JPH02239182A - 結晶材料の製造方法及びその装置 - Google Patents
結晶材料の製造方法及びその装置Info
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- JPH02239182A JPH02239182A JP1059191A JP5919189A JPH02239182A JP H02239182 A JPH02239182 A JP H02239182A JP 1059191 A JP1059191 A JP 1059191A JP 5919189 A JP5919189 A JP 5919189A JP H02239182 A JPH02239182 A JP H02239182A
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ.産業上の利用分野
本発明は結晶材料、例えば非線形光学材料の製造方法及
びその装置に関するものである。
びその装置に関するものである。
口.従来技術
非線形光学効果が1961年に発見されて以来、非線形
光学効果を有する材料、及び非線形光学効果を利用した
デバイスに関する研究が進められてきた。こうしたデバ
イスとしては、例えば光高調波発生装置等に用いられる
波長変換デバイス(特にレーザー光の波長変換に使用)
が知られている。
光学効果を有する材料、及び非線形光学効果を利用した
デバイスに関する研究が進められてきた。こうしたデバ
イスとしては、例えば光高調波発生装置等に用いられる
波長変換デバイス(特にレーザー光の波長変換に使用)
が知られている。
第7図には、その一例としての導波路を示したが、内径
数10μm以下、例えば3μmの中空がガラスファイバ
ー1中に非線形光学(変換)材料2が埋め込まれた形態
を有しており、一端からのレーザー人射光3が光学材料
20中を進行する過程で非線形光学効果によって波長変
換され、4として出射される。こうしたデバイスは位相
整合性変換素子や、チェレンコフ型変換素子等として知
られている。光学材料20としては、LiNbOsやK
DP (KH.PO.)などの無機系材料が知られてい
た。
数10μm以下、例えば3μmの中空がガラスファイバ
ー1中に非線形光学(変換)材料2が埋め込まれた形態
を有しており、一端からのレーザー人射光3が光学材料
20中を進行する過程で非線形光学効果によって波長変
換され、4として出射される。こうしたデバイスは位相
整合性変換素子や、チェレンコフ型変換素子等として知
られている。光学材料20としては、LiNbOsやK
DP (KH.PO.)などの無機系材料が知られてい
た。
近年、これらの無機系材料に較べ、非線形光学定数が大
幅に上回る有機系材料が注目されはじめた。この様な物
質には、例えばMNA (2−メチル−4−ニトロアニ
リン)、mNA(メタニトロアニリン)、POM(3−
メチル−4−ニトロビリジン−1−オキサイド)などが
ある。
幅に上回る有機系材料が注目されはじめた。この様な物
質には、例えばMNA (2−メチル−4−ニトロアニ
リン)、mNA(メタニトロアニリン)、POM(3−
メチル−4−ニトロビリジン−1−オキサイド)などが
ある。
こうした光学材料、特に有機系材料を製造する方法とし
て、中空ファイバー内に低分子の単結晶有機光学材料を
成長させる、ストックバーガー法が知られている。この
概略を第8図に示したが、下端が閉じられた中空ガラス
ファイバー1内に光学材料融液12を入れ、これを加熱
ゾーン5から冷却ゾーン6へ移しながら、下端から順次
単結晶2を生成させる。図中には、この系で生じる各種
の力を示した(以下の図でも同様)。しかし、この方法
では、単結晶形成界面に十分な材料の補給が行われず、
空隙が多いという問題が生じる。
て、中空ファイバー内に低分子の単結晶有機光学材料を
成長させる、ストックバーガー法が知られている。この
概略を第8図に示したが、下端が閉じられた中空ガラス
ファイバー1内に光学材料融液12を入れ、これを加熱
ゾーン5から冷却ゾーン6へ移しながら、下端から順次
単結晶2を生成させる。図中には、この系で生じる各種
の力を示した(以下の図でも同様)。しかし、この方法
では、単結晶形成界面に十分な材料の補給が行われず、
空隙が多いという問題が生じる。
このストックバーガー法の応用として、インバ一ティッ
ド・ストックバーガー法がある(Journalof
