JPH02242222A - 液晶光学素子の製造法 - Google Patents
液晶光学素子の製造法Info
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- JPH02242222A JPH02242222A JP6220289A JP6220289A JPH02242222A JP H02242222 A JPH02242222 A JP H02242222A JP 6220289 A JP6220289 A JP 6220289A JP 6220289 A JP6220289 A JP 6220289A JP H02242222 A JPH02242222 A JP H02242222A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶光学素子の製造法に関し、より詳しくは
、液晶表示素子、液晶記録素子等として好適に利用でき
る液晶光学素子の連続製造を容易に可能とする液晶光学
素子の製造法に関する。
、液晶表示素子、液晶記録素子等として好適に利用でき
る液晶光学素子の連続製造を容易に可能とする液晶光学
素子の製造法に関する。
液晶の電気光学的効果や熱光学的効果を応用した液晶光
学素子は、液晶デイスプレー、液晶シャッターアレイ、
液晶プリンター等として広く利用されている。従来、液
晶光学素子を作製する方法として、液晶光学素子を構成
する２枚の基板をスペーサーを介して重ねあわせ、液晶
注入孔を残して周辺を接着、シールした後に液晶を注入
する方法が行ねていた。しかしこの方法は液晶層の厚さ
を数μｍに保持することが困難であり、また液晶の注入
も困難である等の問題があり、例えば特開昭６２−２６
７７２０号公報等に記載されているような改良法が提案
されている。この方法はスペーサーを含有する液晶物質
をスクリーン印刷法により減圧下で基板に塗布している
が、スクリーン印刷法では連続化が困難であり、また、
減圧室内での操作のため工程が複雑化するという問題点
がある。
学素子は、液晶デイスプレー、液晶シャッターアレイ、
液晶プリンター等として広く利用されている。従来、液
晶光学素子を作製する方法として、液晶光学素子を構成
する２枚の基板をスペーサーを介して重ねあわせ、液晶
注入孔を残して周辺を接着、シールした後に液晶を注入
する方法が行ねていた。しかしこの方法は液晶層の厚さ
を数μｍに保持することが困難であり、また液晶の注入
も困難である等の問題があり、例えば特開昭６２−２６
７７２０号公報等に記載されているような改良法が提案
されている。この方法はスペーサーを含有する液晶物質
をスクリーン印刷法により減圧下で基板に塗布している
が、スクリーン印刷法では連続化が困難であり、また、
減圧室内での操作のため工程が複雑化するという問題点
がある。
本発明は、前記事情に基づいてなされたもので、液晶光
学素子を簡単な操作により連続的に製造することができ
る液晶光学素子の製造法を提供することを目的とする。
学素子を簡単な操作により連続的に製造することができ
る液晶光学素子の製造法を提供することを目的とする。
本発明はまた、大面積、大容量表示の均一な液晶薄膜を
有する液晶光学素子を製造する方法を提供することを目
的とする。
有する液晶光学素子を製造する方法を提供することを目
的とする。
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重
ねた結果、液晶材料及び／又は接着剤の基板への塗布を
グラビアコータを用いて行うことにより、液晶材料の基
板への大面積かつ均一な塗布が容易に行え、液晶光学素
子の連続製造が可能となることを見出し、この知見に基
づいて本発明を完成するに至った。
ねた結果、液晶材料及び／又は接着剤の基板への塗布を
グラビアコータを用いて行うことにより、液晶材料の基
板への大面積かつ均一な塗布が容易に行え、液晶光学素
子の連続製造が可能となることを見出し、この知見に基
づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は基板に液晶材料及び／又は接着剤を
グラビアコータを用いてパターン印刷する工程を有する
ことを特徴とする液晶光学素子の製造法を提供するもの
である。
グラビアコータを用いてパターン印刷する工程を有する
ことを特徴とする液晶光学素子の製造法を提供するもの
である。
第１図は本発明において用いられる一組のグラビアコー
