JPH02241063A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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Publication number
JPH02241063A
JPH02241063A JP6253289A JP6253289A JPH02241063A JP H02241063 A JPH02241063 A JP H02241063A JP 6253289 A JP6253289 A JP 6253289A JP 6253289 A JP6253289 A JP 6253289A JP H02241063 A JPH02241063 A JP H02241063A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
electrostatic
voltage
node
pad
Prior art date
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Pending
Application number
JP6253289A
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English (en)
Inventor
Masanori Ekuni
江国 正典
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、入力端子を有する半導体集積回路に関するも
のである。
従来の技術 近年、半導体集積回路は益々微細化、薄膜化が進み、そ
れにつれ、入力端子、出力端子、電源端子の静電気破壊
に対する保護回路の重要性が増している。
従来、入力端子においては、入力パッド近辺に、静電気
破壊に対する保護回路を設けて、静電気を吸収2発散さ
せていた。
第3図は、従来の一般的な半導体集積回路の入力端子に
おける静電気破壊に対する保護回路構成の一例である。
同図において、1は入力端子のパッド、2は1の近傍に
あるPN接合のブレークダウンを利用した保護回路、3
は内部回路へのゲート入力部(ノード)を示したもので
ある。
発明が解決しようとする課題 上記の入力端子の保護回路構成において、入力パッド1
に静電気印加電圧Vが印加された場合の内部回路ゲート
入力部3の静電気印加電圧及び破壊は、第4図に示す特
性を示す。つまり、■はパッド近傍の保護回路2におい
て、電荷を接地電位に吸収することにより静電気電圧V
iを減少させ、内部回路ゲート入力部3における静電気
電圧は(VV+)になる。さらにこの内部回路ゲート入
力部3までの配線抵抗及び寄生容量に伴う電荷の分散に
より、係数αに従い、ノード3の静電気電圧は、(V−
Vz)・αになる。よってノード3の静電気耐圧が(V
−V+)・αよりも大きければ、ノード3は破壊せず、
また逆に小さければ破壊する。この場合、ノード3の静
電気耐圧を向上させる場合には、保護回路2で吸収する
電圧v1を大きくする必要があり、そのためには保護回
路2をレイアウト的に大きくしなければならず、高集積
化に反する。また、レイアウトを大きくした場合、入力
容量の増大を伴うことから現実的ではないという問題が
あった。
本発明の目的は、入力バッド近傍の静電気破壊防止用保
護回路のレイアウト面積を大きくすることな(、内部回
路の静電気破壊耐圧を向上させる半導体集積回路を提供
することである。
課題を解決するための手段 本発明の半導体集積回路は、入力端子の静電気吸収用保
護回路を内部ゲート直前の接地電位金属配線レイアウト
下に設けたものである。
作用 本発明によれば、入力端子パッド近傍の静電気吸収用の
保護回路のレイアウト占有面積を大きくすることなく内
部回路の静電気破壊耐圧の向上をはかることである。
実施例 本発明を第1図に示す一実施例の回路図に基づいて説明
する。第1図は、半導体集積回路の入力端子における静
電気破壊に対する保護回路構成図である。同図において
、第3図の従来例回路の構成と同一部分には同一符号を
付し、その説明を省略する。
同図において、入力パッド1から内部回路3の間に、従
来の保護回路2と新たに内部回路3の直前近傍に保護回
路4を設けている。この場合、入力パッド1に静電気電
圧Vが印加された場合の内部回路ゲート入力部3の静電
気破壊特性を第2図に示す。つまり従来例で説明したよ
うに、ノード3の直前の保護回路4の入力部において静
電気電圧(VV+)・αが加わる。従来の保護回路2の
みでは、3の静電気破壊耐圧が(VV+)・α以下であ
れば、ノード3が破壊していた。しかし、保護回路4を
新たに設けることにより、静電気電圧V2をさらに接地
電位に吸収できるので、ノード3における静電気電圧は
1(V−V+ )・α−V2+になる。よって、従来の
入力パッドへの静電気電圧Vが印加されても、ノード3
での破壊が起らなくなる。
保護回路4の入力部における(VV+)・αは入力パッ
ド1と保護回路4の配線レイアウト距離が長くなればな
る程、配線抵抗及び寄生容量の増大をもたらし、電荷の
吸収・発散を増長し、■に比較しくVV+)・αはかな
り小さくなる。
よって、保護回路4は保護回路2に比較して、大きなレ
イアウト占有面積を必要とせず、レイアウト面積の小さ
な保護回路でも本来の目的をはたす。さらに、一般的に
内部回路3は電源配線の近辺にあることから、保護回路
4は接地電位の金属配線レイアウト下に設けることが可
能であり、新たに余分のレイアウト面積を設ける必要が
ない利点がある。
また、上記説明には、保護回路としてPN接合のブレー
クダウンを利用した場合について示したが、他の原理を
利用した保護回路を用いてもよく、また、保護回路を2
つ以上設けても良いことは言うまでもない。
発明の効果 本発明によれば、静電気吸収用の保護回路を内部回路ゲ
ート直前の接地電位の金属配線レイアウト下に設けるこ
とにより、新たに保護回路用のレイアウト占有面積を設
けることなく、入力端子の静電気破壊耐圧向上をもたら
すことが可能となる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による半導体集積回路の入力端子におけ
る静電気破壊に対する保護回路構成図、第2図は入力端
子の静電気破壊特性図、第3図は従来の一般的な入力端
子の保護回路構成図、第4図は従来の入力端子の静電気
破壊特性図である。 1・・・・・・入力バット、2・・・・・・入力パッド
近傍の静電気吸収用保護回路、3・・・・・・内部回路
へのゲート入力部のノード、4・・・・・・ノード3の
直前の静電気吸収用保護回路。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 ばか1名第 ! 図 第 図 、9 第 図 第 図 、?

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 入力端子の静電気吸収用保護回路を内部回路ゲート直前
    の接地電位金属配線レイアウト下に設けたことを特徴と
    する半導体集積回路。
JP6253289A 1989-03-15 1989-03-15 半導体集積回路 Pending JPH02241063A (ja)

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JP6253289A JPH02241063A (ja) 1989-03-15 1989-03-15 半導体集積回路

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JP (1) JPH02241063A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6456474B2 (en) 1998-04-07 2002-09-24 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit
JP2008227369A (ja) * 2007-03-15 2008-09-25 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 静電破壊保護回路

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6456474B2 (en) 1998-04-07 2002-09-24 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit
JP2008227369A (ja) * 2007-03-15 2008-09-25 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 静電破壊保護回路

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