Crystal Growth 68 (1984)
651 〜655 ) .この方法は、第9図に概略回
示するように、ファイバー1内に有機単結晶2を形成す
るに際し、炉の高温部5と低温部6が通常のストックバ
ーガー法と逆の位置に設置されていることを特徴とする
ものであるが、この方法により、空隙(ボイド)のない
単結晶を得ることができるとしている。
ド・ストックバーガー法がある(Journalof
Crystal Growth 68 (1984)
651 〜655 ) .この方法は、第9図に概略回
示するように、ファイバー1内に有機単結晶2を形成す
るに際し、炉の高温部5と低温部6が通常のストックバ
ーガー法と逆の位置に設置されていることを特徴とする
ものであるが、この方法により、空隙(ボイド)のない
単結晶を得ることができるとしている。
しかしながら、このインパーティッド・ストックバーガ
ー法の第一の欠点は、安定に空隙のない単結晶を得るこ
とが実際上難しいことである。また、第2の欠点は、種
々の材料に対し、定まった力関係しか存在しないので、
各々の材料に合った力関係を与えて空隙のない単結晶を
得ることが難しいことである。特に、ファイバー1の上
端が閉じられているため、大気圧によっては内径が数1
0μm以下と極細のファイバー内に材料を完全に充填さ
れないとか、その閉管領域に種結晶を設置できないとい
った問題は、上記した欠点を助長している。
ー法の第一の欠点は、安定に空隙のない単結晶を得るこ
とが実際上難しいことである。また、第2の欠点は、種
々の材料に対し、定まった力関係しか存在しないので、
各々の材料に合った力関係を与えて空隙のない単結晶を
得ることが難しいことである。特に、ファイバー1の上
端が閉じられているため、大気圧によっては内径が数1
0μm以下と極細のファイバー内に材料を完全に充填さ
れないとか、その閉管領域に種結晶を設置できないとい
った問題は、上記した欠点を助長している。
ハ.発明の目的
本発明の目的は、空隙のない結晶が得られるように結晶
成長が可能で、しかも再現性良く容易に操作できる方法
及びその装置を提供することにある。
成長が可能で、しかも再現性良く容易に操作できる方法
及びその装置を提供することにある。
二.発明の構成
即ち、本発明は、少なくとも一端が開口された中空体の
前記一端を結晶材料融液中に浸漬し、この結晶材料融液
に対して前記中空体の他端側へ移動させるような圧力を
作用させ、この状態で前記他端側から前記中空体中の前
記結晶材料融液を冷却する、結晶材料の製造方法に係る
ものである。
前記一端を結晶材料融液中に浸漬し、この結晶材料融液
に対して前記中空体の他端側へ移動させるような圧力を
作用させ、この状態で前記他端側から前記中空体中の前
記結晶材料融液を冷却する、結晶材料の製造方法に係る
ものである。
また、本発明は、加熱ゾーンと、この加熱ゾーン内に配
置された結晶材料融液収容器と、冷却ゾーンと、少なく
とも一端が開口された中空体の前記一端を前記結晶材料
融液に浸漬する浸漬手段と、この浸漬状態で前記結晶材
料融液を前記中空体の他端側へ移動させるような圧力を
作用させる圧力作用手段と、前記中空体を前記他端側か
ら前記冷却ゾーンへ相対的に移動させる移動手段とを有
する、結晶材料の製造装置も提供するものである。
置された結晶材料融液収容器と、冷却ゾーンと、少なく
とも一端が開口された中空体の前記一端を前記結晶材料
融液に浸漬する浸漬手段と、この浸漬状態で前記結晶材
料融液を前記中空体の他端側へ移動させるような圧力を
作用させる圧力作用手段と、前記中空体を前記他端側か
ら前記冷却ゾーンへ相対的に移動させる移動手段とを有
する、結晶材料の製造装置も提供するものである。
ホ.実施例
以下、本発明の実施例を説明する。
第1図〜第4図は、本発明を非線形有機光学材料に適用
した実施例を示すものである。
した実施例を示すものである。
本実施例に用いる製造装置は、基本的には、単結晶化す
べき低分子有機光学材料を溶融させるための加熱炉20
と、存機光学材料融液を冷却して単結晶化するために加
熱炉20上に配置された上部炉21と、加熱炉20内に
配置されて有機光学材料融液22を収容するための融液
槽23と、この融液槽を支持すると共に融液22中に中
空ガラスファイバー1の下端が浸漬されるように同ファ
イバー1を貫通保持するためのファイバー支持部(若し
くは融液への浸漬手段)24を上板25に設けた固定の