タの一例を示す模式図であり、Ａはグラビアロールで基
板の流れ方向と逆向きに回転する。
タの一例を示す模式図であり、Ａはグラビアロールで基
板の流れ方向と逆向きに回転する。
グラビアロール回転時のグラビア表面の線速度ｖ２は、
基板の移動速度ｖ１に対して、通常１．５〜１００倍、
好ましくは２〜５０倍となるように設定する。また、こ
のグラビアロールの回転速度を変化させることにより、
パターン印刷された液晶材料及び／又は接着剤の塗布層
の膜厚を制御することができる。ロールＢはパターン印
刷を間欠的に行うための間欠塗布機構で、エアーシリン
ダにより上下動可能となっており、グラビアロールＡを
基板に接触させたり、離したりすることで、パターン印
刷が間欠的に行える。ロールＣはグラビアロールＡに基
板を押さえ付けるためロールで、必要に応じ加熱装置を
組み込んで１００’Ｃ程度に加熱すれば、塗布する際に
用いた溶媒を蒸発させることができる。
基板の移動速度ｖ１に対して、通常１．５〜１００倍、
好ましくは２〜５０倍となるように設定する。また、こ
のグラビアロールの回転速度を変化させることにより、
パターン印刷された液晶材料及び／又は接着剤の塗布層
の膜厚を制御することができる。ロールＢはパターン印
刷を間欠的に行うための間欠塗布機構で、エアーシリン
ダにより上下動可能となっており、グラビアロールＡを
基板に接触させたり、離したりすることで、パターン印
刷が間欠的に行える。ロールＣはグラビアロールＡに基
板を押さえ付けるためロールで、必要に応じ加熱装置を
組み込んで１００’Ｃ程度に加熱すれば、塗布する際に
用いた溶媒を蒸発させることができる。
このようなグラビアコータを用いて液晶材料を基板にパ
ターン印刷する。また、液晶材料がパターン印刷された
基板に対向基板を接着剤を用いて積層する場合には、該
基板又は対向基板に前記グラビアコータを用いて接着剤
をパターン印刷する。
ターン印刷する。また、液晶材料がパターン印刷された
基板に対向基板を接着剤を用いて積層する場合には、該
基板又は対向基板に前記グラビアコータを用いて接着剤
をパターン印刷する。
このようにして得られた基板を積層し、曲げ配向処理等
の配向処理を行うと液晶光学素子が得られる。液晶材料
中に接着剤が含有されている場合等は対向基板に接着剤
を塗布せずに基板の積層を行うことができる。
の配向処理を行うと液晶光学素子が得られる。液晶材料
中に接着剤が含有されている場合等は対向基板に接着剤
を塗布せずに基板の積層を行うことができる。
第２図は第１図で示した一組のグラビアロールを用いて
、基板上へ液晶材料を塗布する場合の印刷パターンを示
す模式的説明図で、１はグラビアロール、２は基板、３
は間欠的に塗布された液晶材料の塗布面である。第３図
及び第４図は別のグラビアロールを用いて接着剤を塗布
する場合の印刷パターンを示す模式的説明図で、４．６
はグラビアロール、２′は対向基板、５．７が接着剤の
塗布面である。第３図のように液晶材料塗布面の外側に
相当する部分にライン塗布したのち、第４図のように液
晶塗布面の間の非塗布面に間欠塗布することで接着剤の
塗布が完了する。これら第２図〜第４図に示される塗布
操作を組み合わせることにより、第５図に示されるよう
な液晶材料塗布面と接着剤塗布面との配置が構成される
。液晶材料及び接着剤の塗布は同一基板に対して行って
もよいし、また各対向基板に対し、別個に行ってもよい
。このようにして得られた液晶材料を塗布した基板と接
着剤を塗布した対向基板を積層し、次の配向工程に送る
。
、基板上へ液晶材料を塗布する場合の印刷パターンを示
す模式的説明図で、１はグラビアロール、２は基板、３
は間欠的に塗布された液晶材料の塗布面である。第３図
及び第４図は別のグラビアロールを用いて接着剤を塗布
する場合の印刷パターンを示す模式的説明図で、４．６
はグラビアロール、２′は対向基板、５．７が接着剤の
塗布面である。第３図のように液晶材料塗布面の外側に
相当する部分にライン塗布したのち、第４図のように液
晶塗布面の間の非塗布面に間欠塗布することで接着剤の
塗布が完了する。これら第２図〜第４図に示される塗布
操作を組み合わせることにより、第５図に示されるよう
な液晶材料塗布面と接着剤塗布面との配置が構成される
。液晶材料及び接着剤の塗布は同一基板に対して行って
もよいし、また各対向基板に対し、別個に行ってもよい
。このようにして得られた液晶材料を塗布した基板と接
着剤を塗布した対向基板を積層し、次の配向工程に送る
