JPH02242819A - シクロアルキリデンビスフエノールのポリカーボネート - Google Patents
シクロアルキリデンビスフエノールのポリカーボネートInfo
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/04—Aromatic polycarbonates
- C08G64/06—Aromatic polycarbonates not containing aliphatic unsaturation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L69/00—Compositions of polycarbonates; Compositions of derivatives of polycarbonates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Medicinal Chemistry (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、少なくとも10,000、好ましくは10,
000〜250,000、より好ましくは10.000
〜120,000および最も好ましくは20,000〜
80. Oooの範囲の平均分子量Mwを有する熱可塑
性芳香族ポリカーボネートであって、式(I) CI) 式中、 R1、R1、R3およびR1は、互いに独立に、水素、
CrC5z炭化水素基またはハロゲンであり、 mは2または3であり、そして Xは水素またC s−CI!炭化水素基であり、少なく
とも1つの置換基・X好ましくは1つまたは2つのみの
置換基YはCl−Cl!炭化水素基である、 に相当する二官能性カーボネート構造単位を、前記ポリ
カーボネート中の二官能性カーボネート構造単位の合計
量に基づいて100〜1モル%、好ましくは100〜5
モル%、より好ましくは100〜20モル%の量で、含
有することを特徴とする、熱可塑性芳香族ポリカーボネ
ートに関する。100〜20モル%の式(I)の二官能
性カーボネート構造単位を含有する本発明によりポリカ
ーボネートのうちで、100〜50モル%のこれらの単
位を含有するものは好ましく、100〜80モル%のこ
れらの単位を含有するものはより好ましく、そして10
0モル%のこれらの単位を含有するものはより最も好ま
しい。
000〜250,000、より好ましくは10.000
〜120,000および最も好ましくは20,000〜
80. Oooの範囲の平均分子量Mwを有する熱可塑
性芳香族ポリカーボネートであって、式(I) CI) 式中、 R1、R1、R3およびR1は、互いに独立に、水素、
CrC5z炭化水素基またはハロゲンであり、 mは2または3であり、そして Xは水素またC s−CI!炭化水素基であり、少なく
とも1つの置換基・X好ましくは1つまたは2つのみの
置換基YはCl−Cl!炭化水素基である、 に相当する二官能性カーボネート構造単位を、前記ポリ
カーボネート中の二官能性カーボネート構造単位の合計
量に基づいて100〜1モル%、好ましくは100〜5
モル%、より好ましくは100〜20モル%の量で、含
有することを特徴とする、熱可塑性芳香族ポリカーボネ
ートに関する。100〜20モル%の式(I)の二官能
性カーボネート構造単位を含有する本発明によりポリカ
ーボネートのうちで、100〜50モル%のこれらの単
位を含有するものは好ましく、100〜80モル%のこ
れらの単位を含有するものはより好ましく、そして10
0モル%のこれらの単位を含有するものはより最も好ま
しい。
本発明によるポリカーボネートは、既知のポリカーボネ
ート、例えば、ビスフェノールAおよび1.4−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサンのポリカ
ーボネートと比較して、驚くべき技術性質を示す。
ート、例えば、ビスフェノールAおよび1.4−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサンのポリカ
ーボネートと比較して、驚くべき技術性質を示す。
こうして、それらは、少量のみの式(I)に相当するカ
ーボネート構造単位を含有するときでさえ、驚くほどに
高いガラス転移温度Tgを示す。
ーボネート構造単位を含有するときでさえ、驚くほどに
高いガラス転移温度Tgを示す。
それらは、また、とくにそれらの高いガラス転移温度T
gを考慮すると、とくにすぐれた離型性および例外的に
すぐれたメルト70−を示す。さらに、本発明によるポ
リカーボネートは、粘着抵抗、加水分解安定性、紫外線
安定性および加熱老化抵抗を示し、そして光学的性質、
例えば、低い複屈折を示す。
gを考慮すると、とくにすぐれた離型性および例外的に
すぐれたメルト70−を示す。さらに、本発明によるポ
リカーボネートは、粘着抵抗、加水分解安定性、紫外線
安定性および加熱老化抵抗を示し、そして光学的性質、
例えば、低い複屈折を示す。
式(I)に相当するカーボネート構造単位は、式(I
I) 式中、 R1、R:、R3、R4、mおよびXは式(I)におけ
ると同一の意味を有する、 に相当するビスフェノールに基づく。
I) 式中、 R1、R:、R3、R4、mおよびXは式(I)におけ
ると同一の意味を有する、 に相当するビスフェノールに基づく。
式(I)および式(II)におイテ、R1,R2R3お
よびR6は、好ましくは水素、メチル、エチル、フェニ
ル、シクロヘキシル、塩素およヒ臭素、より好ましくは
水素、メチルおよび臭素である。
よびR6は、好ましくは水素、メチル、エチル、フェニ
ル、シクロヘキシル、塩素およヒ臭素、より好ましくは
水素、メチルおよび臭素である。
RI、R2、R3およびR1の1つより多くが水素でな
い場合、同一の置換基は好ましいOR’、R2R3およ
びRoの2つが水素でない場合、カーボネート基(式(
■))またはそれぞれフェノールのOH基(式(II)
)に関する。、o −置換は好ましい。4つの置換基
R1,R2、R1およびR4のいずれもが水素である場
合、上のように関係する。、o、o’ 、oo−置換は
好ましい。
い場合、同一の置換基は好ましいOR’、R2R3およ
びRoの2つが水素でない場合、カーボネート基(式(
■))またはそれぞれフェノールのOH基(式(II)
)に関する。、o −置換は好ましい。4つの置換基
R1,R2、R1およびR4のいずれもが水素である場
合、上のように関係する。、o、o’ 、oo−置換は
好ましい。
式(I)および式(I りにおいて、mは好ましくは3
である。
である。
式(I)および式(I I)において、Xは水素または
C,−C□、炭化水素基、例えば、n−C,−CI!ア
ルキル(例えば、種々のイソヘキシル、インオクチルお
よびインドデシル基)、CaC+zシクロアルキル、例
えば、シクロヘキシル、n−またはインアルキル置換シ
クロヘキシル(例えば、メチル、エチル、イソプロピル
またはセーブチル、シクロヘキシル)、アリール置換シ
クロヘキシル(フェニルシクロヘキシル)およびフェニ
ル基が融合しているシクロヘキシル、アリール(例えば
、フェニルおよびナフチル)、アラルキル(例えば、ベ
ンジルおよびクミル)、アルキルアリール(例えば、メ
チルフェニルおよびイソプロピルフェニル)、シクロア
ルキル置換アルキル(例えば、パーヒドロクミル)であ
る。
C,−C□、炭化水素基、例えば、n−C,−CI!ア
ルキル(例えば、種々のイソヘキシル、インオクチルお
よびインドデシル基)、CaC+zシクロアルキル、例
えば、シクロヘキシル、n−またはインアルキル置換シ
クロヘキシル(例えば、メチル、エチル、イソプロピル
またはセーブチル、シクロヘキシル)、アリール置換シ
クロヘキシル(フェニルシクロヘキシル)およびフェニ
ル基が融合しているシクロヘキシル、アリール(例えば
、フェニルおよびナフチル)、アラルキル(例えば、ベ
ンジルおよびクミル)、アルキルアリール(例えば、メ
チルフェニルおよびイソプロピルフェニル)、シクロア
ルキル置換アルキル(例えば、パーヒドロクミル)であ
る。
式(I)および式(I I)において、Xは好ましくは
水素、イソーC,−C,□アルキル、シクロアルキル、
アリールおよびアラルキルであり、より好ましくは水素
、イソ−C,−C,アルキル、シクロヘキシル、フェニ
ル、クミルおよびパーヒドロクミルであり、最も好まし
くは水素、1.l。
水素、イソーC,−C,□アルキル、シクロアルキル、
アリールおよびアラルキルであり、より好ましくは水素
、イソ−C,−C,アルキル、シクロヘキシル、フェニ
ル、クミルおよびパーヒドロクミルであり、最も好まし
くは水素、1.l。
3.3−テトラブチル、フェニルおよびシクロヘキシル
である。
である。
mが3であるとき、式(I)および式(I I)中に1
つのみの炭化水素置換基Xが存在し、出発物質の入手可
能性に関するとき、この置換基Xは好ましくはシクロへ
キシリデン環の4−位置に存在するか、あるいはポリカ
ーボネートのことに耐熱性が要求されるときシクロへキ
シリデン環の3−位置に存在する。
つのみの炭化水素置換基Xが存在し、出発物質の入手可
能性に関するとき、この置換基Xは好ましくはシクロへ
キシリデン環の4−位置に存在するか、あるいはポリカ
ーボネートのことに耐熱性が要求されるときシクロへキ
シリデン環の3−位置に存在する。
m−3(シクロへキシリデン環)および式(I)および
式(I I)中に2つの炭化水素基が存在するとき、ポ
リカーボネートの加熱耐熱性が要求されるとき、これら
の2つの炭化水素基Xは好ましくは3,5−位置に存在
する。
式(I I)中に2つの炭化水素基が存在するとき、ポ
リカーボネートの加熱耐熱性が要求されるとき、これら
の2つの炭化水素基Xは好ましくは3,5−位置に存在
する。
式(I I)に相当するビスフェノールは次のとおりで
ある: 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−(I
,1−ジメチルブチル)−シクロヘキサン1.1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−4−(I,1,3,3
−テトラメチルブチル)−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−フェ
ニル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−クミ
ル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−ベン
ジル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−シク
ロヘキシル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−パー