加圧槽26と、この加圧槽26に対して加熱炉20及び
上部炉21を上下方向に移動させるための移動機構27
とによって構成されている。
べき低分子有機光学材料を溶融させるための加熱炉20
と、存機光学材料融液を冷却して単結晶化するために加
熱炉20上に配置された上部炉21と、加熱炉20内に
配置されて有機光学材料融液22を収容するための融液
槽23と、この融液槽を支持すると共に融液22中に中
空ガラスファイバー1の下端が浸漬されるように同ファ
イバー1を貫通保持するためのファイバー支持部(若し
くは融液への浸漬手段)24を上板25に設けた固定の
加圧槽26と、この加圧槽26に対して加熱炉20及び
上部炉21を上下方向に移動させるための移動機構27
とによって構成されている。
加熱炉20は、第4図のように、上部炉21とともに断
熱ねじ2って移動ステージ28に取り付けられ、同時に
移動する。移動ステージ28の移動はステンピングモー
タ30を駆動源とする送りねじ機構36により行われる
。モータ30はコンピュータコントロールされており、
移動ステージ28は0.1 mm/hr〜2000m/
hrの速度でステップ移動する。なお、各炉20、21
は、実際には輻射熱遮断材31を介して移動ステージ2
8にねし止めされており、これによって全体がガイド仮
部35で案内されながら支持台32上に上下動可能に取
り付けられることになる。
熱ねじ2って移動ステージ28に取り付けられ、同時に
移動する。移動ステージ28の移動はステンピングモー
タ30を駆動源とする送りねじ機構36により行われる
。モータ30はコンピュータコントロールされており、
移動ステージ28は0.1 mm/hr〜2000m/
hrの速度でステップ移動する。なお、各炉20、21
は、実際には輻射熱遮断材31を介して移動ステージ2
8にねし止めされており、これによって全体がガイド仮
部35で案内されながら支持台32上に上下動可能に取
り付けられることになる。
試料設置部分である加圧槽26は例えばCu製であって
、支持台33上に支持アーム34を介して固定されてい
る(厳密には、試料セットのために移動はできる。)。
、支持台33上に支持アーム34を介して固定されてい
る(厳密には、試料セットのために移動はできる。)。
そして、加熱炉20からの輻射熱により加熱され、材料
が溶融され、中空ファイバー1中に毛細管現象及び加圧
により融液22が充填される。なお、ファイバー1は、
試料設置部26からの熱伝導及び加熱炉20.からの輻
射熱により加熱される。この加圧槽26には、底部から
加圧バイプ37を介して不活性ガス38を導入し、試料
空間39を所定圧(例えば500 kg/cwt以下、
特に100kg/d以下、更には10〜100 kg/
c+Jがよい。)に加圧し、これによって融液22をフ
ァイバー1の上端開口にまで上昇させるようにしている
。第1図では、上板25はボルト43によって固定され
ているが、第4図では図示省略した。
が溶融され、中空ファイバー1中に毛細管現象及び加圧
により融液22が充填される。なお、ファイバー1は、
試料設置部26からの熱伝導及び加熱炉20.からの輻
射熱により加熱される。この加圧槽26には、底部から
加圧バイプ37を介して不活性ガス38を導入し、試料
空間39を所定圧(例えば500 kg/cwt以下、
特に100kg/d以下、更には10〜100 kg/
c+Jがよい。)に加圧し、これによって融液22をフ
ァイバー1の上端開口にまで上昇させるようにしている
。第1図では、上板25はボルト43によって固定され
ているが、第4図では図示省略した。
また、46は各熱電対を夫々示している。
加熱炉20は、第1図では、例えばCu製の円筒体40
の外周面に面加熱ヒータ41を取り付けて室温〜約25
0゜Cに加熱するように構成したが、第4図のように、
円筒体40の外周面にヒーター線42を巻回して加熱す
ることも可能である。ま1ユ た、加熱炉20の上板部中央位置1は、炉の上下動時に
ファイバー1を挿通するための挿通孔44が設けられて
いる。
の外周面に面加熱ヒータ41を取り付けて室温〜約25
0゜Cに加熱するように構成したが、第4図のように、
円筒体40の外周面にヒーター線42を巻回して加熱す
ることも可能である。ま1ユ た、加熱炉20の上板部中央位置1は、炉の上下動時に
ファイバー1を挿通するための挿通孔44が設けられて
いる。
加熱炉20による加熱ゾーン5の上方には、例えば0.