。
液晶材料、接着剤の塗布を複数のグラビアロールを用い
て行うことにより、液晶材料、接着剤をそれぞれパター
ン化して塗り分けることが可能で所望の構成の液晶光学
素子を容易に製造することができる。 本発明において
、液晶材料又は接着剤を塗布する基板は、通常長尺状の
ものが用いられ、連続的にグラビアコータに供給され塗
布が行われる。これにより、液晶光学素子の連続生産、
大面積化を容易に行うことができる。基板の材質として
は、通常、生産性、汎用性、加工性等の点から、強度、
耐熱性、透明性、耐久性などに優れたプラスチックから
なる基板等が好適に使用される。具体例としては、−軸
又は二軸延伸ポリエチレンテレフタレート等の結晶性ポ
リマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン等の非結
晶性ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン、ポリカーボネート、ナイロン等のポリアミ
ドなどのプラスチック基板が挙げられる。プラスチック
基板を用いると、ガラス基板を用いた場合に比べ軽量化
が図られる。
て行うことにより、液晶材料、接着剤をそれぞれパター
ン化して塗り分けることが可能で所望の構成の液晶光学
素子を容易に製造することができる。 本発明において
、液晶材料又は接着剤を塗布する基板は、通常長尺状の
ものが用いられ、連続的にグラビアコータに供給され塗
布が行われる。これにより、液晶光学素子の連続生産、
大面積化を容易に行うことができる。基板の材質として
は、通常、生産性、汎用性、加工性等の点から、強度、
耐熱性、透明性、耐久性などに優れたプラスチックから
なる基板等が好適に使用される。具体例としては、−軸
又は二軸延伸ポリエチレンテレフタレート等の結晶性ポ
リマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン等の非結
晶性ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン、ポリカーボネート、ナイロン等のポリアミ
ドなどのプラスチック基板が挙げられる。プラスチック
基板を用いると、ガラス基板を用いた場合に比べ軽量化
が図られる。
基板には透明電極が設けられており、この透明電極とし
ては酸化スズを被着させたＮＥＳＡ膜、酸化スズと酸化
インジウムよりなるＩＴＯ膜等が用いられる。これらの
電極は、公知の各種の手法、例えば、スパッタリング法
、蒸着法、印刷法、塗布法、メツキ法、接着法等、又は
、これらを適宜組み合わせた手法を用いて、基板上に設
けることができる。
ては酸化スズを被着させたＮＥＳＡ膜、酸化スズと酸化
インジウムよりなるＩＴＯ膜等が用いられる。これらの
電極は、公知の各種の手法、例えば、スパッタリング法
、蒸着法、印刷法、塗布法、メツキ法、接着法等、又は
、これらを適宜組み合わせた手法を用いて、基板上に設
けることができる。
本発明で用いられる液晶材料としては、液晶性を示すも
のであれば特に制限はないが、低分子ネマチック液晶、
低分子コレステリック結晶、低分子スメクチック液晶、
高分子ネマチック液晶、高分子コレステリック液晶、高
分子スメクチ・ンク液晶及びこれらの混合物等が挙げら
れる。強誘電性を示す低分子及び高分子の液晶材料やそ
れらの混合物等も好適に用いることができる。さらに本
発明で用いられる液晶材料には、前記の高分子液晶、低
分子液晶に加えて、多色性色素、減粘剤等の添加剤、接
着剤等が添加されていてもよい。
のであれば特に制限はないが、低分子ネマチック液晶、
低分子コレステリック結晶、低分子スメクチック液晶、
高分子ネマチック液晶、高分子コレステリック液晶、高
分子スメクチ・ンク液晶及びこれらの混合物等が挙げら
れる。強誘電性を示す低分子及び高分子の液晶材料やそ
れらの混合物等も好適に用いることができる。さらに本
発明で用いられる液晶材料には、前記の高分子液晶、低
分子液晶に加えて、多色性色素、減粘剤等の添加剤、接
着剤等が添加されていてもよい。
多色性色素としては、スチリル系、アゾメチン系、アゾ
系、ナフトキノン系、アントラキノン系、メロシアニン
系、ベンゾキノン系、テトラジン系の色素が挙げられる
。
系、ナフトキノン系、アントラキノン系、メロシアニン
系、ベンゾキノン系、テトラジン系の色素が挙げられる
。
本発明で用いられる接着剤としては、単独で用いられる