ヒドロクミル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−フェ
ニル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−(I
,1−ジメチルブチル)−シクロヘキサン1.1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−3−(I,1,3,3
−テトラメチルブチル)−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−クミ
ル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−ベン
ジル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−シク
ロヘキシル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−パー
ヒドロクミル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3゜5−
[ビス−(l、■−ジメチルブチル)]−シクロヘキサ
ン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3゜5−
[ビス−(I,1,3,3−テトラメチルブチル)]−
シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3゜5−
ビス−フェニル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3゜5−
ビス−シクロヘキシル−シクロヘキサン1、l−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−3゜5−ビス−クミル−
シクロヘキサン 1.1−ビス−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル
)−4−(I,1,3,3−テトラメチルブチル)−シ
クロヘキサン 1.1−ビス−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル
)−4−7エニルーシクロヘキサン1.1−ビス−(3
−メチル−4−ヒドロキシ7エ二ル)−4−クミルーシ
ク口ヘキサン1.1−ビス−(3−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−4−シクロヘキシル−シクロヘキサン
1.1−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−(I,l、3,3−テトラメチルブチル
)−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−フェニル−シクロヘキサン1.1−ビス
−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4
−クミル−シクロヘキサン1.1−ビス−(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−シクロヘキシ
ル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3−メチル−5−クロロ−4−ヒドロ
キシフェニル) −4−7xニル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3−メチル−5−ブロモ−4−ヒドロ
キシフェニル)−4−シクロヘキシル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル
”)−4−(I,1,3,3−テトラメチルブチル)−
シクロヘキサン t、i−ビス−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−(I,1,3,3−テトラメチルブチル
)−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−フェニル−シクロヘキサン1、l−ビス
−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)−4
−クミル−シクロヘキサン1、l−ビス−(3,5−ジ
クロロ−4−ヒドロキシフェニル)−4−シクロヘキシ
ル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−(I,1,3,3−テトラメチルブチル
)−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−フェニル−シクロヘキサン1.1−ビス
−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)−4
−クミル−シクロヘキサン1.1−ビス−(3,5−ジ
ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)−4−シクロヘキシ
ル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−パーヒドロクミル−シクロヘキサン。
ある: 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−(I
,1−ジメチルブチル)−シクロヘキサン1.1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−4−(I,1,3,3
−テトラメチルブチル)−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−フェ
ニル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−クミ
ル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−ベン
ジル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−シク
ロヘキシル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−パー
ヒドロクミル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−フェ
ニル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−(I
,1−ジメチルブチル)−シクロヘキサン1.1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−3−(I,1,3,3
−テトラメチルブチル)−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−クミ
ル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−ベン
ジル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−シク
ロヘキシル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−パー
ヒドロクミル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3゜5−
[ビス−(l、■−ジメチルブチル)]−シクロヘキサ
ン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3゜5−
[ビス−(I,1,3,3−テトラメチルブチル)]−
シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3゜5−
ビス−フェニル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3゜5−
ビス−シクロヘキシル−シクロヘキサン1、l−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−3゜5−ビス−クミル−
シクロヘキサン 1.1−ビス−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル
)−4−(I,1,3,3−テトラメチルブチル)−シ
クロヘキサン 1.1−ビス−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル
)−4−7エニルーシクロヘキサン1.1−ビス−(3
−メチル−4−ヒドロキシ7エ二ル)−4−クミルーシ
ク口ヘキサン1.1−ビス−(3−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−4−シクロヘキシル−シクロヘキサン
1.1−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−(I,l、3,3−テトラメチルブチル
)−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−フェニル−シクロヘキサン1.1−ビス
−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−4
−クミル−シクロヘキサン1.1−ビス−(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)−4−シクロヘキシ
ル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3−メチル−5−クロロ−4−ヒドロ
キシフェニル) −4−7xニル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3−メチル−5−ブロモ−4−ヒドロ
キシフェニル)−4−シクロヘキシル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル
”)−4−(I,1,3,3−テトラメチルブチル)−
シクロヘキサン t、i−ビス−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−(I,1,3,3−テトラメチルブチル
)−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−フェニル−シクロヘキサン1、l−ビス
−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)−4
−クミル−シクロヘキサン1、l−ビス−(3,5−ジ
クロロ−4−ヒドロキシフェニル)−4−シクロヘキシ
ル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−(I,1,3,3−テトラメチルブチル