1〜3IIIII!、特に0.1〜II[lII1の微
少間隙45(実際にはここに断熱材を充填して上下方向
の温度勾配を形成する。)を置いて上部炉21が配置さ
れる。この炉21は、導入管47からのO〜70゜Cの
冷却水48を導出管49から排出することにより、冷却
され、熱電対46によって温度をモニターし、コントロ
ールされる。炉21の形状はドーナッツ型の円柱であっ
てよく、その内部は冷却ゾーン6となり、また中心部は
ファイバー1を挿通できる挿通孔50となっている。
1〜3IIIII!、特に0.1〜II[lII1の微
少間隙45(実際にはここに断熱材を充填して上下方向
の温度勾配を形成する。)を置いて上部炉21が配置さ
れる。この炉21は、導入管47からのO〜70゜Cの
冷却水48を導出管49から排出することにより、冷却
され、熱電対46によって温度をモニターし、コントロ
ールされる。炉21の形状はドーナッツ型の円柱であっ
てよく、その内部は冷却ゾーン6となり、また中心部は
ファイバー1を挿通できる挿通孔50となっている。
上記において適用可能な光学材料、特に光学的非線形性
を有する有機物質については、例えば「有機非線形光学
材料J (シー・エム・シー社.1985年刊) ,
’Nonlinear Optical Prope
rtiesof Organic Molecules
and Crystal Jvow. 1 . 2
(Academic Press Inc.1987
) , 日本化学会54年〜56年の年会予稿集等に
記載されている。好ましく用いられる光学的非線形性を
有する有機物質として、例えばニトロアニリン誘導体に
代表される電子吸引性基及び電子供与性基で置換された
ベンゼン、ナフタレン等の芳香環、ビリジン、ビリミジ
ン等の複素環、スチルベン、ビリジンーN−オキサイド
及び尿素を挙げることができる。
を有する有機物質については、例えば「有機非線形光学
材料J (シー・エム・シー社.1985年刊) ,
’Nonlinear Optical Prope
rtiesof Organic Molecules
and Crystal Jvow. 1 . 2
(Academic Press Inc.1987
) , 日本化学会54年〜56年の年会予稿集等に
記載されている。好ましく用いられる光学的非線形性を
有する有機物質として、例えばニトロアニリン誘導体に
代表される電子吸引性基及び電子供与性基で置換された
ベンゼン、ナフタレン等の芳香環、ビリジン、ビリミジ
ン等の複素環、スチルベン、ビリジンーN−オキサイド
及び尿素を挙げることができる。
以下に、本発明で用いられる光学的非線形性を有する有
機物質の好ましい例を示す。
機物質の好ましい例を示す。
(以下余白)
Nα18
0I
上記において、単結晶性及び非線形光学効果を考えると
Nα10〜16の化合物が好ましく、さらに好ましいも
のは、No. 10、11、12、16の化合物である
。
Nα10〜16の化合物が好ましく、さらに好ましいも
のは、No. 10、11、12、16の化合物である
。
上記した如き構成の装置を用いて、有機光学材料の単結
晶をファイバー1中の中空部に形成するのであるが、そ
の操作方法を次に説明する。
晶をファイバー1中の中空部に形成するのであるが、そ
の操作方法を次に説明する。
即ち、加熱炉20による加熱温度は、光学材料の融点又
はそれ以上とし、融液22を十二分に形成するものとす
る。そして、この融液22中に内径数ioom以下のフ
ァイバー1の下端開口51を浸漬すると同時に、非酸化
性のガス、例えば不活性ガス38を送り込んで空間39
の圧力を高め、これによって融液22を加圧し、ファイ
バー1の中空部を通してその上端間口52にまで上昇さ
せ、ファイバー上端まで完全に充填させる(第3図参照
)。この加圧によって、融液22の単結晶化時に単結晶
中に空泡等は生じることはない。また、成長する単結晶
に歪みが生じないように加圧する。
はそれ以上とし、融液22を十二分に形成するものとす
る。そして、この融液22中に内径数ioom以下のフ
ァイバー1の下端開口51を浸漬すると同時に、非酸化
性のガス、例えば不活性ガス38を送り込んで空間39
の圧力を高め、これによって融液22を加圧し、ファイ
バー1の中空部を通してその上端間口52にまで上昇さ
せ、ファイバー上端まで完全に充填させる(第3図参照
)。この加圧によって、融液22の単結晶化時に単結晶
中に空泡等は生じることはない。また、成長する単結晶
に歪みが生じないように加圧する。
ファイバー1の上端開口52には、予め種結晶53を配
しておき、単結晶化2を容易化している。この種結晶5
3が存在していても、上述した加圧による効果は十分発