ものも、また液晶材料中に配合して用いられるものも、
いずれも接着剤として通常用いられている次のような高
分子物質、例えばエポキシ系接着剤、アクリル系接着剤
、ポリウレタン系接着剤、ホットメルト型接着剤、エラ
ストマー型接着剤を挙げることができる。
ものも、また液晶材料中に配合して用いられるものも、
いずれも接着剤として通常用いられている次のような高
分子物質、例えばエポキシ系接着剤、アクリル系接着剤
、ポリウレタン系接着剤、ホットメルト型接着剤、エラ
ストマー型接着剤を挙げることができる。
液晶材料及び接着剤は、例えばジクロロメタン、クロロ
ホルム、メチルエチルケトン、１，１．１−トリクロロ
エタン、トルエン及び／又はこれらの混合物等からなる
溶媒で、通常濃度２〜７０重量％、好ましくは２〜５０
重量％に希釈してグラビアコータにより塗布される。
ホルム、メチルエチルケトン、１，１．１−トリクロロ
エタン、トルエン及び／又はこれらの混合物等からなる
溶媒で、通常濃度２〜７０重量％、好ましくは２〜５０
重量％に希釈してグラビアコータにより塗布される。
上記のようにして塗布された基板は、加圧ロール等で積
層され、次いで曲げ配向処理等の配向処理が行われ、次
いで切断され液晶光学素子となる。
層され、次いで曲げ配向処理等の配向処理が行われ、次
いで切断され液晶光学素子となる。
この塗布、積層、配向処理、切断の各工程は連続化が可
能であり、大面積の液晶光学素子を連続的に複雑な工程
を必要とせずに生産でき、液晶光学素子の低コスト化が
可能となる。
能であり、大面積の液晶光学素子を連続的に複雑な工程
を必要とせずに生産でき、液晶光学素子の低コスト化が
可能となる。
〔実施例］
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。
発明はこれに限定されるものではない。
実施例１
希釈液（Ａ）
下記繰り返し単位を有する強誘電性高分子液晶をジクロ
ロメタンで濃度１５重量％に調整した希粗液（Ａ）を得
た。
ロメタンで濃度１５重量％に調整した希粗液（Ａ）を得
た。
Ｍｎ＝５． ３００
（ｃｒｙ ：結晶相、Ｓｍｃ” ：カイラルスメク
チックＣ相、ＳｔｍＡ ：スメクチックＡ相、Ｉｓｏ
：等吉相〕希粗液（Ｂ） 油化シェルエポキシ■製エポキシ樹脂（主剤エピコート
８３４と硬化剤ＱＸ−１１の重量比２：１の混合物）を
トルエンで濃度５重量％に調整して希釈液（Ｂ）を得た
。
チックＣ相、ＳｔｍＡ ：スメクチックＡ相、Ｉｓｏ
：等吉相〕希粗液（Ｂ） 油化シェルエポキシ■製エポキシ樹脂（主剤エピコート
８３４と硬化剤ＱＸ−１１の重量比２：１の混合物）を
トルエンで濃度５重量％に調整して希釈液（Ｂ）を得た
。
上記希釈液（Ａ）及び（Ｂ）を第６図に示す構成のグラ
ビア塗工装置でＩＴＯ付きＰＥＳ （ポリエーテルスル
ホン）基板（厚み１２５μｍ１巾１５ｃｍ、長さ５０ｍ
のロール物）にそれぞれ塗布し、溶媒蒸発後に厚さ３．
１μｍの膜を得た。
ビア塗工装置でＩＴＯ付きＰＥＳ （ポリエーテルスル
ホン）基板（厚み１２５μｍ１巾１５ｃｍ、長さ５０ｍ
のロール物）にそれぞれ塗布し、溶媒蒸発後に厚さ３．
１μｍの膜を得た。
第６図の装置の仕様は下記の通りである。
ロールＡ
グラビア形状 台形７５メツシユ
直径 ２５皿φ
回転数 ２００ｒｐｍ
ｖ２４１５．７ｍ／ｍｉｎ
塗布対象 希釈液（Ａ）
塗布面積 図示 （数値の単位：ｒＭｌ）間欠動作
塗布時間 ４．４秒 休止時間 １ 秒 ロールＡ′ グラビア形状 台形１．５０メツシユ 直径 ２５ＩＩＩＩｌｌφ 回転数 １００１００ ｒｐ ＝７．９ ｍ／ｍ ｉ ｎ 塗布対象 希釈液ＣＢ） 塗布面積 図示 （数値の単位：ｍｍ）間欠動作
なし ロールＡ′ グラビア形状 台形１５０メツシユ 直径 ２５ｍｍφ 回転数 １００１００ ｒｐミ７．９ｍ／ｍｉｎ 塗布対象 希釈液（Ｂ） 塗布面積 図示 （数値の単位：ａａ）間欠動作
塗布時間 ０．９秒 休止時間 ４．５秒 基板速度 ｖ＋＝２ｍ／ｍｉｎ このようにして得られた１組の基板を塗布面を合わせて
ロールにより積層し、引き続き、直径３０ｍ１、中心間
距離４０ｆｆＩ［ＩＩのロールを３本組み合わせたロー
ル群により連続的に曲げ配向処理を行った。
塗布時間 ４．４秒 休止時間 １ 秒 ロールＡ′ グラビア形状 台形１．５０メツシユ 直径 ２５ＩＩＩＩｌｌφ 回転数 １００１００ ｒｐ ＝７．９ ｍ／ｍ ｉ ｎ 塗布対象 希釈液ＣＢ） 塗布面積 図示 （数値の単位：ｍｍ）間欠動作