)−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−フェニル−シクロヘキサン1.1−ビス
−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)−4
−クミル−シクロヘキサン1.1−ビス−(3,5−ジ
ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)−4−シクロヘキシ
ル−シクロヘキサン 1.1−ビス−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−パーヒドロクミル−シクロヘキサン。
式CI りに相当するビスフェノールは既知であるか、
あるいは対応するケトンまたはフェノールから既知の方
法により調製することができる。
あるいは対応するケトンまたはフェノールから既知の方
法により調製することができる。
式(I)に相当するカーボネート構造単位に加えて、本
発明によるポリカーボネートは、100モル%に対して
相補的な量の他の二官能性カーボネート構造単位、例え
ば、式(rv)に相当するビスフェノールに基づく下の
式(I I I)に相当するものを含有する: 8O−Z−OH(I’V3 式(rv)に相当するビスフェノールは、ZがCI−C
!。芳香族基であるものであり、前記芳香族基は1また
は2以上の芳香族核を含有することができ、置換されて
いることができ、そして脂肪族基または式(II)に相
当するもの以外の他の脂環族基または異種原子を架橋員
として含有することができる。
発明によるポリカーボネートは、100モル%に対して
相補的な量の他の二官能性カーボネート構造単位、例え
ば、式(rv)に相当するビスフェノールに基づく下の
式(I I I)に相当するものを含有する: 8O−Z−OH(I’V3 式(rv)に相当するビスフェノールは、ZがCI−C
!。芳香族基であるものであり、前記芳香族基は1また
は2以上の芳香族核を含有することができ、置換されて
いることができ、そして脂肪族基または式(II)に相
当するもの以外の他の脂環族基または異種原子を架橋員
として含有することができる。
式(IV)に相当するジフェノールの例は、次のとおり
である:ハイドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキ
シジフェノール、ビス−(ヒドロキシフェニル)−アル
カン、ビス−(ヒドロキシフェニル)−シクロアルカン
、ビス−(ヒドロキシフェニル)−サルファイド、ビス
−(ヒドロキシフェニル)−スルホン、ビス=(ヒドロ
キシフェニル)−スルホキシド、α、α −ビス−(ヒ
ドロキシフェニル)−ジイソプロピルベンゼンおよびそ
れらの核アルキル化誘導体および核ノ\ロゲン化誘導体
。
である:ハイドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキ
シジフェノール、ビス−(ヒドロキシフェニル)−アル
カン、ビス−(ヒドロキシフェニル)−シクロアルカン
、ビス−(ヒドロキシフェニル)−サルファイド、ビス
−(ヒドロキシフェニル)−スルホン、ビス=(ヒドロ
キシフェニル)−スルホキシド、α、α −ビス−(ヒ
ドロキシフェニル)−ジイソプロピルベンゼンおよびそ
れらの核アルキル化誘導体および核ノ\ロゲン化誘導体
。
これらおよび他の適当なジフェノールは、例えば、次の
文献に記載されている:米国特許第3゜028.365
号、米国特許筒2.999.835号、米国特許筒3.
148.172号、米国特許筒3,275.601号、
米国特許筒2.991.273号、米国特許第3.27
1,367号、米国特許第3.062,781号、米国
特許第2゜970.131号および米国特許第2.99
9゜846号、ドイツ国特許公開明細書(DE−O3)
1.570.703号、ドイツ国特許公開明細書(DE
−OS)2,063.050号、ドイツ国特許公開明細
書(DE−OS)2,063.052号、ドイツ国特許
公開明細書(DE−OS)2゜0[33,052号、ド
イツ国特許公開明細書(DE−O5)2,211.95
6号;フランス国特許第1,561.518号およびH
,5chne11、rChemistry and
Physics of Po1ycarbona
tesJ、Interscience Publis
herS1ニューヨーク 1964゜ 好ましい他のジフェノールの例は、次のと89であ6:
4.4’−ジヒドロキシジフェニル、2゜2−ビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、2,4−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル−2−メチルブタン)、1.
1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサ
ン、α、αビスー(4−ヒドロキシフェニル)−p−シ
イツブビルベンゼン、2.2−ビス−(3−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)−プロパン、2.2−ビス−(
3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、ビ
ス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−
メタン、2.2−ビス−(35−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−プロパン、ビス−(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)−スルホン、2,4−ビス
−(3゜5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル) −
2−メチルブタン、1.1−ビス−(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)−p−シイツブビルベンゼ
ン、2.2−ビス=(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパンオJ:ヒ2 。
文献に記載されている:米国特許第3゜028.365
号、米国特許筒2.999.835号、米国特許筒3.
148.172号、米国特許筒3,275.601号、
米国特許筒2.991.273号、米国特許第3.27
1,367号、米国特許第3.062,781号、米国
特許第2゜970.131号および米国特許第2.99
9゜846号、ドイツ国特許公開明細書(DE−O3)
1.570.703号、ドイツ国特許公開明細書(DE
−OS)2,063.050号、ドイツ国特許公開明細
書(DE−OS)2,063.052号、ドイツ国特許
公開明細書(DE−OS)2゜0[33,052号、ド
イツ国特許公開明細書(DE−O5)2,211.95
6号;フランス国特許第1,561.518号およびH
,5chne11、rChemistry and
Physics of Po1ycarbona
tesJ、Interscience Publis
herS1ニューヨーク 1964゜ 好ましい他のジフェノールの例は、次のと89であ6:
4.4’−ジヒドロキシジフェニル、2゜2−ビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、2,4−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル−2−メチルブタン)、1.
1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサ
ン、α、αビスー(4−ヒドロキシフェニル)−p−シ
イツブビルベンゼン、2.2−ビス−(3−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)−プロパン、2.2−ビス−(
3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、ビ
ス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−
メタン、2.2−ビス−(35−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−プロパン、ビス−(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)−スルホン、2,4−ビス
−(3゜5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル) −
2−メチルブタン、1.1−ビス−(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)−p−シイツブビルベンゼ
ン、2.2−ビス=(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパンオJ:ヒ2 。
2−ビス−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニ
ル)−プロパン。
ル)−プロパン。
式(IV)に相当するとくに好ましいジフェノールの例
は、次のとおりである:2,2−ビスー(4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパン、2.2−ビス−(3,5−ジ
ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、2.2
−ビス−(3,5−シクロロー4−ヒドロキシフェニル
)−プロパン、2.2−ビス−(3,5−ジブロモ−4
−ヒドロキシフェニル)−プロパンおよび1.1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン。
は、次のとおりである:2,2−ビスー(4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパン、2.2−ビス−(3,5−ジ
ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、2.2
−ビス−(3,5−シクロロー4−ヒドロキシフェニル
)−プロパン、2.2−ビス−(3,5−ジブロモ−4
−ヒドロキシフェニル)−プロパンおよび1.1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン。
2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン
はとくに好ましい。
はとくに好ましい。
他のジフェノールを個々にかつまた混合物で使用するこ
とができる。
とができる。
少量(使用するジフェノールに基づいて0.05〜2.
