JPH02242864A - 耐uv性、耐磨耗性被覆 - Google Patents
耐uv性、耐磨耗性被覆Info
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-
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/32—Radiation-absorbing paints
-
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- C08J7/04—Coating
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(1)発明の分野
この発明は一般的にポリカーボネートのようなプラスチ
ックに対する保護被覆、より詳しくは紫外線へのlII
露にはよって生じる被害から下層の基板を保護する被覆
に関する。
ックに対する保護被覆、より詳しくは紫外線へのlII
露にはよって生じる被害から下層の基板を保護する被覆
に関する。
(2)発明の背慎
バネ−(Baney )らに対する米国特許用4.27
5.118はポリカーボネートのようなプラスチック表
面上で硬化したとき硬い耐磨耗性の被覆を生じるアルコ
ール−水媒体中のコロイド酸化チタン、コロイドシリカ
及びヒドロキシル化シルセスキオキサンの酸性分散物を
含む被覆組成物を開示している。
5.118はポリカーボネートのようなプラスチック表
面上で硬化したとき硬い耐磨耗性の被覆を生じるアルコ
ール−水媒体中のコロイド酸化チタン、コロイドシリカ
及びヒドロキシル化シルセスキオキサンの酸性分散物を
含む被覆組成物を開示している。
フライエ(Frye)に対する米国特許用4.299.
746は水性コロイドシリカ分散物中のアルキルトリア
ルコキシシランを加水分解し、その加水分解生成物に少
量の2.4−ジヒドロキシベンゾフェノンのような紫外
線吸収化合物を加えることによって調製される改善され
たシリコーン樹脂耐磨耗性被覆組成物を開示している。
746は水性コロイドシリカ分散物中のアルキルトリア
ルコキシシランを加水分解し、その加水分解生成物に少
量の2.4−ジヒドロキシベンゾフェノンのような紫外
線吸収化合物を加えることによって調製される改善され
たシリコーン樹脂耐磨耗性被覆組成物を開示している。
ホワイト(−旧te )らに対する米国特許用4゜39
0.373及び第4.44.2,168はR(S +
(OH)3)の部分縮合物(ここにRは有機ラジカル)
の重量比で約30ニア0未満又は同等の水−アルコール
溶液中にコロイドアンチモン酸化物及びコロイドシリカ
を含有する、有効はの耐磨耗性コロイド分散物を含む、
硬化、透明、耐磨耗性被覆組成物を開示している。
0.373及び第4.44.2,168はR(S +
(OH)3)の部分縮合物(ここにRは有機ラジカル)
の重量比で約30ニア0未満又は同等の水−アルコール
溶液中にコロイドアンチモン酸化物及びコロイドシリカ
を含有する、有効はの耐磨耗性コロイド分散物を含む、
硬化、透明、耐磨耗性被覆組成物を開示している。
チン(ching )に対する米国特許用4.395゜
461は、最初にポリカーボネート基板の表面を加水分
解されたシリル化有機UVスクリーンの溶液で処理し、
ついでその処理面上に硬化可能なシリコーンハードコー
ト組成物を通用することによるポリカーボネート基板の
耐候性改善方法を開示している。
461は、最初にポリカーボネート基板の表面を加水分
解されたシリル化有機UVスクリーンの溶液で処理し、
ついでその処理面上に硬化可能なシリコーンハードコー
ト組成物を通用することによるポリカーボネート基板の
耐候性改善方法を開示している。
フジ才力らに対する米国特許用4,405,679は、
成形されたポリカーボネート基板と、その基板上に浦さ
れ硬化されたアンダーコート及び、アンダーコート上に
施され便化されたオーバコートを含む、改善された耐磨
耗性のポリカーボネート型樹脂の、被覆された成形物品
を開示している。
成形されたポリカーボネート基板と、その基板上に浦さ
れ硬化されたアンダーコート及び、アンダーコート上に
施され便化されたオーバコートを含む、改善された耐磨
耗性のポリカーボネート型樹脂の、被覆された成形物品
を開示している。
ぞのオーバコートは有機ケイ素化合物の氷解物のグルー
プの少くともひとつのメンバーであるエポキシ含有ケイ
素化合物と、コロイドシリカと有機ヂタン酸、及び硬化
触媒を含む。
プの少くともひとつのメンバーであるエポキシ含有ケイ
素化合物と、コロイドシリカと有機ヂタン酸、及び硬化
触媒を含む。
ドイン(Dotn)らに対する米国特許用4.477.
499はルイス酸化合物を被覆組成物に加えることによ
って達成された改善された熟成形性と短縮された所要エ
ージングとをもつ耐紫外線シリコーン樹脂被覆を開示し
ている。
499はルイス酸化合物を被覆組成物に加えることによ
って達成された改善された熟成形性と短縮された所要エ
ージングとをもつ耐紫外線シリコーン樹脂被覆を開示し
ている。
アシュロツク(Ashlock )らに対する米国特許
用4.500,669及び第4.571,365は、金
属、合金、塩、それらの酸化物及び水酸化物を含む水に
不溶の分散質を、シラノールの部分縮合物の水−アルコ
ール溶液中に分散したコロイド分散物を含む透明、耐磨
耗性被覆組成物を開示している。
用4.500,669及び第4.571,365は、金
属、合金、塩、それらの酸化物及び水酸化物を含む水に
不溶の分散質を、シラノールの部分縮合物の水−アルコ
ール溶液中に分散したコロイド分散物を含む透明、耐磨
耗性被覆組成物を開示している。
ムーア(HOOre )に対する米国特許用4,552
.936は、耐磨耗性と耐溶剤性と耐候性をもつ熱成形
性物品をつくるために熱可塑性基板に適用されるポリカ
プロラクトンポリオールとアミノプラスト誘導体を含む
保護被覆組成物を開示している。
.936は、耐磨耗性と耐溶剤性と耐候性をもつ熱成形
性物品をつくるために熱可塑性基板に適用されるポリカ
プロラクトンポリオールとアミノプラスト誘導体を含む
保護被覆組成物を開示している。
グーセン(Goosens )に対する米国特許用4゜
615.947は、磨耗の接着を増すオルガノポリシロ
キサンをもつ熱可塑性又は熱硬化性アクリル均質混合物