なし ロールＡ′ グラビア形状 台形１５０メツシユ 直径 ２５ｍｍφ 回転数 １００１００ ｒｐミ７．９ｍ／ｍｉｎ 塗布対象 希釈液（Ｂ） 塗布面積 図示 （数値の単位：ａａ）間欠動作
塗布時間 ０．９秒 休止時間 ４．５秒 基板速度 ｖ＋＝２ｍ／ｍｉｎ このようにして得られた１組の基板を塗布面を合わせて
ロールにより積層し、引き続き、直径３０ｍ１、中心間
距離４０ｆｆＩ［ＩＩのロールを３本組み合わせたロー
ル群により連続的に曲げ配向処理を行った。
次いで、得られた長尺状の液晶パネルを接着剤塗布部を
２分割するように切断し、所望の大きさのパネルを得た
。
２分割するように切断し、所望の大きさのパネルを得た
。
得られた液晶パネルについて室温でのコントラストを測
定したところ、±５■の印加で２８という良好な配向状
態のものが得られ、電界を切ってもその表示が２４時間
以上保たれた。このように本発明の方法によると長尺物
の連続生産（塗布→積層→配向処理→切断）が可能とな
り、生産性の大巾な向上ができ、がっ容易にコントラス
トの良好な液晶表示素子が得られた。
定したところ、±５■の印加で２８という良好な配向状
態のものが得られ、電界を切ってもその表示が２４時間
以上保たれた。このように本発明の方法によると長尺物
の連続生産（塗布→積層→配向処理→切断）が可能とな
り、生産性の大巾な向上ができ、がっ容易にコントラス
トの良好な液晶表示素子が得られた。
実施例２〜６
実施例１において、基板速度、グラビアロールのメツシ
ュ、及び回転速度を下記のように変化させ、他は実施例
１と同様にして液晶表示素子を作製したところ、第１表
に示すような性能の液晶表示素子を得た。
ュ、及び回転速度を下記のように変化させ、他は実施例
１と同様にして液晶表示素子を作製したところ、第１表
に示すような性能の液晶表示素子を得た。
実施例７
実施例１において塗布対象を以下のように変更したほか
は実施例１と同様に基板への塗布を行った。
は実施例１と同様に基板への塗布を行った。
希釈液（Ａ）
強誘電性高分子液晶Ｉ
Ｍｎ＝１５． ０００
〔ｇニガラス状態、Ｓｌ：未同定のスメクチ２り相〕強
誘電性高分子液晶■ Ｍｎ＝＝３，０００ 湘上ＩＩＬ飲 上記２種の高分子液晶Ｉ及び■を５０：５０（モル％）
で混合したものをアセトンに溶解し、１０重量％の希釈
液（Ａ）を得た。
誘電性高分子液晶■ Ｍｎ＝＝３，０００ 湘上ＩＩＬ飲 上記２種の高分子液晶Ｉ及び■を５０：５０（モル％）
で混合したものをアセトンに溶解し、１０重量％の希釈
液（Ａ）を得た。
希釈液（Ｂ）
Ｕ■硬化型アクリル系接着剤（セメダイン■製、セメロ
ックスス−パーＹ−８６２−１）をＭＥＫ（メチルエチ
ルケトン）で溶解し、１０重量％の希釈液（Ｂ）を得た
。
ックスス−パーＹ−８６２−１）をＭＥＫ（メチルエチ
ルケトン）で溶解し、１０重量％の希釈液（Ｂ）を得た
。
上記希釈液（Ａ）及び（Ｂ）を用いて実施例１と同様に
塗布蒸発後、２．５μｍの膜が得られた。
塗布蒸発後、２．５μｍの膜が得られた。
それぞれの基板を積層し、配向処理した後、４００Ｗメ
タルハライドランプを約２秒照射し、切断し、所望のパ
ネルを得た。
タルハライドランプを約２秒照射し、切断し、所望のパ
ネルを得た。
得られた液晶パネルについて室温でのコントラストを測
定したところ、±５ｖの印加で３６の値を得た。
定したところ、±５ｖの印加で３６の値を得た。
実施例８
塗布対象を以下のように変更したほかは実施例１と同一
条件で塗布した。
条件で塗布した。
希釈液（Ａ）
下記低分子強誘電性液晶をジクロロメタンで濃度１５重
量％に調整した希釈液（Ａ）を得た。
量％に調整した希釈液（Ａ）を得た。
溶媒蒸発後、２．１μｍの膜が得られ、実施例１と同様
に積層、配向処理を行い所望のパネルとした。
に積層、配向処理を行い所望のパネルとした。
得られた液晶パネルについて室温でのコントラストを測
定したところ、±５■の印加で２３の値を得た。
定したところ、±５■の印加で２３の値を得た。
実施例９
実施例１において塗布対象の希釈液（Ａ）を以下のよう
に変更したほかは実施例１と同様に基板への塗布を行っ
た。
に変更したほかは実施例１と同様に基板への塗布を行っ
た。
希釈液（Ａ）
Ａ ： Ｂ ： Ｃ： Ｄ＝４５．６：３０．４：４：
２０Ａ ＣＨ！ （モル％） 溶媒蒸発後、２．９μｍの膜が得られ、実施例１と同様
に積層、配向処理を行い所望のパネルとした。
２０Ａ ＣＨ！ （モル％） 溶媒蒸発後、２．９μｍの膜が得られ、実施例１と同様