0モル%)の三f能性または三官能性以上の化合物、と
くに3またはそれ以上の7エノールのヒドロキシル基を
含有するものを必要に応じて既知の方法で、枝分かれ剤
として使用して枝分かれポリカーボネートを生成するこ
とができる。
0モル%)の三f能性または三官能性以上の化合物、と
くに3またはそれ以上の7エノールのヒドロキシル基を
含有するものを必要に応じて既知の方法で、枝分かれ剤
として使用して枝分かれポリカーボネートを生成するこ
とができる。
枝分かれのために使用できる、3またはそれ以上のフェ
ノールのヒドロキシル基を含有する化合物の例は、次の
とおりであるニア0ログルシノール、4.6−シメチル
ー2.4.6−トリー(4−ヒドロキシフェニル)−ヘ
プト−2−エン、4.6−シメチルー2.4.6−)ロ
ー(4−ヒドロキシフェニル)−へブタン、1.3.5
−1リー(4−ヒドロキシフェニル)−エタン、ト!J
−(4−ヒドロキシフェニル)−7二二ルメタン、2.
2−ビス−(4,4−ビス−(4−ヒドロキシフェニル
)−シクロヘキシル)−プロパン、2.4−ビス−(4
−ヒドロキシフェニルイソ7’aビル)−7エノール、
2.6−ビス−(2−ヒドロキシ−5′−メチルベンジ
ル)−4−メチルフェノール、2−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−2−(2゜4−ジヒドロキシフェニル)−プ
ロパン、ヘキサ−(4−(4−ヒドロキシフェニルイソ
プロピル)−フェニル)−メタン、テトラ−(4−(4
−ヒドロキシフェニルイソプロピル)−フェニル)−メ
タンおよび1.4−ビス−(4° 、4″−ジヒドロキ
シトリフェニル)−メチル)−ベンゼン。
ノールのヒドロキシル基を含有する化合物の例は、次の
とおりであるニア0ログルシノール、4.6−シメチル
ー2.4.6−トリー(4−ヒドロキシフェニル)−ヘ
プト−2−エン、4.6−シメチルー2.4.6−)ロ
ー(4−ヒドロキシフェニル)−へブタン、1.3.5
−1リー(4−ヒドロキシフェニル)−エタン、ト!J
−(4−ヒドロキシフェニル)−7二二ルメタン、2.
2−ビス−(4,4−ビス−(4−ヒドロキシフェニル
)−シクロヘキシル)−プロパン、2.4−ビス−(4
−ヒドロキシフェニルイソ7’aビル)−7エノール、
2.6−ビス−(2−ヒドロキシ−5′−メチルベンジ
ル)−4−メチルフェノール、2−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−2−(2゜4−ジヒドロキシフェニル)−プ
ロパン、ヘキサ−(4−(4−ヒドロキシフェニルイソ
プロピル)−フェニル)−メタン、テトラ−(4−(4
−ヒドロキシフェニルイソプロピル)−フェニル)−メ
タンおよび1.4−ビス−(4° 、4″−ジヒドロキ
シトリフェニル)−メチル)−ベンゼン。
他の三官能性化合物の例は、2.4−ジヒドロキシ安息
香酸、トリメシン酸、塩化シアヌル酸および3.3−ビ
ス−(3−メチル−4−ヒドロキジフェニル)−2−オ
キソ−2,3−ジヒドロインドール。
香酸、トリメシン酸、塩化シアヌル酸および3.3−ビ
ス−(3−メチル−4−ヒドロキジフェニル)−2−オ
キソ−2,3−ジヒドロインドール。
一官能性化合物は、既知の方法で典型的な濃度で連鎖停
止剤として使用して、分子量を調節することができる。
止剤として使用して、分子量を調節することができる。
適当な化合物は、例えば、第2アミン、フェノールおよ
び酸塩化物である。フェノール、例えば、七−ブチルフ
ェノール、または他の置換フェノールを使用することが
好ましい。少量の式(V) 式中、Rは枝分かれC8および/またはC,アルキル基
である、 に相当するフェノールは分子量の調節にとくに適当であ
る。アルキル基中のCH,のプロトンの百分率は好まし
くは47〜89%であり、モしてCHおよびC1(、の
プロトンは53〜11%である。
び酸塩化物である。フェノール、例えば、七−ブチルフ
ェノール、または他の置換フェノールを使用することが
好ましい。少量の式(V) 式中、Rは枝分かれC8および/またはC,アルキル基
である、 に相当するフェノールは分子量の調節にとくに適当であ
る。アルキル基中のCH,のプロトンの百分率は好まし
くは47〜89%であり、モしてCHおよびC1(、の
プロトンは53〜11%である。
さらに、Rは好ましくはOH基に対して。−および/ま
たはp−位置に存在し、モしてオルト化合物に対する上
限は、より好ましくは、20%である。
たはp−位置に存在し、モしてオルト化合物に対する上
限は、より好ましくは、20%である。
いくつかのとくに適当なフェノールは、フェノール、p
−t−ブチルフェノール、ヒドロキシジフェニル、p−
クミルフェノールおよヒ、とく、p−3,5−ジメチル
へブチルフェニルおよびm−およびp−1,1,3,3
−テトラメチルブチルフェノールである。連鎖停止剤は
、一般に、使用するフェノールに基づいて0.1−1o
モル%、好ましくは0.5〜8モル%の量で使用する。
−t−ブチルフェノール、ヒドロキシジフェニル、p−
クミルフェノールおよヒ、とく、p−3,5−ジメチル
へブチルフェニルおよびm−およびp−1,1,3,3
−テトラメチルブチルフェノールである。連鎖停止剤は
、一般に、使用するフェノールに基づいて0.1−1o
モル%、好ましくは0.5〜8モル%の量で使用する。
本発明によるポリカーボネートは、有利には既知の方法
で、相界面ポリ縮合法により調製することができる(参
照、H,5chne I I、rchemistry
and Physics ofPolycarb
onatesJ、Polymer Revies、V
ol、IX% p、33以降、Interscienc
e Publisher3.−−ニーヨーク l 9
64)。
で、相界面ポリ縮合法により調製することができる(参
照、H,5chne I I、rchemistry
and Physics ofPolycarb
onatesJ、Polymer Revies、V
ol、IX% p、33以降、Interscienc
e Publisher3.−−ニーヨーク l 9
64)。
この方法において、式(I I)に相当するジフェノー
ルを水性アルカリ性相中に溶解する。他のジフェノール
とのコポリカーボネートを調製するために、式(I I
)に相当するジフェノールおよび他のジフェノール、例
えば、式(IV)に相当するものの混合物を使用する。
ルを水性アルカリ性相中に溶解する。他のジフェノール
とのコポリカーボネートを調製するために、式(I I
)に相当するジフェノールおよび他のジフェノール、例
えば、式(IV)に相当するものの混合物を使用する。
連鎖停止剤、例えば、式(V)に相当する連鎖停止剤を
添加して、分子量を調節することができる。ホスゲンと
の反応は、相界面ポリ縮合法により、好ましくはポリカ
ーボネートを溶解する不活性有機溶媒の存在下に実施す
る。反応温度は、一般に、0〜40℃の範囲である。
添加して、分子量を調節することができる。ホスゲンと
の反応は、相界面ポリ縮合法により、好ましくはポリカ
ーボネートを溶解する不活性有機溶媒の存在下に実施す
る。反応温度は、一般に、0〜40℃の範囲である。
0.05〜2モル%の必要に応じて使用する枝分かれ剤
は、最初にジフェノールとともに水性アルカリ性相で導
入するか、あるいはホスゲン化の前に有機溶媒中に溶解
して添加することができる。
は、最初にジフェノールとともに水性アルカリ性相で導
入するか、あるいはホスゲン化の前に有機溶媒中に溶解