を含むブライマー層と、熱可塑性基板に対する耐溶剤性
オルガノポリシロキサンハードコートを記載している。
615.947は、磨耗の接着を増すオルガノポリシロ
キサンをもつ熱可塑性又は熱硬化性アクリル均質混合物
を含むブライマー層と、熱可塑性基板に対する耐溶剤性
オルガノポリシロキサンハードコートを記載している。
カリ−(curry )らに対する米国特許用4,68
3.169は、微細亀裂に対する改善された抵抗性をも
つポリカーボネートフィルム用のメチルメタクリレート
UV保護被覆を開示している。
3.169は、微細亀裂に対する改善された抵抗性をも
つポリカーボネートフィルム用のメチルメタクリレート
UV保護被覆を開示している。
ダウコーニング社のバネ−Baney )らによる“ゾ
ル−ゲルプロセスにより調製される炭素含有モノリスガ
ラス”と題する86.02.05公開の欧州特許出願第
851102939は、式R8i (OH)3をもつシ
ラノールの部分縮合物の水−アルコール溶液中のコロイ
ド金属酸化物の分散物を含む中間体を開示している。こ
こに金属酸化物はzro 、sno 、zrsio
4゜B203又はLa2O3である。
ル−ゲルプロセスにより調製される炭素含有モノリスガ
ラス”と題する86.02.05公開の欧州特許出願第
851102939は、式R8i (OH)3をもつシ
ラノールの部分縮合物の水−アルコール溶液中のコロイ
ド金属酸化物の分散物を含む中間体を開示している。こ
こに金属酸化物はzro 、sno 、zrsio
4゜B203又はLa2O3である。
光学品質の耐磨耗性被覆プラスチック材料は通常基板を
紫外線(UV)の被害から保護する被覆を要求する。加
水分解劣化はUvへの1Ili!により明らかに加速さ
れるので、ポリカーボネートに対しては紫外線からの保
護は特に重要である。最も代表的な有機U■吸収剤は、
溶解度が少いために水/アルコールベースのゾル−ゲル
型耐磨耗性被覆組成物に十分な優を加えることが不可能
であり、更に硬度と被覆の接着力に逆の影響を与えない
で加えることはできないので、通常のU■安定剤は耐磨
耗性被覆に十分な保護性能を付与しない。更に代表的な
U■吸収剤は通常長期の曝露後に次第に活性を失い、又
次第に組成物から浸出することもある。
紫外線(UV)の被害から保護する被覆を要求する。加
水分解劣化はUvへの1Ili!により明らかに加速さ
れるので、ポリカーボネートに対しては紫外線からの保
護は特に重要である。最も代表的な有機U■吸収剤は、
溶解度が少いために水/アルコールベースのゾル−ゲル
型耐磨耗性被覆組成物に十分な優を加えることが不可能
であり、更に硬度と被覆の接着力に逆の影響を与えない
で加えることはできないので、通常のU■安定剤は耐磨
耗性被覆に十分な保護性能を付与しない。更に代表的な
U■吸収剤は通常長期の曝露後に次第に活性を失い、又
次第に組成物から浸出することもある。
(3) 発明の要約
この発明はポリカーボネートのような下層プラスチック
基板に対する紫外線からの被害の保護を提供するもので
、その方法は末端ヒドロキシルグループをもつ親水性モ
イエティーを含む紫外線吸収有機化合物を含む透明被覆
であり、その化合物はケイ素及び/又はその他の金属の
アルコキシドが部分的に加水分解されたゾル中のシラノ
ールグループと反応可能で、それらは加水分解及び縮重
合によってプラスチック基板表面に耐磨耗性を与えるフ
ィルムを形成する。この発明の親水性に改善されたヒド
ロキシベンゾトリアゾール及びヒドロキシベンゾフェノ
ンの誘導体はアルコール性/水性ゾル−ゲル組成物及び
プロセスに適合し、無機酸化物被覆の耐磨耗性を損!す
ることなしにUV保護を提供する。この発明は又ポリカ
ーボネートのような下層のプラスチック基板に対する紫
外線による被害からの保護を提供するもので、その方法
は、(メタ)アクリル共重合体の高分子混合物における
ヒドロキシベンゾフェノン及びヒドロキシベンゾトリア
ゾールのような無色、高効率UV吸収剤である紫外線吸
収有機化合物と、基板に対する被覆の接着を高める積極
的な溶剤とを含む組成物の被覆である。
基板に対する紫外線からの被害の保護を提供するもので
、その方法は末端ヒドロキシルグループをもつ親水性モ
イエティーを含む紫外線吸収有機化合物を含む透明被覆
であり、その化合物はケイ素及び/又はその他の金属の
アルコキシドが部分的に加水分解されたゾル中のシラノ
ールグループと反応可能で、それらは加水分解及び縮重
合によってプラスチック基板表面に耐磨耗性を与えるフ
ィルムを形成する。この発明の親水性に改善されたヒド
ロキシベンゾトリアゾール及びヒドロキシベンゾフェノ
ンの誘導体はアルコール性/水性ゾル−ゲル組成物及び
プロセスに適合し、無機酸化物被覆の耐磨耗性を損!す
ることなしにUV保護を提供する。この発明は又ポリカ
ーボネートのような下層のプラスチック基板に対する紫
外線による被害からの保護を提供するもので、その方法
は、(メタ)アクリル共重合体の高分子混合物における
ヒドロキシベンゾフェノン及びヒドロキシベンゾトリア
ゾールのような無色、高効率UV吸収剤である紫外線吸
収有機化合物と、基板に対する被覆の接着を高める積極
的な溶剤とを含む組成物の被覆である。
(4) 好ましい実施態様の説明
ポリカーボネートのようなプラスチック基板を紫外線に
よってひき起こされる被害から保護する被覆はアルコキ
シシラン及びその他の金属アルコキシドのような網目形
成金属アルコキシドを含むゾルから形成される。アルコ
キシシランはアルキルアルコキシシラン又はその他の有
機官能性アルコキシシランのような有機アルコキシシラ
ンである。アルコキシドはアルキル又はアリールグルー
プを含み加水分解可能なアルコキシドグループの残りに
関する限り2ffi体又は高次縮合の形であるかもしれ
ない。シラノールグループと反応可能のヒドロキシグル
ープを含む紫外線吸収有機化合物が部分的に加水分解し
たゾルに加えられる。加水分解と縮合はその場で生じる
。あるいは、アルコキシドは部分的に又は完全に加水分
解され、そしである程度縮合されたあとヒドロキシル基
を含む有機U■吸収剤、好ましくはヒドロキシベンゾト
リアゾールと結合される。
よってひき起こされる被害から保護する被覆はアルコキ
シシラン及びその他の金属アルコキシドのような網目形
成金属アルコキシドを含むゾルから形成される。アルコ