に積層、配向処理を行い所望のパネルとした。
得られた液晶パネルについて室温でのコントラストを測
定したところ、±９■の印加で７０の値を得た。
定したところ、±９■の印加で７０の値を得た。
実施例１０
強誘電性高分子液晶
Ｍｎ＝５ ３０ ０
Ｍｎ−３，０００
接着剤
油化シェルエポキシ株製エポキシ樹脂（主剤エピコート
８３４と硬化剤ＱＸ−１１の重量比２：１の混合物） 上記繰り返し単位を有する高分子液晶と接着剤を重量比
で５０７５０で混合した液晶組成物をジクロロメタンに
溶解し、１５重量％の溶液とした。
８３４と硬化剤ＱＸ−１１の重量比２：１の混合物） 上記繰り返し単位を有する高分子液晶と接着剤を重量比
で５０７５０で混合した液晶組成物をジクロロメタンに
溶解し、１５重量％の溶液とした。
上記溶液を第７図に示す構成のグラビア塗工装置でＩＴ
Ｏ付きＰＥＳ基板（厚み１２５μｍ、巾１５ｃｍ、長さ
５０ｍのロール物）にそれぞれ塗布し、溶媒蒸発後に厚
さ３．１μｍの膜を得た。
Ｏ付きＰＥＳ基板（厚み１２５μｍ、巾１５ｃｍ、長さ
５０ｍのロール物）にそれぞれ塗布し、溶媒蒸発後に厚
さ３．１μｍの膜を得た。
第７図の装置の仕様は下記の通りである。
ロールＡ
グラビア形状 台形７５メツシユ
直径 ２５ｍｍφ
回転数 ２０Ｏｒｐｍ
Ｖｚ ＝１５．７ｍ／ｍｔｎ
塗布対象 上記溶液
塗布面積 図示 （数値の単位：ａａ）間欠勤イ￥
塗布時間 ４．４秒 休止時間 １ 秒 基板速度 Ｖ ＋ ”” ２ ｍ／ ｍ ｉ ｎ板を重
ねてロールにより積層し、引き続き実施例１と同様に曲
げ配向処理を行った。次いで、得られた長尺状の液晶パ
ネルを切断し、所望の大きさのパネルを得た。
塗布時間 ４．４秒 休止時間 １ 秒 基板速度 Ｖ ＋ ”” ２ ｍ／ ｍ ｉ ｎ板を重
ねてロールにより積層し、引き続き実施例１と同様に曲
げ配向処理を行った。次いで、得られた長尺状の液晶パ
ネルを切断し、所望の大きさのパネルを得た。
得られた液晶パネルについて室温でのコントラストを測
定したところ、±５■の印加で２３という良好な配向状
態のものが得られ、電界を切ってもその表示が２４時間
以上保たれた。このように本発明の方法によると長尺物
の連続生産（塗布→積層→配向処理→切断）が可能とな
り、生産性の大巾な向上ができ、かつ容易にコントラス
トの良好な液晶表示素子が得られた。
定したところ、±５■の印加で２３という良好な配向状
態のものが得られ、電界を切ってもその表示が２４時間
以上保たれた。このように本発明の方法によると長尺物
の連続生産（塗布→積層→配向処理→切断）が可能とな
り、生産性の大巾な向上ができ、かつ容易にコントラス
トの良好な液晶表示素子が得られた。
実施例１１〜１４
実施例１０において、基板速度、グラビアロールのメツ
シュ、及び回転速度を下記のように変化させ、他は実施
例１０と同様にして液晶表示素子を作製したところ、第
２表に示すような性能の液晶表示素子を得た。
シュ、及び回転速度を下記のように変化させ、他は実施
例１０と同様にして液晶表示素子を作製したところ、第
２表に示すような性能の液晶表示素子を得た。
このようにして得られた基板の塗布面に対向基第２表
実施例１５
実施例１０において塗布対象を以下のように変更したほ
かは実施例１０と同様に基板への塗布を行った。
かは実施例１０と同様に基板への塗布を行った。
強誘電性高分子液晶Ｉ
Ｈ３
Ｍｎ＝１５． ０００
強誘電性高分子液晶■
Ｍｎ＝３． ０００
上記２種の高分子液晶Ｉ及び■を５０ ： ５０（モル
％）で混合したものにＵＶ硬化型アクリル系接着剤（セ
メダイン■製、セメロックスス−パーＹ−８６２−１）
を重量比３：１で混合しアセトンに溶解し、１０重量％
の溶液を得た。この溶液を用いて実施例工０と同様に塗
布蒸発後、２．５μｍの膜が得られ、この塗布面上に対
向基板を積層し、配向処理した後、４００Ｗメタルハラ
イドランプを約２秒照射し、切断し、所望のパネルを得
た。
％）で混合したものにＵＶ硬化型アクリル系接着剤（セ
メダイン■製、セメロックスス−パーＹ−８６２−１）
を重量比３：１で混合しアセトンに溶解し、１０重量％
の溶液を得た。この溶液を用いて実施例工０と同様に塗
布蒸発後、２．５μｍの膜が得られ、この塗布面上に対
向基板を積層し、配向処理した後、４００Ｗメタルハラ
イドランプを約２秒照射し、切断し、所望のパネルを得
た。
得られた液晶パネルについて室温でのコントラストを測
定したところ、±５Ｖの印加で３０の値を得た。