して添加することができる。
式(I I)のジフェノールおよび式(IV)に相当す
る他のジフェノールに加えて、また、それらの七ノーお
よび/またはビス−クロロ炭酸エステルを使用すること
ができ、これらは有機溶媒中に溶解して添加する。次い
で、連鎖停止剤および枝分かれ剤の量は式(I I)に
相当するジフェノ−ルの構造単位および、必要に応じて
、他のジフェノ−ルの構造単位、例えば、式(IV)に
相当するもののモル数により決定される。同様に、クロ
ロ炭酸エステルを使用する場合、ホスゲンの量はそれに
応じて既知の方法で減少することができる。
る他のジフェノールに加えて、また、それらの七ノーお
よび/またはビス−クロロ炭酸エステルを使用すること
ができ、これらは有機溶媒中に溶解して添加する。次い
で、連鎖停止剤および枝分かれ剤の量は式(I I)に
相当するジフェノ−ルの構造単位および、必要に応じて
、他のジフェノ−ルの構造単位、例えば、式(IV)に
相当するもののモル数により決定される。同様に、クロ
ロ炭酸エステルを使用する場合、ホスゲンの量はそれに
応じて既知の方法で減少することができる。
塩素化炭化水素、例えば、クロロホルム、ジクロロエタ
ン、ジーおよびテトラクロロエチレン、テトラクロロエ
タン、塩化メチレン、クロロベンゼンおよびジクロロベ
ンゼン、およびまた非塩素化炭化水素、例えば、トルエ
ンおよびキシレン、およびこれらの溶媒の混合物、とく
に塩化メチレンおよびクロロベンゼンの混合物を、相界
面ポリ縮合法のための有機溶媒として、および連鎖停止
剤および、必要に応じて、枝分かれ剤およびクロロ炭酸
エステルのための有機溶媒として使用することができる
。使用する連鎖停止剤および枝分かれ剤は、必要に応じ
て、同一溶媒中に溶解することができる。
ン、ジーおよびテトラクロロエチレン、テトラクロロエ
タン、塩化メチレン、クロロベンゼンおよびジクロロベ
ンゼン、およびまた非塩素化炭化水素、例えば、トルエ
ンおよびキシレン、およびこれらの溶媒の混合物、とく
に塩化メチレンおよびクロロベンゼンの混合物を、相界
面ポリ縮合法のための有機溶媒として、および連鎖停止
剤および、必要に応じて、枝分かれ剤およびクロロ炭酸
エステルのための有機溶媒として使用することができる
。使用する連鎖停止剤および枝分かれ剤は、必要に応じ
て、同一溶媒中に溶解することができる。
相界面ポリ縮合法において使用する有機溶媒は、例えば
−1塩化メチレン、クロロベンゼンまたはトルエンおよ
びまた塩化メチレンおよびクロロベンゼンの混合物であ
るすることができる。
−1塩化メチレン、クロロベンゼンまたはトルエンおよ
びまた塩化メチレンおよびクロロベンゼンの混合物であ
るすることができる。
水性NaOHまたはKOHの溶液を、例えば、水性アル
カリ性相として使用する。
カリ性相として使用する。
相界面ポリ縮合法による本発明によるポリカーボネート
の製造は、既知の方法において、触媒、例えば、第三ア
ミンおよび転相触媒、とくに第三脂肪族アミン、例えば
、トリブチルアミン、トリエチルアミン、N−エチルピ
ペリジンおよび、とくに、第四アンモニウムおよびホス
ホニウム化合物およびクラウン化合物、例えば、テトラ
ブチルアンモニウムプロミドおよびトリフェニルベンジ
ルホスホニウムプロミドにより触媒することができる。
の製造は、既知の方法において、触媒、例えば、第三ア
ミンおよび転相触媒、とくに第三脂肪族アミン、例えば
、トリブチルアミン、トリエチルアミン、N−エチルピ
ペリジンおよび、とくに、第四アンモニウムおよびホス
ホニウム化合物およびクラウン化合物、例えば、テトラ
ブチルアンモニウムプロミドおよびトリフェニルベンジ
ルホスホニウムプロミドにより触媒することができる。
触媒は、一般に、使用するジフェノールのモル数に基づ
いて0.05〜30モル%の量で使用する。触媒は、一
般に、ホスゲン化の開始の前またはその間または後に添
加する。
いて0.05〜30モル%の量で使用する。触媒は、一
般に、ホスゲン化の開始の前またはその間または後に添
加する。
本発明によるポリカーボネートは、既知の方法において
、例えば、相界面ポリ縮合法において得られた溶解した
ポリカーボネートを含有する有機相を分離し、中性にな
るまで洗浄して電解質を除去し、次いでポリカーボネー
トを粒体の形態で、例えば、蒸発押出機で、あるいは粉
末またはペレットの形態で、非溶媒を使用する沈澱によ
り、引き統いて乾燥または噴霧蒸発により単離すること
によって単離する。
、例えば、相界面ポリ縮合法において得られた溶解した
ポリカーボネートを含有する有機相を分離し、中性にな
るまで洗浄して電解質を除去し、次いでポリカーボネー
トを粒体の形態で、例えば、蒸発押出機で、あるいは粉
末またはペレットの形態で、非溶媒を使用する沈澱によ
り、引き統いて乾燥または噴霧蒸発により単離すること
によって単離する。
本発明による高分子量の熱可塑性芳香族ポリカーボネー
トは、また、既知均質相法、いわゆる「ピリジン法」に
より、および既知エステル交換法により、例えば、ホス
ゲンの代わりにジフェニルカーボネートを使用して調製
することができる。これらの場合において、また、本発
明によるポリカーボネートは既知の方法で単離される。
トは、また、既知均質相法、いわゆる「ピリジン法」に
より、および既知エステル交換法により、例えば、ホス
ゲンの代わりにジフェニルカーボネートを使用して調製
することができる。これらの場合において、また、本発
明によるポリカーボネートは既知の方法で単離される。
熱可塑性ポリカーボネートのために通常使用する添加剤
、例えば、安定剤、離型剤、顔料、防炎剤、静電防止剤
、伝導増加剤、充填剤および強化用材料を本発明による
ポリカーボネートに、通常の量で、それらの加工の前ま
たは後で添加することができる。
、例えば、安定剤、離型剤、顔料、防炎剤、静電防止剤
、伝導増加剤、充填剤および強化用材料を本発明による
ポリカーボネートに、通常の量で、それらの加工の前ま
たは後で添加することができる。
防炎性添加剤として、次のものを使用することができる
: 11脂肪族および芳香族のスルホン酸、カルボン酸およ
びホスホン酸のアルカリ、アルカリ土類およびアンモニ
ウムの塩類。これらは異なる方法で、例えば、F、01
% Br%アルキルにより置換することができる。この
種類の塩のタイプの防炎剤は、また、オリゴマーまたは
ポリマーであることができる。塩のタイプの、防炎性添
加剤は、なかでも、次のドイツ国特許公開明細書(DE
−OS)記載されている: 1.694,640、l。
: 11脂肪族および芳香族のスルホン酸、カルボン酸およ
びホスホン酸のアルカリ、アルカリ土類およびアンモニ
ウムの塩類。これらは異なる方法で、例えば、F、01
% Br%アルキルにより置換することができる。この
種類の塩のタイプの防炎剤は、また、オリゴマーまたは
ポリマーであることができる。塩のタイプの、防炎性添
加剤は、なかでも、次のドイツ国特許公開明細書(DE
−OS)記載されている: 1.694,640、l。
930.257.2,049,358.2,212.9
87.2,149,311.2,253゜072.2,
703,710.2,458.527.2,458,9
68.2,460,786.2.460,787.2,
480,788.2゜460.935.2,460,9
44.2460゜945.246,946.2,461
,077、2.461,144.246に、145.2
.461.146.2,644,114.2,645゜
415.2,646. 120.2,547.271.