キシシランはアルキルアルコキシシラン又はその他の有
機官能性アルコキシシランのような有機アルコキシシラ
ンである。アルコキシドはアルキル又はアリールグルー
プを含み加水分解可能なアルコキシドグループの残りに
関する限り2ffi体又は高次縮合の形であるかもしれ
ない。シラノールグループと反応可能のヒドロキシグル
ープを含む紫外線吸収有機化合物が部分的に加水分解し
たゾルに加えられる。加水分解と縮合はその場で生じる
。あるいは、アルコキシドは部分的に又は完全に加水分
解され、そしである程度縮合されたあとヒドロキシル基
を含む有機U■吸収剤、好ましくはヒドロキシベンゾト
リアゾールと結合される。
ベンゾフェノ文ン及びベンゾトリアゾール及びそれらの
アルキル誘導体のような通常の紫外線吸収剤はアルコー
ル−水ベースの無芸ゾルーゲル型耐磨耗被覆への溶解度
が小さい。そして又通常のUv吸収剤と無機被覆マトリ
ックスとの間の共有結合がないために、有muv吸収剤
は類11間の使用中に浸出してしまう。
アルキル誘導体のような通常の紫外線吸収剤はアルコー
ル−水ベースの無芸ゾルーゲル型耐磨耗被覆への溶解度
が小さい。そして又通常のUv吸収剤と無機被覆マトリ
ックスとの間の共有結合がないために、有muv吸収剤
は類11間の使用中に浸出してしまう。
この発明によれば、ヒドロキシベンゾトリアゾール及び
ヒドロキシベンゾフェノンUV吸収剤は無機ゾルとの綜
合反応のための末端ヒドロキシグループをもつ親水鎖の
伸展で修正され、硬化の際にポリマー酸化物網目構造の
部分になる。エトキシ及び/又はブOボキシ親水モイエ
ティーの存在は液状の有機紫外線吸収剤を提供し、同時
に無機ゾルとの混合性を改善する。次の式のポリエチレ
ングリコールで置換されたヒドロキシベンゾトリアゾー
ルはこの発明によれば好ましいU■吸収剤である。
ヒドロキシベンゾフェノンUV吸収剤は無機ゾルとの綜
合反応のための末端ヒドロキシグループをもつ親水鎖の
伸展で修正され、硬化の際にポリマー酸化物網目構造の
部分になる。エトキシ及び/又はブOボキシ親水モイエ
ティーの存在は液状の有機紫外線吸収剤を提供し、同時
に無機ゾルとの混合性を改善する。次の式のポリエチレ
ングリコールで置換されたヒドロキシベンゾトリアゾー
ルはこの発明によれば好ましいU■吸収剤である。
ここにnは1から10である。好適な組成物はチパガイ
ギー社からチヌヴイン(Ttnuvin ) 1130
として得られる。
ギー社からチヌヴイン(Ttnuvin ) 1130
として得られる。
得られた組成物はプライマー、又は基板又は被覆した基
板の保護被覆の両方に被覆組成物として使うことができ
る。代りの実ms様におては、組成物は紫外線に対する
抵抗性を増すために耐磨耗性被覆組成物のようなその他
の被覆組成物に加えることができる。どちらの場合にお
いても、被覆組成物はスプレー、浸漬、又は流下被覆の
ような通常の技術のどれでも適用できる。組成物は乾燥
し硬化しポリカーボネートのようなプラスチック基板に
よく接着する均一な耐久性のある被覆を形成する。被覆
は240から380ナノメートルの範囲の強くて広い吸
収を提供することによって紫外線から基板を保護する。
板の保護被覆の両方に被覆組成物として使うことができ
る。代りの実ms様におては、組成物は紫外線に対する
抵抗性を増すために耐磨耗性被覆組成物のようなその他
の被覆組成物に加えることができる。どちらの場合にお
いても、被覆組成物はスプレー、浸漬、又は流下被覆の
ような通常の技術のどれでも適用できる。組成物は乾燥
し硬化しポリカーボネートのようなプラスチック基板に
よく接着する均一な耐久性のある被覆を形成する。被覆
は240から380ナノメートルの範囲の強くて広い吸
収を提供することによって紫外線から基板を保護する。
この発明の好ましい実IM態様においては、アルコキシ
ドはシラノールグループと反応可能なヒドロキシルグル
ープ末端をもつ親水性の伸展績を含む紫外線吸収有機化
合物を加える前に部分的に加水分解される。好ましくは
アルコキシドは一般式RXSi(OR’) のアル
コキシシランで、x 4−x ここにRは有機ラジカル、R′は低分子機アルキルラジ
カルで構成するグループから選ばれ、Xは4未満でゼロ
でもよい。Rの有機ラジカルは好ましくはアルキル、ビ
ニル、メトキシエチル、フェニル、γ−グリシドキシプ
ロピル、又はγ−メタクリルオキシプロピルである。ア
ルコキシドは次の一般反応によって加水分解する。
ドはシラノールグループと反応可能なヒドロキシルグル
ープ末端をもつ親水性の伸展績を含む紫外線吸収有機化
合物を加える前に部分的に加水分解される。好ましくは
アルコキシドは一般式RXSi(OR’) のアル
コキシシランで、x 4−x ここにRは有機ラジカル、R′は低分子機アルキルラジ
カルで構成するグループから選ばれ、Xは4未満でゼロ
でもよい。Rの有機ラジカルは好ましくはアルキル、ビ
ニル、メトキシエチル、フェニル、γ−グリシドキシプ
ロピル、又はγ−メタクリルオキシプロピルである。ア
ルコキシドは次の一般反応によって加水分解する。
RxS r (OR’ ) 4−x + 、H20→R
xS i (OR’ ) 4−X−、(OH) 、 +
、R’ OH加水分解されたアルコキシドの縮合は次
の一般反応によって進行するー。
xS i (OR’ ) 4−X−、(OH) 、 +
、R’ OH加水分解されたアルコキシドの縮合は次
の一般反応によって進行するー。
2RS ; (OR’ ) 4−%−17゛X
(OH)、→
RxS i (OR’ ) 4−x−y−1(OH)
。
。
又は
2RXS i (OR’ ) 4−x−y (OH)
、→RxS i (OR’ ) 4−x−y (OH)
y−1より一層の加水分解と縮合は親水性ヒドロキシ
ベンゾトリアゾールとの縮合と共にこれにつづく。
、→RxS i (OR’ ) 4−x−y (OH)
y−1より一層の加水分解と縮合は親水性ヒドロキシ
ベンゾトリアゾールとの縮合と共にこれにつづく。
pH及び/又はアルコキシドの縮合の程度は必要であれ
ば調節することができる。それによって有機紫外線吸収
剤、好ましくはエトキシル化又はプロポキシル化された
ヒドロキシベンゾトリアゾールとの混合における曇り又
は沈殿を防ぎ、そして有機紫外線吸収剤の親水性伸展鋼
の末端ヒドロキシグループと部分的に加水分解された金