揮され、かつ単結晶化を確実に行なえる。
しておき、単結晶化2を容易化している。この種結晶5
3が存在していても、上述した加圧による効果は十分発
揮され、かつ単結晶化を確実に行なえる。
この単結晶化は、第1図の状態から、第2図のように炉
20及び21を徐々に下降させてファイバー1を上端か
ら加熱ゾーン5より冷却ゾーン6へ移すことによって実
現される。
20及び21を徐々に下降させてファイバー1を上端か
ら加熱ゾーン5より冷却ゾーン6へ移すことによって実
現される。
以上のように、本例による方法及び装置は、2ゾーンの
いわばハイブレス型・インパーティ・ンド・ストックバ
ーガ一方式であり、次のような優れた利点を有している
。
いわばハイブレス型・インパーティ・ンド・ストックバ
ーガ一方式であり、次のような優れた利点を有している
。
(1).毛細管現象に加えて、空間39を加圧して融液
22がファイバー1の上端方向へ上昇させるようにしな
がら操作しているので、ファイバー1内には融液22が
十二分に充填され、冷却による単結晶化に伴う体積収縮
が生じても、これを埋めるように(即ち、融液を補充す
るように)上記圧力が作用することになる(第3図にお
いて、Fい+F P > F w + F oとなる)
。この結果、得られた単結晶中には空隙(ボイド)が生
じることはなく、高性能の光学材料を再現性良く作製す
ることができる。このことは、ファイバー1の上端が開
口されている(実際には種結晶あり)ために、一層確実
となる。仮に、ファイバー1の下端側に上記圧力を作用
させるのではなく、上端側にも同様の圧力を作用させる
(即ち、空間39を設けずに加熱ゾーン5全体を加圧し
たり、或いは単に大気圧下に置《)と、ファイバーの両
端から圧力が加わるために融液の上昇力が弱くてボイド
を防ぐことができず、また単結晶性も悪くなることがあ
る。
22がファイバー1の上端方向へ上昇させるようにしな
がら操作しているので、ファイバー1内には融液22が
十二分に充填され、冷却による単結晶化に伴う体積収縮
が生じても、これを埋めるように(即ち、融液を補充す
るように)上記圧力が作用することになる(第3図にお
いて、Fい+F P > F w + F oとなる)
。この結果、得られた単結晶中には空隙(ボイド)が生
じることはなく、高性能の光学材料を再現性良く作製す
ることができる。このことは、ファイバー1の上端が開
口されている(実際には種結晶あり)ために、一層確実
となる。仮に、ファイバー1の下端側に上記圧力を作用
させるのではなく、上端側にも同様の圧力を作用させる
(即ち、空間39を設けずに加熱ゾーン5全体を加圧し
たり、或いは単に大気圧下に置《)と、ファイバーの両
端から圧力が加わるために融液の上昇力が弱くてボイド
を防ぐことができず、また単結晶性も悪くなることがあ
る。
(2).また、開口されたファイバー上端には、上記の
ように種結晶53を配しておけるので、そこからの単結
晶化が容易に生じる。しかも、上端から単結晶化を進行
させ得るので、単結晶領域のレベルを設定し易い。
ように種結晶53を配しておけるので、そこからの単結
晶化が容易に生じる。しかも、上端から単結晶化を進行
させ得るので、単結晶領域のレベルを設定し易い。
(3).更に、炉20及び21を徐々に下降させてファ
イバー1中の融液をその上端から単結晶化しているので
、所望の温度勾配を形成しながら確実に単結晶化を実現
できる。特に、ファイバー1は極細の内径とこれに比べ
て肉厚の壁部とを有しているため、その壁部の保温効果
に加えて炉20−21間の間隙45(比較的広い0.1
〜3nun)の存在によって、炉の下降速度が大きすぎ
ると所望の温度勾配をファイバー長さ方向に形成し難く
なり、単結晶の結晶性が悪くなったり、或いは上端とは
別の箇所で結晶化が生じて純度又は結晶性不十分な単結
晶となり易い。
イバー1中の融液をその上端から単結晶化しているので
、所望の温度勾配を形成しながら確実に単結晶化を実現
できる。特に、ファイバー1は極細の内径とこれに比べ
て肉厚の壁部とを有しているため、その壁部の保温効果
に加えて炉20−21間の間隙45(比較的広い0.1
〜3nun)の存在によって、炉の下降速度が大きすぎ
ると所望の温度勾配をファイバー長さ方向に形成し難く
なり、単結晶の結晶性が悪くなったり、或いは上端とは
別の箇所で結晶化が生じて純度又は結晶性不十分な単結
晶となり易い。
しかし、炉の下降速度は上述したステッピングモータ3
0によって高精度にコントロールできる(特に0 .
1 〜10 mm / h r )ので、上記温度勾配
を急にし、常に良好な結晶性の単結晶を得ることができ
る。
0によって高精度にコントロールできる(特に0 .