2,648. 128.2,648. 131゜2.6
53,327.2,744,015.2゜744、 0
16、2. 744. 016、2.744.017.
2,744,018.2,745゜592.2,948
,871.2,948.439、および3,002,1
22゜ 2、必要に応じて相乗剤、例えば、ハロゲン化芳香族化
合物と組み合わせた有機ハロゲン化合物。
87.2,149,311.2,253゜072.2,
703,710.2,458.527.2,458,9
68.2,460,786.2.460,787.2,
480,788.2゜460.935.2,460,9
44.2460゜945.246,946.2,461
,077、2.461,144.246に、145.2
.461.146.2,644,114.2,645゜
415.2,646. 120.2,547.271.
2,648. 128.2,648. 131゜2.6
53,327.2,744,015.2゜744、 0
16、2. 744. 016、2.744.017.
2,744,018.2,745゜592.2,948
,871.2,948.439、および3,002,1
22゜ 2、必要に応じて相乗剤、例えば、ハロゲン化芳香族化
合物と組み合わせた有機ハロゲン化合物。
このような防炎剤は、なかでも、次の特許出願に記載さ
れている:ドイツ国特許公開明細書(DH−O5)2,
631.756号、日本特許用[51−119,059
号、ドイツ国特許公開明細書(DE−O5)3,342
,636号、欧州特許出願第31,959号、ドイツ国
特許公開明細書(DE−O3)3,010.375号、
ドイツ国特許公開明m書(DE−O3) 2.631
、756号。
れている:ドイツ国特許公開明細書(DH−O5)2,
631.756号、日本特許用[51−119,059
号、ドイツ国特許公開明細書(DE−O5)3,342
,636号、欧州特許出願第31,959号、ドイツ国
特許公開明細書(DE−O3)3,010.375号、
ドイツ国特許公開明m書(DE−O3) 2.631
、756号。
3、ハロゲン化7タルイミドまたは7タルイミト
ドスルホネート二次のドイツ国特許公開明細書(DE−
O5)に記載されティる=2,703,710.3,2
03,905.3,322,057.3.337,85
7、および3.023,818゜4、ハロゲン化錯化(
cmplexd)酸の塩、例えば、クリオライト、テト
ラフルオロホウ酸およびフルオロサリチル酸の塩、なか
でも、次のドイツ国特許公開明細書(DE−O3)に記
載され百テ゛合:Ss、262.2,915,563.
2゜948.439、および3,023,818゜6、
スルホンアミド、ジスルホンアミドおよびそれら塩:欧
州特許出願第71.125号、14゜322号、WO3
6/4911゜ 7、元素状のイオウまたは赤リン:ドイツ国特許公開明
細書(DE−O5)2,345.508号、2,355
,211号。
O5)に記載されティる=2,703,710.3,2
03,905.3,322,057.3.337,85
7、および3.023,818゜4、ハロゲン化錯化(
cmplexd)酸の塩、例えば、クリオライト、テト
ラフルオロホウ酸およびフルオロサリチル酸の塩、なか
でも、次のドイツ国特許公開明細書(DE−O3)に記
載され百テ゛合:Ss、262.2,915,563.
2゜948.439、および3,023,818゜6、
スルホンアミド、ジスルホンアミドおよびそれら塩:欧
州特許出願第71.125号、14゜322号、WO3
6/4911゜ 7、元素状のイオウまたは赤リン:ドイツ国特許公開明
細書(DE−O5)2,345.508号、2,355
,211号。
8、フェロセン(ferocene)およびその誘導体
:ドイツ国特許公開明細書(DE−O3)2.644.
437号。
:ドイツ国特許公開明細書(DE−O3)2.644.
437号。
9、ジフェニルスルホン:ドイツ国特許公開明細書(D
E−O3)2,129.204号。
E−O3)2,129.204号。
10、ニッケル塩:ドイツ国特許公開明細書(DH−O
S)1,918,216号。
S)1,918,216号。
l11ポリフエニレンサルフアイド:ドイツ国特許公開
明細書(DE−O5)2,503.336号、欧州特許
出願第87.038号。
明細書(DE−O5)2,503.336号、欧州特許
出願第87.038号。
12、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、硫化水素、ホウ酸の
アルカリおよびアルカリ土類ならびに亜鉛の塩類ならび
にこれらの酸の酢酸塩類:WO371542、米国特許
第4.408.005号、欧州特許出願第174.86
4号。
アルカリおよびアルカリ土類ならびに亜鉛の塩類ならび
にこれらの酸の酢酸塩類:WO371542、米国特許
第4.408.005号、欧州特許出願第174.86
4号。
13、シロキサン:ドイツ国特許公開明細書(DH−O
3)2,535.261号。
3)2,535.261号。
防炎に有用なコモノマーは、次のとおりである11塩素
化および臭素化ビスフェノールAおよび4,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルサル7アイド:欧州特許出願第31
.958号、61,060号。
化および臭素化ビスフェノールAおよび4,4′−ジヒ
ドロキシジフェニルサル7アイド:欧州特許出願第31
.958号、61,060号。
2、シロキサンブロック:ドイツ国特許公開明細書(D
E−O5)3,334,782号。
E−O5)3,334,782号。
3、ジヒドロキシフェニルスルホン:米国特許第3.9
12,688号。
12,688号。
4、スルホアニリド末端基:欧州特許出願第82.48
3号。
3号。
防炎法は個々にあるいは組み合わせて適用することがで
きる。
きる。
防炎性添加剤は、式(I)のジフェノールを重合した形
態で含有するポリカーボネート中に、好ましくは押出機
または混練機内で個々にまたは組み合わせて混入する。
態で含有するポリカーボネート中に、好ましくは押出機
または混練機内で個々にまたは組み合わせて混入する。
多くの場合において、防炎性添加剤はポリカーボネート
に、製造の間に添加するか、あるいは出発物質にさえ添
加することができる。また、防炎性添加剤は、ポリカー
ボネートの溶液に添加し、次いで溶媒を除去することが
できる。防炎性添加剤の量は、好ましくは0.001〜
50重量%であり、七ツマ−の場合において好ましくは
0.1〜50モル%である。
に、製造の間に添加するか、あるいは出発物質にさえ添
加することができる。また、防炎性添加剤は、ポリカー
ボネートの溶液に添加し、次いで溶媒を除去することが
できる。防炎性添加剤の量は、好ましくは0.001〜
50重量%であり、七ツマ−の場合において好ましくは
0.1〜50モル%である。
さらに詳しくは、例えば、グラフ丁イト、カーボンブラ
ック、鉱物繊維、金属粉末、シリカ、石英、タルク、雲
母、粘土、CaF2、Ca COs、酸化アルミニウム
、ガラス繊維、炭素繊維、セラミック繊維、有機顔料お
よび無機顔料を添加することができ、モして離型剤とし
て、例えば、グリセリルステアレート、ペンタエリスラ
イドテトラステアレートおよびトリメチロ・−ルブロパ
ントリステアレートを添加することができる。
ック、鉱物繊維、金属粉末、シリカ、石英、タルク、雲
母、粘土、CaF2、Ca COs、酸化アルミニウム
、ガラス繊維、炭素繊維、セラミック繊維、有機顔料お
よび無機顔料を添加することができ、モして離型剤とし
て、例えば、グリセリルステアレート、ペンタエリスラ
イドテトラステアレートおよびトリメチロ・−ルブロパ