定したところ、±５Ｖの印加で３０の値を得た。
実施例１６
塗布対象（高分子強誘電性液晶）を以下のように変更し
たほかは実施例１０と同一条件で塗布した。
たほかは実施例１０と同一条件で塗布した。
租１」ＩＦ紘
溶媒蒸発後、２．１μｍの膜が得られ、積層、配向処理
を行い所望のパネルとした。
を行い所望のパネルとした。
得られた液晶パネルについて室温でのコントラストを測
定したところ、±５ｖの印加で１３の値を得た。
定したところ、±５ｖの印加で１３の値を得た。
実施例１７
実施例１０において塗布対象（強誘電性高分子液晶）を
以下のように変更したほかは実施例１０と同様に基板へ
の塗布を行った。
以下のように変更したほかは実施例１０と同様に基板へ
の塗布を行った。
Ａ ： Ｂ ： Ｃ： Ｄ −４５，６：３０．４：４
：２０ （モル％）Ａ ＣＨツ ！ Ｂ 〔発明の効果］ 本発明にの製造法によれば、大面積、大表示容量の液晶
光学素子を簡単な工程により、容易に連続的に製造する
ことができ、生産性が大巾に向上することで液晶光学素
子の製造コストの低減が可能となる。
：２０ （モル％）Ａ ＣＨツ ！ Ｂ 〔発明の効果］ 本発明にの製造法によれば、大面積、大表示容量の液晶
光学素子を簡単な工程により、容易に連続的に製造する
ことができ、生産性が大巾に向上することで液晶光学素
子の製造コストの低減が可能となる。
また、本発明の製造法によれば膜厚の調整が容易で、均
一な薄膜が得られる。
一な薄膜が得られる。
Ｍｎ−３０００
溶媒蒸発後、２．９μｍの膜が得られ、実施例１０と同
様に積層、配向処理を行い、切断し所望のパネルとした
。
様に積層、配向処理を行い、切断し所望のパネルとした
。
得られた液晶パネルについて室温でのコントラストを測
定したところ、±９■の印加で５５の値を得た。
定したところ、±９■の印加で５５の値を得た。
第１図は、本発明の製造法に用いられるグラビアコータ
の一例を示す模式的断面図であり、第２図、第３図、第
４図及び第５図は塗膜の状態を示す模式的平面図である
。第６図及び第７図は本発明の製造工程と塗膜の状態を
示す模式的説明図である。
の一例を示す模式的断面図であり、第２図、第３図、第
４図及び第５図は塗膜の状態を示す模式的平面図である
。第６図及び第７図は本発明の製造工程と塗膜の状態を
示す模式的説明図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板に液晶材料及び／又は接着剤をグラビアコータ
を用いてパターン印刷する工程を有することを特徴とす
る液晶光学素子の製造法。 ２、液晶材料及び／又は接着剤が溶媒により希釈されて
いる請求項１記載の液晶光学素子の製造法。 ３、基板にロール状の可撓性基材を用いることで連続生
産を行うことを特徴とする請求項１記載の液晶光学素子
の製造法。 ４、基板へのパターン印刷を間欠的に行う請求項１記載
の液晶光学素子の製造法。 ５、グラビアコータのグラビアロールを基板の流れ方向
とは逆向きに回転させ、かつ回転速度をグラビア表面の
線速度が基板の流れ速度の１．５〜１００倍となるよう
に変化させることにより、パターン印刷された液晶材料
及び／又は接着剤の膜厚を制御する請求項１、２、３又
は４記載の液晶光学素子の製造法。 ６、基板に液晶材料及び／又は接着剤をグラビアロール
形状の異なる複数のグラビアコータを用いてパターン印
刷する請求項１、２、３、４又は５記載の液晶光学素子
の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6220289A JPH02242222A (ja) | 1989-03-16 | 1989-03-16 | 液晶光学素子の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6220289A JPH02242222A (ja) | 1989-03-16 | 1989-03-16 | 液晶光学素子の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02242222A true JPH02242222A (ja) | 1990-09-26 |
Family