1 〜10 mm / h r )ので、上記温度勾配
を急にし、常に良好な結晶性の単結晶を得ることができ
る。
第5図は、別の製造装置を示すものである。この装置は
、第1図のものとは異なって、上部炉21を有しておら
ず、加熱炉20上は単に空間からなる冷却ゾーン6とな
っている。その他は、第1図のものと同様である。
、第1図のものとは異なって、上部炉21を有しておら
ず、加熱炉20上は単に空間からなる冷却ゾーン6とな
っている。その他は、第1図のものと同様である。
第6図は、ファイバー1及び炉26を回転式にして上下
動可能にした装置を示すものである。
動可能にした装置を示すものである。
この方式は、中空ファイバー1のコア周辺部分にカップ
リング剤を使用したファイバーを利用した場合や、有機
非線形光学材料に不純物が多く含んでいる場合に特に有
効で、目的とする有機非線形光学材料とその他の物質を
回転により別け、良好な単結晶を得る。
リング剤を使用したファイバーを利用した場合や、有機
非線形光学材料に不純物が多く含んでいる場合に特に有
効で、目的とする有機非線形光学材料とその他の物質を
回転により別け、良好な単結晶を得る。
この装置は、上述した例と同様に、加圧槽26に非酸化
性ガスを送って目的の圧力とした後、接続バイブ37′
を取外せるようにしたものである。
性ガスを送って目的の圧力とした後、接続バイブ37′
を取外せるようにしたものである。
加圧槽26は、高速回転ステージ60上に置かれ、公知
の回転ステージ機構61により100〜1000r.p
.m.の回転数で水平回転される。その他の部分は第1
図のものと同様である。
の回転ステージ機構61により100〜1000r.p
.m.の回転数で水平回転される。その他の部分は第1
図のものと同様である。
次に、具体的な例について、本実施例を更に詳細に説明
する。
する。
l体■土
低分子有機材料としてバニリンを用いた。そして、第1
図のごとく、上部炉21、下部炉20を設けた装置にお
いて、上部炉21の温度を20゜Cとし、下部炉20の
温度を(83゜C)とした。
図のごとく、上部炉21、下部炉20を設けた装置にお
いて、上部炉21の温度を20゜Cとし、下部炉20の
温度を(83゜C)とした。
両端開口の中空ファイバー1の下端を原料融液槽23の
中に入れ、毛細管現象と極わずかな加圧により、融液2
2を中空ファイバー1中に満たした。この時、融液状態
を保つために、中空ファイバー1は下部炉20によって
熱した。なお、中空ファイバー1の先端に、バニリンの
種結晶53を置き、体熱性エボキシ樹脂等でカバーした
(図示省略)。
中に入れ、毛細管現象と極わずかな加圧により、融液2
2を中空ファイバー1中に満たした。この時、融液状態
を保つために、中空ファイバー1は下部炉20によって
熱した。なお、中空ファイバー1の先端に、バニリンの
種結晶53を置き、体熱性エボキシ樹脂等でカバーした
(図示省略)。
加圧槽26内は40kg/cdのArガスにより加圧し
、種結晶53を除いた中空ファイバー1全体を下部炉2
0にセットし、次に上部炉21を下部炉20と0.5
+11111のところまで引き下げた。このとき、0.
5 11111厚のセラミック系断熱材を両炉間に配し
た。
、種結晶53を除いた中空ファイバー1全体を下部炉2
0にセットし、次に上部炉21を下部炉20と0.5
+11111のところまで引き下げた。このとき、0.
5 11111厚のセラミック系断熱材を両炉間に配し
た。
次に、炉全体を1.0 s/hrの速度で引き下げ、中
空ファイバー1中に結晶を得た。
空ファイバー1中に結晶を得た。
且体■又
低分子有機材料として、P−アミノ安患香酸エチルを用
いた。具体例1と同じ装置にて、上部炉21の温度を3
0″Cとし、下部炉20の温度を90゜Cとした。
いた。具体例1と同じ装置にて、上部炉21の温度を3
0″Cとし、下部炉20の温度を90゜Cとした。
一端(下端)のみ開口し、他方(上端)が閉口になって
いる中空ファイバーに原料融液を充填し、充填した状態
で、原料融液槽23に、閉口側を上にしてセットした。
いる中空ファイバーに原料融液を充填し、充填した状態
で、原料融液槽23に、閉口側を上にしてセットした。
中空ファイバー1全体を下部炉20内にセ・ントし、A
rガス38によって100 kg/Clllに加圧した
。
rガス38によって100 kg/Clllに加圧した
。
炉全体を0.5mm/hrの速度で引き下げ、中空ファ
イバー1中に結晶を得た。
イバー1中に結晶を得た。
l止例ユ
低分子有機材料として、p−ヒドロキシ安息香酸メチル
を用いた。
を用いた。
炉は第5図に示す如く1つであり、この炉の温度をp−
ヒドロキシ安息香酸メチルの融点と同じ(132゜C)
とした。
ヒドロキシ安息香酸メチルの融点と同じ(132゜C)
とした。
中空ファイバー1に原料融液22を具体例1と同じ方法
で充填し、先端に種結晶を置いた。種結晶部分を除いた
中空ファイバー1全体を炉内にセットし、Arガス38
にて20kg/cdに加圧し、速度5s/hrで炉全体
を引き下げた。そして、中空ファイバー1中に結晶を得
た。
で充填し、先端に種結晶を置いた。種結晶部分を除いた
中空ファイバー1全体を炉内にセットし、Arガス38
にて20kg/cdに加圧し、速度5s/hrで炉全体
を引き下げた。そして、中空ファイバー1中に結晶を得
た。
比較例1、2、3として夫々、具体例1、2、3でAr
ガスによる加圧をしない方法で、中空ファイバー内に結
晶を得た。
ガスによる加圧をしない方法で、中空ファイバー内に結