属アル」キシドとの縮合反応を容易にする。ゾルは好ま
しくは固形物型”隋で約0.5から5.0パーセントの
親水性ヒドロキシベンゾトリアゾールを含む。
ば調節することができる。それによって有機紫外線吸収
剤、好ましくはエトキシル化又はプロポキシル化された
ヒドロキシベンゾトリアゾールとの混合における曇り又
は沈殿を防ぎ、そして有機紫外線吸収剤の親水性伸展鋼
の末端ヒドロキシグループと部分的に加水分解された金
属アル」キシドとの縮合反応を容易にする。ゾルは好ま
しくは固形物型”隋で約0.5から5.0パーセントの
親水性ヒドロキシベンゾトリアゾールを含む。
チタン及び/又はジルコニウムのアルコキシドも又、耐
磨耗性のためのコロイドシリカと同じようにこの発明の
組成物に含まれる。この発明の親水性ヒドロキシベンゾ
トリアゾール含有被覆によって提供される紫外線の保護
は石英基板上に施された被覆のUv吸収スペクトルの計
測により測定される。
磨耗性のためのコロイドシリカと同じようにこの発明の
組成物に含まれる。この発明の親水性ヒドロキシベンゾ
トリアゾール含有被覆によって提供される紫外線の保護
は石英基板上に施された被覆のUv吸収スペクトルの計
測により測定される。
ポリカーボネート基盤をこの発明の耐磨耗性ゾル−ゲル
組成物で被覆するために、好ましくは以下に示すアクリ
ルブライマー溶液が調製される。
組成物で被覆するために、好ましくは以下に示すアクリ
ルブライマー溶液が調製される。
熱可塑性アクリルブライマーは積極的な溶剤中でポリメ
チルメタクリレ−1−とポリエチルメタクリレートを混
ぜ合わせて調製される。有機UV吸収剤がU■保護を与
えるために加えられる。流動調整剤の添加が好ましい。
チルメタクリレ−1−とポリエチルメタクリレートを混
ぜ合わせて調製される。有機UV吸収剤がU■保護を与
えるために加えられる。流動調整剤の添加が好ましい。
ポリメチルメタクリレート及びポリエチルメタクリレー
トはホモポリマーの混合物を含むか又は共重合されても
よい。好ましくは、その組成物は60から90パーセン
トのポリメチルメタクリレートと10から40パーセン
トのポリエチルメタクリレートを含む。ポリマーの平均
分子量はゲル滲透クロマトグラフィーで測定して80.
000から350.000の範囲が好ましい。
トはホモポリマーの混合物を含むか又は共重合されても
よい。好ましくは、その組成物は60から90パーセン
トのポリメチルメタクリレートと10から40パーセン
トのポリエチルメタクリレートを含む。ポリマーの平均
分子量はゲル滲透クロマトグラフィーで測定して80.
000から350.000の範囲が好ましい。
清浄なポリカーボネート基盤はこの発明のブライマー溶
液を好ましくは浸漬法又は流下法で施し、ついでタック
フリーになるまで約15分間空気乾燥される。ブライマ
ーが施されたプラスチック基板はその侵30分間60か
ら100℃で炉の中で乾燥される。
液を好ましくは浸漬法又は流下法で施し、ついでタック
フリーになるまで約15分間空気乾燥される。ブライマ
ーが施されたプラスチック基板はその侵30分間60か
ら100℃で炉の中で乾燥される。
ポリカーボネートのような基板を紫外線によって引きお
こされる被害から護る耐U■プライマーは主マトリック
スとして環境に安定なアクリレートによって形成される
。このようなへ分子アクリレートは無機ベースのトップ
コートとポリカーボネートとの重要な架橋接着を提供す
るだけでなく、高温多湿の環境とUV線に対しかなりの
抵抗性も提供する。この発明によれば65℃と105℃
の間のガラス転移温度を与えるアクリルマトリックスが
好ましい、(メタ)アクリレートユニットのタイプ、ポ
リマーの分子量、混合又は共重合のような混ぜ合わせ法
、が最適特性を提供するように選ばれる。
こされる被害から護る耐U■プライマーは主マトリック
スとして環境に安定なアクリレートによって形成される
。このようなへ分子アクリレートは無機ベースのトップ
コートとポリカーボネートとの重要な架橋接着を提供す
るだけでなく、高温多湿の環境とUV線に対しかなりの
抵抗性も提供する。この発明によれば65℃と105℃
の間のガラス転移温度を与えるアクリルマトリックスが
好ましい、(メタ)アクリレートユニットのタイプ、ポ
リマーの分子量、混合又は共重合のような混ぜ合わせ法
、が最適特性を提供するように選ばれる。
この発明において同様に重要なことは、Uv保護の効率
及び湿度に対するftL感さの両方に影響する有様紫外
線吸収剤の選択であり、これは主アクリルマトリックス
に入れられるUV吸収剤の効率と分子適合性によって左
右される。ブライマーマトリックスとUV吸収剤との間
の分子聞和性及び適合性が低いことにより、トップコー
ト適用中のUV吸収剤の保持が比較的短かく、又はその
伯光学的曇のように見られるように湿度抵抗性が低くな
り、又は短期の使用後でUV吸収剤が浸出する。
及び湿度に対するftL感さの両方に影響する有様紫外
線吸収剤の選択であり、これは主アクリルマトリックス
に入れられるUV吸収剤の効率と分子適合性によって左
右される。ブライマーマトリックスとUV吸収剤との間
の分子聞和性及び適合性が低いことにより、トップコー
ト適用中のUV吸収剤の保持が比較的短かく、又はその
伯光学的曇のように見られるように湿度抵抗性が低くな
り、又は短期の使用後でUV吸収剤が浸出する。
この発明による好ましいアクリルマトリックスは60か
ら9011111のポリ(メチルメタクリレート)と4
0から10部のポリ(エチルメタクリレート)、好まし
くは80から90部のポリ(メチルメタクリレート)と
10から20部のポリ(エチルメタクリレート)とを重
a比で混合してつくられる。あるいは、アクリレート及
びそれらの誘導体に対応する共重合体も又この発明のブ
ライマー中のUV吸収剤用のマトリックスとして十分に
使うことができる。
ら9011111のポリ(メチルメタクリレート)と4
0から10部のポリ(エチルメタクリレート)、好まし
くは80から90部のポリ(メチルメタクリレート)と
10から20部のポリ(エチルメタクリレート)とを重
a比で混合してつくられる。あるいは、アクリレート及
びそれらの誘導体に対応する共重合体も又この発明のブ
ライマー中のUV吸収剤用のマトリックスとして十分に
使うことができる。
好ましくは、ベンゾトリアゾール型のUV吸収剤は、ベ