ID=13193326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6220289A Pending JPH02242222A (ja) | 1989-03-16 | 1989-03-16 | 液晶光学素子の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02242222A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5140450A (en) * | 1989-03-31 | 1992-08-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Transparent electro-conductive film and liquid crystal display using the same |
| EP0634226A4 (en) * | 1993-01-14 | 1995-10-18 | Fuji Electrochemical Co Ltd | METHOD AND DEVICE FOR INTERMITTENT COATING. |
| JP2000047264A (ja) * | 1998-07-21 | 2000-02-18 | Aventis Research & Technol Gmbh & Co Kg | スメクティック液晶ディスプレイの製造方法 |
| CN117317116A (zh) * | 2023-09-15 | 2023-12-29 | 深圳市新嘉拓自动化技术有限公司 | 微凹版间断覆膜涂布的方法、设备及锂电池 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58140718A (ja) * | 1982-02-17 | 1983-08-20 | Hitachi Ltd | 液晶表示素子の製造方法及び製造装置 |
| JPS61501345A (ja) * | 1984-03-02 | 1986-07-03 | マンチエスタ−・ア−ル・アンド・デイ・リミテッド・パ−トナ−シツプ | 液晶構成体 |
-
1989
- 1989-03-16 JP JP6220289A patent/JPH02242222A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58140718A (ja) * | 1982-02-17 | 1983-08-20 | Hitachi Ltd | 液晶表示素子の製造方法及び製造装置 |
| JPS61501345A (ja) * | 1984-03-02 | 1986-07-03 | マンチエスタ−・ア−ル・アンド・デイ・リミテッド・パ−トナ−シツプ | 液晶構成体 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5140450A (en) * | 1989-03-31 | 1992-08-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Transparent electro-conductive film and liquid crystal display using the same |
| US5300858A (en) * | 1989-03-31 | 1994-04-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Transparent electro-conductive film, and AC powder type EL panel and liquid crystal display using the same |
| EP0634226A4 (en) * | 1993-01-14 | 1995-10-18 | Fuji Electrochemical Co Ltd | METHOD AND DEVICE FOR INTERMITTENT COATING. |
| JP2000047264A (ja) * | 1998-07-21 | 2000-02-18 | Aventis Research & Technol Gmbh & Co Kg | スメクティック液晶ディスプレイの製造方法 |
| CN117317116A (zh) * | 2023-09-15 | 2023-12-29 | 深圳市新嘉拓自动化技术有限公司 | 微凹版间断覆膜涂布的方法、设备及锂电池 |
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