晶を得た。
なお、上記の各例に用いた中空ファイバーは内径7μm
1外径1胴であり、長さ50闘であった。
1外径1胴であり、長さ50闘であった。
また、具体例2及びそれに対応する比較例2で用いた中
空ファイバーは内径7μm、外径]. mlnの部分が
長さ40薗であり、一端(上端)側のみ、ある傾斜をも
って内径7μmが徐々に閉じられており、ファイバー全
体の長さは50mmであった。
空ファイバーは内径7μm、外径]. mlnの部分が
長さ40薗であり、一端(上端)側のみ、ある傾斜をも
って内径7μmが徐々に閉じられており、ファイバー全
体の長さは50mmであった。
以上の各例で得られた中空ファイバー内の結晶の評価結
果を下記表に示す。評価方法は、中空ファイバーの中央
付近30aunに対して行った。評価内容は、偏向顕微
鏡を用いて消光を調べて単結晶性を調べ、顕微鏡(X2
00 >を用いて空隙の数を調べた。
果を下記表に示す。評価方法は、中空ファイバーの中央
付近30aunに対して行った。評価内容は、偏向顕微
鏡を用いて消光を調べて単結晶性を調べ、顕微鏡(X2
00 >を用いて空隙の数を調べた。
この結果から、本発明に基づいて操作することによって
、空隙のない単結晶性に優れた結晶が得られることが明
らかである。
、空隙のない単結晶性に優れた結晶が得られることが明
らかである。
以上、本発明を例示したが、上述した例は本発明の技術
的思想に基づいて更に変形が可能である。
的思想に基づいて更に変形が可能である。
例えば、上述したファイバー1の材質や形状等は種々変
更してよく、中空体としてファイバー以外にもアンプル
形状等も可能である。また、光学材料の種類も種々のも
のが選択できる。その他、加圧槽や、加熱炉、上部炉等
の形状、構造も様々に変形してよく、用いる加圧媒体、
冷却媒体も様々に採用してよい。
更してよく、中空体としてファイバー以外にもアンプル
形状等も可能である。また、光学材料の種類も種々のも
のが選択できる。その他、加圧槽や、加熱炉、上部炉等
の形状、構造も様々に変形してよく、用いる加圧媒体、
冷却媒体も様々に採用してよい。
また、上述した例とは逆に、試料側(実際には加圧槽全
体)を上下動させ、炉は固定するようにして、単結晶を
成長させることもできる。また、上述の例では、加圧槽
によってファイバーの下端にある融液を加圧したが、逆
にファイバー上端側の空間(加熱ゾーン内)を減圧、具
体的には真空ボンブで吸引しても、融液をファイバー中
で上昇させて上端にまで充填することができる。この場
合も、加圧の場合と同様に、成長する単結晶に歪みを与
えることのないようにすることが必要である。
体)を上下動させ、炉は固定するようにして、単結晶を
成長させることもできる。また、上述の例では、加圧槽
によってファイバーの下端にある融液を加圧したが、逆
にファイバー上端側の空間(加熱ゾーン内)を減圧、具
体的には真空ボンブで吸引しても、融液をファイバー中
で上昇させて上端にまで充填することができる。この場
合も、加圧の場合と同様に、成長する単結晶に歪みを与
えることのないようにすることが必要である。
なお、本発明は上述したような非線形光学材料のみなら
ず、他の用途にも使用可能な結晶材料やデバイスにも適
用可能である。
ず、他の用途にも使用可能な結晶材料やデバイスにも適
用可能である。
へ9発明の作用効果
本発明は上述したように、融液を中空体の他端側(結晶
成長側)へ移動させるように圧力を作用させているので
、中空体内には融液が十二分に充填され、冷却による単
結晶化に伴う体積収縮が生じても、これを埋めるように
(即ち、融液を補充するように)上記圧力が作用するこ
とになる。この結果、得られた結晶中には空隙(ボイド
)が生じることはなく、高性能の結晶材料を再現性良く
作製することができる。
成長側)へ移動させるように圧力を作用させているので
、中空体内には融液が十二分に充填され、冷却による単
結晶化に伴う体積収縮が生じても、これを埋めるように
(即ち、融液を補充するように)上記圧力が作用するこ
とになる。この結果、得られた結晶中には空隙(ボイド
)が生じることはなく、高性能の結晶材料を再現性良く
作製することができる。
また、中空体の他端側には種結晶を配しておけるので、
そこからの結晶化が容易に生じ、かつ上記他端側から冷
却ゾーンへ移動させることによりその他端側で所望の温
度勾配を形成しながら確実に結晶化を実現できる。
そこからの結晶化が容易に生じ、かつ上記他端側から冷
却ゾーンへ移動させることによりその他端側で所望の温
度勾配を形成しながら確実に結晶化を実現できる。
第1図〜第6図は本発明の実施例を示すものであって、
第1図は非線形有機光学材料の単結晶を製造する装置の
断面斜視図、 第2図は同装置において炉を引き下げた状態の断面図、 ゛第3図は中空ファイバー付近の力の作用状況を示す概
略断面図、 第4図は同装置の駆動系を含めた全体の概略一部断面正
面図、 第5図、第6図は他の例による製造装置の断面斜視図又
は断面図 である。 第7図〜第9図は従来例を示すものであって、第7図は
波長変換デバイスの概略斜視図、第8図、第9図は非線
形光学材料の単結晶の製造方法を示す各概略断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 1・・・・・・・・・中空ファイバー 2・・・・・・・・・単結晶 5・・・・・・・・・加熱ゾーン 6・・・・・・・・・冷却ゾーン 12、22・・・・・・・・・融液 20・・・・・・・・・加熱炉 21・・・・・・・・・上部炉 23・・・・・・・・・融液槽 24・・・・・・・・・ファイバー支持部、26・・・