ンゾフェノン型のUV吸収剤と較べて主となるアクリル
マトリックスに対しよりよく適合するために選ぶことが
できる。この発明の好ましい組成物はヒドロキシベンゾ
トリエール環の上に次に示すようなさまざまな置換基を
もつことができる。
ンゾフェノン型のUV吸収剤と較べて主となるアクリル
マトリックスに対しよりよく適合するために選ぶことが
できる。この発明の好ましい組成物はヒドロキシベンゾ
トリエール環の上に次に示すようなさまざまな置換基を
もつことができる。
ここにR及びR2は水素、アルキル、アリール等である
。この発明の好ましいuv@収剤は上の型のベンゾトリ
アゾールを含み、ここではR1及びR2は1.1−ジメ
チルベンジルフェニル(チバガイギー社のチヌヴイン(
Tinuvin ) 900 )、Rはt−ブチルでR
2はポリエチレングリコ−ルのプロピオン酸エステル(
チバガイギー社のチヌヴイン1130) 、又R1は水
素でR2はオクチルフェニル(アメリカンシアナミツド
社からのシアソルブ(Cyasorb ) 5411
)である。
。この発明の好ましいuv@収剤は上の型のベンゾトリ
アゾールを含み、ここではR1及びR2は1.1−ジメ
チルベンジルフェニル(チバガイギー社のチヌヴイン(
Tinuvin ) 900 )、Rはt−ブチルでR
2はポリエチレングリコ−ルのプロピオン酸エステル(
チバガイギー社のチヌヴイン1130) 、又R1は水
素でR2はオクチルフェニル(アメリカンシアナミツド
社からのシアソルブ(Cyasorb ) 5411
)である。
この発明は以下に記載の特定の実施例からよりよく理解
されるであろう。
されるであろう。
(5)実施例1
耐磨耗性で耐紫外線のシラン/ジルコニア被覆が以下の
ようにつくられた。有機アルコキシシラン組成物が25
グラムのメチルトリエトキシシランと50グラムのγ−
プロピルアクリルオキシトルメトキシシランと混合して
調製された。有機アルコキシシランに1.8グラムのエ
トキシル化ヒドロキシベンゾトリアゾール(チバガイギ
ー社のチヌヴイン1130)が加えられた。この組成物
は10分間かき混ぜられた後30グラムの2−ブOパノ
ール、8グラムの脱イオン水及び5滴の塩酸が加えられ
有機アルコキシシランが加水分解された。加水分解され
た有機アルコキシシラン組成物は透明であった。加水分
解された有機アルコジシランに30グラムのジルコニウ
ムn−プロポキシドが加えられた。20分間かき混ぜた
後、加水分解を完了させるために20グラムの脱イオン
水と、同時に6グラムの10パーセント水酸化アンモニ
ウムと1.2グラムの追加のチヌヴイン1130を含む
10グラムのジアセトンアルコールを加えた。混合物は
室温で2時間かき混ぜられた。
ようにつくられた。有機アルコキシシラン組成物が25
グラムのメチルトリエトキシシランと50グラムのγ−
プロピルアクリルオキシトルメトキシシランと混合して
調製された。有機アルコキシシランに1.8グラムのエ
トキシル化ヒドロキシベンゾトリアゾール(チバガイギ
ー社のチヌヴイン1130)が加えられた。この組成物
は10分間かき混ぜられた後30グラムの2−ブOパノ
ール、8グラムの脱イオン水及び5滴の塩酸が加えられ
有機アルコキシシランが加水分解された。加水分解され
た有機アルコキシシラン組成物は透明であった。加水分
解された有機アルコジシランに30グラムのジルコニウ
ムn−プロポキシドが加えられた。20分間かき混ぜた
後、加水分解を完了させるために20グラムの脱イオン
水と、同時に6グラムの10パーセント水酸化アンモニ
ウムと1.2グラムの追加のチヌヴイン1130を含む
10グラムのジアセトンアルコールを加えた。混合物は
室温で2時間かき混ぜられた。
最後に0.5グラムのアゾイソブチルニトリルと5グラ
ムのジアセトンアルコールが加えられた。
ムのジアセトンアルコールが加えられた。
比較のために、このようなゾル−ゲル耐磨耗性被覆組成
物にヒドロキシベンゾフェノン紫外線吸収剤が加えられ
たとき、色の変化が起りついで沈殿が生じた。
物にヒドロキシベンゾフェノン紫外線吸収剤が加えられ
たとき、色の変化が起りついで沈殿が生じた。
実施例2
アルコール−水ベースの無機ゾルとの改善された混和性
をもつ有機UV吸収剤が末端とドロキシグループをもつ
水に混和可能なエトキシル化又はプロポキシ化されたチ
ェノをとり込むことによって調製することができた。親
水性の置換されたヒドロキシベンゾフェノンが例えば2
1.4グラムの2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン(
0,10モル)と微量の水酸化カリウムを反応容器中の
100グラムのジオキサンに溶かすことによって11%
された。23.2グラムのプロピレンオキシドの35グ
ラムジオキサン中の溶液が20℃のジオキサン溶液に3
0分間で徐々に加えられついで別の30分間に35℃に
上げられた。反応はジオキサンに約5グラムの水を加え
て冷却された。反応物は大量の過酸の水を加えることに
より反応物を溶剤から沈殿させて集められた。置換され
た製品の混和性はプロポキシル化の長さに依り、それは
又プロピレンオキシドとベンゾフェノンとのモル比によ
って決定される。
をもつ有機UV吸収剤が末端とドロキシグループをもつ
水に混和可能なエトキシル化又はプロポキシ化されたチ
ェノをとり込むことによって調製することができた。親
水性の置換されたヒドロキシベンゾフェノンが例えば2
1.4グラムの2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン(
0,10モル)と微量の水酸化カリウムを反応容器中の
100グラムのジオキサンに溶かすことによって11%
された。23.2グラムのプロピレンオキシドの35グ
ラムジオキサン中の溶液が20℃のジオキサン溶液に3
0分間で徐々に加えられついで別の30分間に35℃に
上げられた。反応はジオキサンに約5グラムの水を加え
て冷却された。反応物は大量の過酸の水を加えることに
より反応物を溶剤から沈殿させて集められた。置換され
た製品の混和性はプロポキシル化の長さに依り、それは
又プロピレンオキシドとベンゾフェノンとのモル比によ
って決定される。
11豊ユ盈ff4
反応混合物が100グラムのメチルトリエトキシシラン
(ユニオンカーバイドのA−162)、10グラムのジ
