例3
第1の高分子として、ポリーt−プチルアセチレン(重
量平均分子量45万)を用いた他は実施例1と同様、選
択性気体透過膜を得た後、モジーール化し特性を調べた
。
量平均分子量45万)を用いた他は実施例1と同様、選
択性気体透過膜を得た後、モジーール化し特性を調べた
。
モジー−ルの初期特性は、流量が1.1;l!/分、酸
素富化空気における酸素濃度が36.0%であった。5
00時間連続運転後のモジー−ルの特性は、流量が1.
ots ll分と幾分低くなるだけであり、酸素富化空
気における酸素濃度は略同じであった。
素富化空気における酸素濃度が36.0%であった。5
00時間連続運転後のモジー−ルの特性は、流量が1.
ots ll分と幾分低くなるだけであり、酸素富化空
気における酸素濃度は略同じであった。
この発明は上記実施例に限らない。第1の高分子が上記
例示以外のアセチレン系高分子であってもよいことはい
うまでもない。第2の高分子も、上記例示以外のシリコ
ン変性ポリマーであってもよいことはいうまでもない。
例示以外のアセチレン系高分子であってもよいことはい
うまでもない。第2の高分子も、上記例示以外のシリコ
ン変性ポリマーであってもよいことはいうまでもない。
上記実施例は、第1の高分子薄膜の上に第2の高分子薄
膜が積層された複合膜構成であったが、第1の高分子と
第2の高分子を混合(ブレンド)し製膜した複合膜構成
であってもよい。
膜が積層された複合膜構成であったが、第1の高分子と
第2の高分子を混合(ブレンド)し製膜した複合膜構成
であってもよい。
さらに、選択性気体透過膜の表面に信頼性向上等のため
にオーバーコートを施すようにしてもよい。具体的には
、例えば、本発明者らにかかる特開昭59−20340
8号公報に開示されている膜表面の疏水化を施すように
するのである。
にオーバーコートを施すようにしてもよい。具体的には
、例えば、本発明者らにかかる特開昭59−20340
8号公報に開示されている膜表面の疏水化を施すように
するのである。
多孔質支持体も、上記例示以外の材料で作られていても
よい。
よい。
また、支持体が、非対称形状(非対称の膜構造)であれ
ばなお透過性が良くなる。
ばなお透過性が良くなる。
発明の効果
以上述べたように、請求項1〜3記載の発明は、第1、
第2高分子の複合膜で構成されているため、十分な気体
選択性と気体透過性の両方を兼ね備えるとともに、これ
らの優れた特性が長期に渡って維持される経時変化が極
めて少ない高性能選択性気体透過膜となっている。
第2高分子の複合膜で構成されているため、十分な気体
選択性と気体透過性の両方を兼ね備えるとともに、これ
らの優れた特性が長期に渡って維持される経時変化が極
めて少ない高性能選択性気体透過膜となっている。
請求項2記載の発明は、多孔質支持体、第1の高分子薄
膜、第2の高分子薄膜の3層構成であるため、製造し易
く所定の性能を発揮させ易い。
膜、第2の高分子薄膜の3層構成であるため、製造し易
く所定の性能を発揮させ易い。
請求項3記載の発明は、多孔質支持体が芳香族ポリスル
ホンもしくはポリエーテルスルホンからなる優れた気体
透過性の支持体であるため、膜の優れた気体透過性を損
なわない3層構成の選択性気体透過膜となっている。
ホンもしくはポリエーテルスルホンからなる優れた気体
透過性の支持体であるため、膜の優れた気体透過性を損
なわない3層構成の選択性気体透過膜となっている。
請求項4記載の発明は、第2の高分子がシロキサン含有
率が80%以上であるとともに、その重量平均分子量が
1o000以上であるため、いっそう優れた気体透過性
を有する。
率が80%以上であるとともに、その重量平均分子量が
1o000以上であるため、いっそう優れた気体透過性
を有する。
第1図は、本発明にかかる選択性気体透過膜の一例の流
量の経時変化と従来の選択性気体透過膜の流量の経時変
化をあらわす特性図、第2図は、本発明にかかる選択性
気体透過膜の一例の構成をあらわす概略断面図、第3図
は、従来の選択性気体透過膜の一例をあらわす概略断面
図である。 1・・・多孔質支持体、2・・・第1の高分子薄膜、3
・・・第2の高分子薄膜。
量の経時変化と従来の選択性気体透過膜の流量の経時変
化をあらわす特性図、第2図は、本発明にかかる選択性
気体透過膜の一例の構成をあらわす概略断面図、第3図
は、従来の選択性気体透過膜の一例をあらわす概略断面
図である。 1・・・多孔質支持体、2・・・第1の高分子薄膜、3
・・・第2の高分子薄膜。
Claims (4)
- (1)下記一般式(a)であらわされ気体透過性の優れ
た第1の高分子と、下記一般式(b)であらわされ気体
透過性の優れた第2の高分子からなる選択性気体透過膜
。 ▲数式、化学式、表等があります▼(a) (但し、R_1は炭素数が1〜3のアルキル基またはハ
ロゲン原子を表し、R_2はフェニル基、炭素数が1〜
6のアルキル基またはトリアルキルシリル基を表し、こ
のトリアルキルシリル基のアルキル基は炭素数が1〜6
である。 1分子内のR_1は同種でも異種でもよく、R_2も同
様である。) ▲数式、化学式、表等があります▼(b) (但し、Xはシルエチレン残基またはシルフェニレン残
基を表し、R_3、R_4は炭素数が1〜6のアルキル
基またはフェニル基を表す。 1分子内のXは同種でも異種でもよくR_3、R_4も
同様である。) - (2)第1の高分子と第2の高分子が別々に水面展開法
により薄膜化されていて、第1の高分子薄膜が多孔質支
持体上に直接支持され、その上に第2の高分子薄膜が積
層されている請求項1記載の選択性気体透過膜。 - (3)多孔質支持体が芳香族ポリスルホンまたはポリエ
ーテルスルホンである請求項2記載の選択性気体透過膜
。 - (4)第2の高分子は、シロキサン含有率が80%以上
であるとともに、その重量平均分子量が10000以上
である請求項1または請求項2記載の選択性気体透過膜
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1056841A JPH02237627A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 選択性気体透過膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1056841A JPH02237627A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 選択性気体透過膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02237627A true JPH02237627A (ja) | 1990-09-20 |
Family
ID=13038628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1056841A Pending JPH02237627A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | 選択性気体透過膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02237627A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160140941A (ko) * | 2014-06-20 | 2016-12-07 | 더 스와치 그룹 리서치 앤 디벨롭먼트 엘티디 | 반-불투과성 폐쇄 디바이스 |
-
1989
- 1989-03-08 JP JP1056841A patent/JPH02237627A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160140941A (ko) * | 2014-06-20 | 2016-12-07 | 더 스와치 그룹 리서치 앤 디벨롭먼트 엘티디 | 반-불투과성 폐쇄 디바이스 |
| JP2017515290A (ja) * | 2014-06-20 | 2017-06-08 | ザ・スウォッチ・グループ・リサーチ・アンド・ディベロップメント・リミテッド | 半透過性の囲いデバイス |
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