・・・・・・加圧槽 28・・・・・・・・・移動ステージ 29・・・・・・・・・断熱ねじ 30・・・・・・・・・ステッピングモータ38・・・
・・・・・・Ar(加圧)ガス39・・・・・・・・・
加圧空間 4L 42・・・・・・・・・ヒーター44、50・・
・・・・・・・挿通孔 45・・・・・・・・・間隙 48・・・・・・・・・冷却水 51、52・・・・・・・・・開口 53・・・・・・・・・種結晶 である。
断面斜視図、 第2図は同装置において炉を引き下げた状態の断面図、 ゛第3図は中空ファイバー付近の力の作用状況を示す概
略断面図、 第4図は同装置の駆動系を含めた全体の概略一部断面正
面図、 第5図、第6図は他の例による製造装置の断面斜視図又
は断面図 である。 第7図〜第9図は従来例を示すものであって、第7図は
波長変換デバイスの概略斜視図、第8図、第9図は非線
形光学材料の単結晶の製造方法を示す各概略断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 1・・・・・・・・・中空ファイバー 2・・・・・・・・・単結晶 5・・・・・・・・・加熱ゾーン 6・・・・・・・・・冷却ゾーン 12、22・・・・・・・・・融液 20・・・・・・・・・加熱炉 21・・・・・・・・・上部炉 23・・・・・・・・・融液槽 24・・・・・・・・・ファイバー支持部、26・・・
・・・・・・加圧槽 28・・・・・・・・・移動ステージ 29・・・・・・・・・断熱ねじ 30・・・・・・・・・ステッピングモータ38・・・
・・・・・・Ar(加圧)ガス39・・・・・・・・・
加圧空間 4L 42・・・・・・・・・ヒーター44、50・・
・・・・・・・挿通孔 45・・・・・・・・・間隙 48・・・・・・・・・冷却水 51、52・・・・・・・・・開口 53・・・・・・・・・種結晶 である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、少なくとも一端が開口された中空体の前記一端を結
晶材料融液中に浸漬し、この結晶材料融液に対して前記
中空体の他端側へ移動させるような圧力を作用させ、こ
の状態で前記他端側から前記中空体中の前記結晶材料融
液を冷却する、結晶材料の製造方法。 2、加熱ゾーンと、この加熱ゾーン内に配置された結晶
材料融液収容器と、冷却ゾーンと、少なくとも一端が開
口された中空体の前記一端を前記結晶材料融液に浸漬す
る浸漬手段と、この浸漬状態で前記結晶材料融液を前記
中空体の他端側へ移動させるような圧力を作用させる圧
力作用手段と、前記中空体を前記他端側から前記冷却ゾ
ーンへ相対的に移動させる移動手段とを有する、結晶材
料の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1059191A JPH02239182A (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | 結晶材料の製造方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1059191A JPH02239182A (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | 結晶材料の製造方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02239182A true JPH02239182A (ja) | 1990-09-21 |
Family
ID=13106279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1059191A Pending JPH02239182A (ja) | 1989-03-10 | 1989-03-10 | 結晶材料の製造方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02239182A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5655373Y2 (ja) * | 1976-08-11 | 1981-12-24 | ||
| JPS5819019U (ja) * | 1981-07-30 | 1983-02-05 | ツルガスパンクリ−ト株式会社 | 空胴pcコンクリ−トパネル |
| JPS5924058A (ja) * | 1982-07-31 | 1984-02-07 | オーエム工業株式会社 | グレ−チング |
-
1989
- 1989-03-10 JP JP1059191A patent/JPH02239182A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5655373Y2 (ja) * | 1976-08-11 | 1981-12-24 | ||
| JPS5819019U (ja) * | 1981-07-30 | 1983-02-05 | ツルガスパンクリ−ト株式会社 | 空胴pcコンクリ−トパネル |
| JPS5924058A (ja) * | 1982-07-31 | 1984-02-07 | オーエム工業株式会社 | グレ−チング |
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