メチルジェトキシシラン、60グラムのシリカゾル(シ
ュボンのラドツクス(Ludox ) LS ) 、及
び3.6グラムの酢酸を含んでI製された。混合物は室
温で反応させられた。
(ユニオンカーバイドのA−162)、10グラムのジ
メチルジェトキシシラン、60グラムのシリカゾル(シ
ュボンのラドツクス(Ludox ) LS ) 、及
び3.6グラムの酢酸を含んでI製された。混合物は室
温で反応させられた。
約1日直の反応後、混合物は80グラムのイソブタノー
ルで希釈され遠心機にかけられた。混合物が3分割され
、おのおのに、β−[3(2日−ペンゾトリアゾール−
2−イル−)4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル
−]プロピオン酸のゲル重量をベースにして0,1.5
%及び2%とともに分子量300のポリエチレングリコ
ールのメチルエステルが加えられた。反応は室温で3日
問続けられた。
ルで希釈され遠心機にかけられた。混合物が3分割され
、おのおのに、β−[3(2日−ペンゾトリアゾール−
2−イル−)4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル
−]プロピオン酸のゲル重量をベースにして0,1.5
%及び2%とともに分子量300のポリエチレングリコ
ールのメチルエステルが加えられた。反応は室温で3日
問続けられた。
プライマーが施されたポリカーボネート基板が上記溶液
に約3分@浸され、ついで15分間乾熾された後120
℃で1時間硬化された。UV抵抗性は石英基板を通した
Uv膜吸収強さによって測定された。被覆の接着特性は
ASTM D−3359−87によって、ガードナー
の11歯スクライバ−(Gardner 1l−too
th 5criber)をX一方向のクロススクライブ
に対して用い、ついでテープが3回100スケアーの上
に引かれた。接着はどのスケアも失敗しなかったとき優
秀といわれる。
に約3分@浸され、ついで15分間乾熾された後120
℃で1時間硬化された。UV抵抗性は石英基板を通した
Uv膜吸収強さによって測定された。被覆の接着特性は
ASTM D−3359−87によって、ガードナー
の11歯スクライバ−(Gardner 1l−too
th 5criber)をX一方向のクロススクライブ
に対して用い、ついでテープが3回100スケアーの上
に引かれた。接着はどのスケアも失敗しなかったとき優
秀といわれる。
ASTM F735−81が被覆のバイエル(Bay
er )耐磨耗性の測定に用いられた。4″×4″の被
覆ポリカーボネートが振動シリカサンドボックスの2分
間の300回の磨耗試験にかけられた。曇りメータ(パ
シフィックサイエンティフィックのヘイズガードシステ
ム(Hazegardsystem) )により測定さ
れた曇りのパーセンテージの変化が報告された。通常被
覆しないポリカーボネートはこの試験で55−60%の
曇りの増加を示す。
er )耐磨耗性の測定に用いられた。4″×4″の被
覆ポリカーボネートが振動シリカサンドボックスの2分
間の300回の磨耗試験にかけられた。曇りメータ(パ
シフィックサイエンティフィックのヘイズガードシステ
ム(Hazegardsystem) )により測定さ
れた曇りのパーセンテージの変化が報告された。通常被
覆しないポリカーボネートはこの試験で55−60%の
曇りの増加を示す。
UVによる被害から、下層の基板を護る性能だけでなく
被覆それ自体のUV抵抗性が、被覆されたポリカーボネ
ートを、ASTM G53−77に記載の試験方法に
従ってQパネル社によってつくられたケイ光管(831
3ナノメータ)を備えた加速Q−IJVf−?ンバーに
入れることによって評価された。そのチャンバーは70
℃における8時間の照明サイクルに続いて4時間の50
℃における湿度100%における綜合のサイクルによっ
てプログラムされた。被覆の外観は点検され、そして退
色性は(JV/V[Sスペクトロフォトメータを用いた
黄色インデックスの条項(ASTME308−85,1
931 CIE、イルミナントC)で報告された。被
覆されていないポリカーボネートは通常100時間の曝
露直後に10の値に達する。次の特性が観察された。
被覆それ自体のUV抵抗性が、被覆されたポリカーボネ
ートを、ASTM G53−77に記載の試験方法に
従ってQパネル社によってつくられたケイ光管(831
3ナノメータ)を備えた加速Q−IJVf−?ンバーに
入れることによって評価された。そのチャンバーは70
℃における8時間の照明サイクルに続いて4時間の50
℃における湿度100%における綜合のサイクルによっ
てプログラムされた。被覆の外観は点検され、そして退
色性は(JV/V[Sスペクトロフォトメータを用いた
黄色インデックスの条項(ASTME308−85,1
931 CIE、イルミナントC)で報告された。被
覆されていないポリカーボネートは通常100時間の曝
露直後に10の値に達する。次の特性が観察された。
80グラムのメチルトリメトキシシランと8グラムのジ
メチルジェトキシシランを含む反応混合物がW4製され
、それに対し、55グラムのメタノールと55グラムの
脱イオン水中に1.5グラムのポリビニルピロリドンを
溶かすことによって調製された溶液が加えられた。4グ
ラムの酢酸を添加後、混合物は室温で2時間かき混ぜら
れた。ついでその混合物に2グラムのチヌヴイン113
0と共に50グラムのジアセトンアルコールと25グラ
ムのイソブタノールが加えられ、ついで0.2グラムの
酢酸カリウムが加えられた。室温下のかき混ぜが3日間
続けられた。
メチルジェトキシシランを含む反応混合物がW4製され
、それに対し、55グラムのメタノールと55グラムの
脱イオン水中に1.5グラムのポリビニルピロリドンを
溶かすことによって調製された溶液が加えられた。4グ
ラムの酢酸を添加後、混合物は室温で2時間かき混ぜら
れた。ついでその混合物に2グラムのチヌヴイン113
0と共に50グラムのジアセトンアルコールと25グラ
ムのイソブタノールが加えられ、ついで0.2グラムの
酢酸カリウムが加えられた。室温下のかき混ぜが3日間
続けられた。
清浄化されたポリカーボネートにプライマーが施されつ
いで上記被覆組成物溶液に3分間浸され、15分間空気