ントリステアレートを添加することができる。
本発明によるポリカーボネートは、熱可塑性物質の造形
の既知の方法に従い加工して造形品を製造することがで
きる。これは、例えば、回収したポリカーボネートを粒
体に押出し、そして必要に応じて上の添加剤を添加した
後、射出成形、押出、吹込成形、回転、流延またはホッ
トプレスによる製作により実施することができる。この
ようにして製作された造形物品は、繊維、板およびシー
トを包含する。また、フィルムを製造し、そして他のフ
ィルムと組み合わせることができる。本発明のポリカー
ボネートは、また、組み合わせ材料、例えば、繊維およ
び他のポリマーと組み合わせて使用することができる。
の既知の方法に従い加工して造形品を製造することがで
きる。これは、例えば、回収したポリカーボネートを粒
体に押出し、そして必要に応じて上の添加剤を添加した
後、射出成形、押出、吹込成形、回転、流延またはホッ
トプレスによる製作により実施することができる。この
ようにして製作された造形物品は、繊維、板およびシー
トを包含する。また、フィルムを製造し、そして他のフ
ィルムと組み合わせることができる。本発明のポリカー
ボネートは、また、組み合わせ材料、例えば、繊維およ
び他のポリマーと組み合わせて使用することができる。
本発明によるポリカーボネートの造形物品は、力a熱下
に寸法安定性が要求される複雑な部品を製造すべきとき
、例えば、電気アプライアンスまたは構成においてとく
に有利に使用することができる。
に寸法安定性が要求される複雑な部品を製造すべきとき
、例えば、電気アプライアンスまたは構成においてとく
に有利に使用することができる。
実施例1
1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−(I
,1,3,3−テトラメチルブチル)−シクロヘキサン
のポリカーボネート 380g(Iモル)の1.1−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)−4−(I,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)−シクロヘキサンを3Qの水中に溶解した。6.8
g (0,033モル)の4− (I,1,3,3−テ
トラメチルブチル)−フェノールを溶解して含有する3
Qの塩化メチレンを、生ずる溶液に添加した。次いで、
148.5g (I−5モル)のホスゲンを混合物中に
30分かけて、強く撹拌しながら25℃において導入し
I;。1.13g (0,01モル)のN−エチルピペ
リジンの添加後、この混合物を25℃において60分間
激しく撹拌した。ビスフェノール不含水性相を分離した
。希リン酸で酸性にした後、を機相を電解質を含有しな
くなるまで水で洗浄し、そして蒸発により濃縮した。次
いで、得られたポリカーボネートから塩化メチレンを乾
燥により除去した。それは無色であり、そして相対粘度
?+*l 1.323(塩化メチレンの溶液について測
定した、c=5g/Q、25℃)を示した。
,1,3,3−テトラメチルブチル)−シクロヘキサン
のポリカーボネート 380g(Iモル)の1.1−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)−4−(I,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)−シクロヘキサンを3Qの水中に溶解した。6.8
g (0,033モル)の4− (I,1,3,3−テ
トラメチルブチル)−フェノールを溶解して含有する3
Qの塩化メチレンを、生ずる溶液に添加した。次いで、
148.5g (I−5モル)のホスゲンを混合物中に
30分かけて、強く撹拌しながら25℃において導入し
I;。1.13g (0,01モル)のN−エチルピペ
リジンの添加後、この混合物を25℃において60分間
激しく撹拌した。ビスフェノール不含水性相を分離した
。希リン酸で酸性にした後、を機相を電解質を含有しな
くなるまで水で洗浄し、そして蒸発により濃縮した。次
いで、得られたポリカーボネートから塩化メチレンを乾
燥により除去した。それは無色であり、そして相対粘度
?+*l 1.323(塩化メチレンの溶液について測
定した、c=5g/Q、25℃)を示した。
実施例2
1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−フェ
ニル−シクロヘキサンのポリカーボネート実施例1の手
順を反復するが、344g(Iモル)の1.1−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−4−フェニルシクロヘキ
サンヲ前記ヒスフェノールの代わりに使用した。得られ
たポリカーボネートは相対粘度マ1.4.323 (塩
化メチレンの溶液について測定した、c=5g/Q、2
5℃)を有した。ガラス転移温度Tg(示差熱分析によ
る)は210°Cであった。
ニル−シクロヘキサンのポリカーボネート実施例1の手
順を反復するが、344g(Iモル)の1.1−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−4−フェニルシクロヘキ
サンヲ前記ヒスフェノールの代わりに使用した。得られ
たポリカーボネートは相対粘度マ1.4.323 (塩
化メチレンの溶液について測定した、c=5g/Q、2
5℃)を有した。ガラス転移温度Tg(示差熱分析によ
る)は210°Cであった。
実施例3
モル比l:1のビスフェノール八および1.l−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−4−フェニルシクロヘキ
サンのコポリマー 実施例Iの手順を反復するが、使用する半分のビスフェ
ノールを114g(0,5モル)の2゜2−ビス−(4
−ヒドロキシフェニル)−プロパン(ビスフェノールA
)を代わりに使用した。
(4−ヒドロキシフェニル)−4−フェニルシクロヘキ
サンのコポリマー 実施例Iの手順を反復するが、使用する半分のビスフェ
ノールを114g(0,5モル)の2゜2−ビス−(4
−ヒドロキシフェニル)−プロパン(ビスフェノールA
)を代わりに使用した。
得られたポリカーボネートは相対粘度frcl 1 。
301(塩化メチレンの溶液について測定した、c−5
gz1125℃)を有した。ガラス転移温度Tg(示差
熱分析による)は186°Cであった。
gz1125℃)を有した。ガラス転移温度Tg(示差
熱分析による)は186°Cであった。
実施例4
1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−3−フェ
ニル−シクロヘキサンのポリカーボネート実施例1の手
順を反復するが、344g(Iモル)の1. 1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルシクロヘ
キサンを前記ビスフェノールの代わりに使用した。得ら
れたポリカーボネートは相対粘度マ、、、1.295(
塩化メチレンの溶液ニツイテ測定シタ、c−5g/41
25°C)を有した。ガラス転移温度Tg(示差熱分析
による)は231”C:であった。
ニル−シクロヘキサンのポリカーボネート実施例1の手
順を反復するが、344g(Iモル)の1. 1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルシクロヘ
キサンを前記ビスフェノールの代わりに使用した。得ら
れたポリカーボネートは相対粘度マ、、、1.295(
塩化メチレンの溶液ニツイテ測定シタ、c−5g/41
25°C)を有した。ガラス転移温度Tg(示差熱分析