乾燥され、ついで120℃で1時間硬化された。光学的
に透明な耐Uv性耐磨耗性被覆が得られた。
いで上記被覆組成物溶液に3分間浸され、15分間空気
乾燥され、ついで120℃で1時間硬化された。光学的
に透明な耐Uv性耐磨耗性被覆が得られた。
実施例6
1.5グラムのポリビニルピロリドンを55グラムのメ
タノールと55グラムの脱イオン水に溶かして溶液がl
111され、ついで4グラムの酢酸が加えられた。その
溶液に80グラムのメチルトリメトキシシラン、8グラ
ムのジメチルジェトキシシラン及び実施例2の3グラム
のヒドロキシベンゾフエノンプロボキシレートの誘導体
が加えられた。反応混合物は室温で2時間かき混ぜられ
、ついで50グラムの2−プロパツール、25グラムの
ジアセトンアルコール及び0.2グラムの酢酸カリウム
が加えられた。室温で3日間反応が続けられた。
タノールと55グラムの脱イオン水に溶かして溶液がl
111され、ついで4グラムの酢酸が加えられた。その
溶液に80グラムのメチルトリメトキシシラン、8グラ
ムのジメチルジェトキシシラン及び実施例2の3グラム
のヒドロキシベンゾフエノンプロボキシレートの誘導体
が加えられた。反応混合物は室温で2時間かき混ぜられ
、ついで50グラムの2−プロパツール、25グラムの
ジアセトンアルコール及び0.2グラムの酢酸カリウム
が加えられた。室温で3日間反応が続けられた。
清浄なポリカーボネート基板にブライマーが施されつい
で上記被覆組成物で流下被覆され、空気乾燥され、12
0℃で1時間硬化された。光学的に透明な耐磨耗性被覆
が得られた。
で上記被覆組成物で流下被覆され、空気乾燥され、12
0℃で1時間硬化された。光学的に透明な耐磨耗性被覆
が得られた。
実施例7
熱可塑性アクリルブライマーが、12グラムのポリメチ
ルメタクリレートと3グラムのポリエチレンメタクリレ
ートを230グラムのブOピレングリコールメチルエー
テル(ダウケミカフ9社のダウアノールPM)と20グ
ラムのトルエンに溶かして調製された。2グラムのシア
ソルブ5411U■吸収剤がU■保護を与えるために加
えられた。
ルメタクリレートと3グラムのポリエチレンメタクリレ
ートを230グラムのブOピレングリコールメチルエー
テル(ダウケミカフ9社のダウアノールPM)と20グ
ラムのトルエンに溶かして調製された。2グラムのシア
ソルブ5411U■吸収剤がU■保護を与えるために加
えられた。
流り調整剤が加えられた(シロキサン含有ポリエーテル
中に重量で0.01パーセントの西独BYK化学社のB
YK−300)。
中に重量で0.01パーセントの西独BYK化学社のB
YK−300)。
清浄化されたポリカーボネート基板が上記ブライマー溶
液に2分間浸され又は流下被覆され、ついでタックフリ
ーになるまで約15分間は乾燥された。そのブライマー
を施されたプラスチックは30分間60から100℃の
炉中で乾燥された。
液に2分間浸され又は流下被覆され、ついでタックフリ
ーになるまで約15分間は乾燥された。そのブライマー
を施されたプラスチックは30分間60から100℃の
炉中で乾燥された。
100グラムのメチルトリエトキシシラン(ユニオンカ
ーバイドのΔ−162)、10グラムのジメチルジェト
キシシラン、60グラムのシリカゾル(シュボンのラド
ツクスしS)、及び3.6グラムの酢酸を含む耐磨耗性
ゾル−ゲル被覆が調製された。混合物は室温で1日間反
応され、80グラムのイソブタノールで希釈され、つい
で遠心機にかけられた。混合物は2分割され、おのおの
に、ゲル重量をベースにして、β−<3− (2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル−)4−ヒドロキシ−5−
t−ブチルフェニル−)プロピオン酸O及び1.5%が
それぞれ、分子1300のポリエチレングリコールのメ
チルエステルとともに、加えられた。反応は室温で3日
間続けられた。ブライマーが施されたポリカーボネート
が上記溶液に15℃で3分間浸され、15分間空気乾燥
され、ついで120℃で1時間硬化された。
ーバイドのΔ−162)、10グラムのジメチルジェト
キシシラン、60グラムのシリカゾル(シュボンのラド
ツクスしS)、及び3.6グラムの酢酸を含む耐磨耗性
ゾル−ゲル被覆が調製された。混合物は室温で1日間反
応され、80グラムのイソブタノールで希釈され、つい
で遠心機にかけられた。混合物は2分割され、おのおの
に、ゲル重量をベースにして、β−<3− (2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル−)4−ヒドロキシ−5−
t−ブチルフェニル−)プロピオン酸O及び1.5%が
それぞれ、分子1300のポリエチレングリコールのメ
チルエステルとともに、加えられた。反応は室温で3日
間続けられた。ブライマーが施されたポリカーボネート
が上記溶液に15℃で3分間浸され、15分間空気乾燥
され、ついで120℃で1時間硬化された。
U■抵抗性は石英基板を通してU■吸収の強さによって
測定された。被覆の接着特性はASTMD−3359−
87によって、ガードナーの11歯スクライバ−(Ga
rdner 1l−tooth 5criber)をX
方向のクロススクライブに対して用い、ついでテープが
3回100スケアーの上に引かれることによって測定さ
れた。接着はどのスケアーも失敗しなかったとき優秀と
いわれる。
測定された。被覆の接着特性はASTMD−3359−
87によって、ガードナーの11歯スクライバ−(Ga
rdner 1l−tooth 5criber)をX
方向のクロススクライブに対して用い、ついでテープが
3回100スケアーの上に引かれることによって測定さ
れた。接着はどのスケアーも失敗しなかったとき優秀と
いわれる。
U■による被害から、下層の基板を護る性能だけでなく
被覆それ自体のU■抵抗性が、被覆されたポリカーボネ
ートを、ASTM G53−77に記載の試験方法に
従ってQパネル社によってつくられたケイ光管(831
3ナノメータ)を備えた加速Q−UVチャンバーに入れ
ることによつ評価さ・れた。そのチャンバーは70℃に
おける8時間の照明サイクルに続いて4時間の50℃に
おける湿度100%における綜合のサイクルによってプ
ログラムされた。被覆の外観は点検され、そして退色性
はtJV/VISスベクトロフAトメータを用いた黄色