による)は231”C:であった。
実施例5
1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−クミ
ルジ−クロヘキサンのポリカーボネート実施例1の手順
を反復するが、386g (Iモル)の1.t−t’ス
ス−4−ヒドロキシフェニル)−4−クミルシクロヘキ
サンを前記ビスフェノールの代わりに使用した。得られ
たポリカーボネートは相対粘度?z+1.307(塩化
メチレンの溶液について測定した、c = 5 g/(
I,25°C)を有した。
ルジ−クロヘキサンのポリカーボネート実施例1の手順
を反復するが、386g (Iモル)の1.t−t’ス
ス−4−ヒドロキシフェニル)−4−クミルシクロヘキ
サンを前記ビスフェノールの代わりに使用した。得られ
たポリカーボネートは相対粘度?z+1.307(塩化
メチレンの溶液について測定した、c = 5 g/(
I,25°C)を有した。
実施例6
1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−シク
ロヘキシル−シクロヘキサンのポリカーボネート 実施例1の手順を反復するが、350g (Iモル)の
1.l−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−クミ
ルシクロヘキサンを前記ビスフェノールの代わりに使用
した。得られたポリカーボネートは相対粘度+、−+
1.289 (塩化メチレンの溶液について測定した、
c=5g/Q、25°C)を有した。
ロヘキシル−シクロヘキサンのポリカーボネート 実施例1の手順を反復するが、350g (Iモル)の
1.l−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−4−クミ
ルシクロヘキサンを前記ビスフェノールの代わりに使用
した。得られたポリカーボネートは相対粘度+、−+
1.289 (塩化メチレンの溶液について測定した、
c=5g/Q、25°C)を有した。
実施例7
実施例2を反復したが、ジフェノールの10モル%を3
,3°、515°−テトラブロモビスフェノールAで置
換した。生ずるポリカーボネートは豐、、、1.302
を有した。
,3°、515°−テトラブロモビスフェノールAで置
換した。生ずるポリカーボネートは豐、、、1.302
を有した。
実施例8〜38
防炎剤を含有するポリカーボネートの燃焼試験の結果を
表1に要約する。防炎剤を二軸スクリュー押出機ZSK
32 (Werner & Pf 1eidere
Co、)で加工しt;。
表1に要約する。防炎剤を二軸スクリュー押出機ZSK
32 (Werner & Pf 1eidere
Co、)で加工しt;。
燃焼の挙動は、ASTM−D 2863−70に従い
02指数により決定した。これらの試験のためい、80
X6X3mmの試験片を射出成形により作った。
02指数により決定した。これらの試験のためい、80
X6X3mmの試験片を射出成形により作った。
aH3
1’Ja3Bio?
ポリジメチルシロキサン、粘度
170.000mPa、s
ボリデトブフルオロエナレ
一231=
0.2
27.1
0.2
28.8
29.5
本発明の主な特徴および態様は、次の通りである。
11少なくとも10.000の平均分子量Mwを有する
熱可塑性芳香族ポリカーボネートであって、式(I) に相当する二官能性カーボネート構造単位を、前記ポリ
カーボネート中の二官能性カーボネート構造単位の合計
量に基づいて100〜1モル%の量で、含有することを
特徴とする、熱可塑性芳香族ポリカーボネート。
熱可塑性芳香族ポリカーボネートであって、式(I) に相当する二官能性カーボネート構造単位を、前記ポリ
カーボネート中の二官能性カーボネート構造単位の合計
量に基づいて100〜1モル%の量で、含有することを
特徴とする、熱可塑性芳香族ポリカーボネート。
2、防炎性添加剤またはコモノマーを含有する、上記第
1項記載の熱可塑性芳香族ポリカーボネート。
1項記載の熱可塑性芳香族ポリカーボネート。
(I)
式中、
Ht、Rz、R3およびR4は、互いに独立に、水素、
C、+ C、!炭化水素基またはハロゲンであり、 mは2または3であり、そして Xは水素またC Il−CI!炭化水素基であり、少な
くとも1つの置換基XはC、−C、□炭化水素基である
、
C、+ C、!炭化水素基またはハロゲンであり、 mは2または3であり、そして Xは水素またC Il−CI!炭化水素基であり、少な
くとも1つの置換基XはC、−C、□炭化水素基である
、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 少なくとも10,000の平均分子量@M@wを有する
熱可塑性芳香族ポリカーボネートであって、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 R^1、R^2、R^3およびR^4は、互いに独立に
、水素、C_1−C_1_2炭化水素基またはハロゲン
であり、 mは2または3であり、そして Xは水素またC_6−C_1_2炭化水素基であり、少
なくとも1つの置換基XはC_6−C_1_2炭化水素
基である、 に相当する二官能性カーボネート構造単位を、前記ポリ
カーボネート中の二官能性カーボネート構造単位の合計
量に基づいて100〜1モル%の量で含有することを特
徴とする、熱可塑性芳香族ポリカーボネート。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3842944 | 1988-12-21 | ||
| DE3842944.6 | 1989-08-12 | ||
| DE3926766.0 | 1989-08-12 | ||
| DE3926766A DE3926766A1 (de) | 1988-12-21 | 1989-08-12 | Polycarbonate aus cycloalkylidenbisphenolen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02242819A true JPH02242819A (ja) | 1990-09-27 |
| JP2858462B2 JP2858462B2 (ja) | 1999-02-17 |
Family
ID=25875388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1332474A Expired - Fee Related JP2858462B2 (ja) | 1988-12-21 | 1989-12-21 | シクロアルキリデンビスフエノールのポリカーボネート |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5010163A (ja) |
| EP (1) | EP0374630A3 (ja) |
| JP (1) | JP2858462B2 (ja) |
| KR (1) | KR0158872B1 (ja) |
| DE (1) | DE3926766A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4232897C2 (de) * | 1992-09-30 | 2002-10-31 | Bayer Ag | Flammwidrige thermoplastische Polycarbonat-Formmassen und Verfahren zu ihrer Herstellung |
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