インデックスの条11 (ASTM E308−85
.1931 CIE、イルミナントC)で報告された
。被覆されていないポリカーボネートは通常100時間
の曝露直後に10の値に達する。
被覆それ自体のU■抵抗性が、被覆されたポリカーボネ
ートを、ASTM G53−77に記載の試験方法に
従ってQパネル社によってつくられたケイ光管(831
3ナノメータ)を備えた加速Q−UVチャンバーに入れ
ることによつ評価さ・れた。そのチャンバーは70℃に
おける8時間の照明サイクルに続いて4時間の50℃に
おける湿度100%における綜合のサイクルによってプ
ログラムされた。被覆の外観は点検され、そして退色性
はtJV/VISスベクトロフAトメータを用いた黄色
インデックスの条11 (ASTM E308−85
.1931 CIE、イルミナントC)で報告された
。被覆されていないポリカーボネートは通常100時間
の曝露直後に10の値に達する。
ブライマー単独、ブライマーと共に耐磨耗性被覆、及び
ブライマーと追加のU■吸収剤を含む耐磨耗性被覆の紫
外線抵抗性が下表で比較される。
ブライマーと追加のU■吸収剤を含む耐磨耗性被覆の紫
外線抵抗性が下表で比較される。
実施例8
90部のポリメチルメタクリレートと10部のポリエチ
ルメタクリレートのブライマー溶液が、24.3グラム
のポリメチルメタクリレートと2.7グラムのポリエチ
ルメタクリレートを410グラムのダウアノールPMと
133グラムのジアセトンアルコールの温い混合物に溶
解することによってつくられた。上記に32グラムのト
ルエン中に6.7グラムのヂヌヴイン900 U V吸
収剤を含む溶液を加えた。光学的に平滑な表面を得るた
めに流動調整剤としてシロキサン含有ポリエーテルであ
る0、05グラムのBYK−300が加えられた。
ルメタクリレートのブライマー溶液が、24.3グラム
のポリメチルメタクリレートと2.7グラムのポリエチ
ルメタクリレートを410グラムのダウアノールPMと
133グラムのジアセトンアルコールの温い混合物に溶
解することによってつくられた。上記に32グラムのト
ルエン中に6.7グラムのヂヌヴイン900 U V吸
収剤を含む溶液を加えた。光学的に平滑な表面を得るた
めに流動調整剤としてシロキサン含有ポリエーテルであ
る0、05グラムのBYK−300が加えられた。
耐磨耗性被覆混合物が、33グラムの脱イオン水と3.
3グラムのメタノール中の1.8グラムのポリビニルピ
ロリドン(GAFからのPVPK90)と、48グラム
のメチルトリメトキシシラン、4.8グラムのジメチル
ジェトキシシラン及び2.4グラムの酢酸の混合物とを
混合することによって調製された。室温で2時間おいた
あと、反応混合物は30グラムの2−プロパツールと1
5グラムのジアセトンアルコールで希釈された。
3グラムのメタノール中の1.8グラムのポリビニルピ
ロリドン(GAFからのPVPK90)と、48グラム
のメチルトリメトキシシラン、4.8グラムのジメチル
ジェトキシシラン及び2.4グラムの酢酸の混合物とを
混合することによって調製された。室温で2時間おいた
あと、反応混合物は30グラムの2−プロパツールと1
5グラムのジアセトンアルコールで希釈された。
ついで0.2グラムの酢酸ナトリウムが加えられ反応が
2日間続けられた。0.1グラムのBYK−300流動
調整剤添加後、混合物は1.8グラムのビオラッド(B
10Rad)カチオン交換樹脂(A6.50W−X8)
を用いたイオン交換によりpH調整された。
2日間続けられた。0.1グラムのBYK−300流動
調整剤添加後、混合物は1.8グラムのビオラッド(B
10Rad)カチオン交換樹脂(A6.50W−X8)
を用いたイオン交換によりpH調整された。
清浄なポリカーボネート基板がブライマー溶液で流下被
覆された。約15分間空気乾燥後プライマーは更に10
0℃で30分間乾燥された。耐磨耗性被覆混合物がブラ
イマーの施されたポリカーボネート上に流下被覆され、
空気で15分間乾燥され、ついで120℃で20分間硬
化された。光学的に透明な被覆が得られた。
覆された。約15分間空気乾燥後プライマーは更に10
0℃で30分間乾燥された。耐磨耗性被覆混合物がブラ
イマーの施されたポリカーボネート上に流下被覆され、
空気で15分間乾燥され、ついで120℃で20分間硬
化された。光学的に透明な被覆が得られた。
ASTM F735−81が被覆のバイエル耐磨耗性
の測定に用いられた。4”X4”の被覆ポリカーボネー
トが振動シリカサンドボックスの2分間に300回の磨
耗試験にかけられた。、@リメータ(パシフィックサイ
エンティフィックのベイ゛ズガードシステム)により測
定された曇りのパーセンテージの変化が報告された。通
常被覆しないポリカーボネートはこの試験で55−60
%の曇りの増加を示す。
の測定に用いられた。4”X4”の被覆ポリカーボネー
トが振動シリカサンドボックスの2分間に300回の磨
耗試験にかけられた。、@リメータ(パシフィックサイ
エンティフィックのベイ゛ズガードシステム)により測
定された曇りのパーセンテージの変化が報告された。通
常被覆しないポリカーボネートはこの試験で55−60
%の曇りの増加を示す。
耐磨耗性、UV抵抗性及び耐湿特性が下表の例2の欄に
示される。
示される。
表1
実施例9
例2のポリメチルメタクリレート/ポリエチルメタクリ
レート混合物が、メチルメタクリレートとエチルメタク
リレートの60/40比の共重合体の27グラム(ポリ
サイエンスの)で置きかえられた。UV抵抗性及び耐湿
特性が実施例8の特性(例2のIII)と共に表1の例
3の欄に示される。
レート混合物が、メチルメタクリレートとエチルメタク
リレートの60/40比の共重合体の27グラム(ポリ
サイエンスの)で置きかえられた。UV抵抗性及び耐湿
特性が実施例8の特性(例2のIII)と共に表1の例
3の欄に示される。
実施例10
ブライマーがメチルメタクリレートとエチルメタクリレ
ートとの共重合体くポリサイエンスの)の5.0グラム
を、65グラムのプロピレングリコールメチルエーテル
と20グラムのジアセトンアルコールの温い混合物に溶
解することによって1m製された。5グラムのトルエン
中に0.325グラムのチヌヴイン900と0.68グ
ラムのチヌヴイン1130を含むUV吸収剤溶液が加え
られた。流動調整剤(0,01%のBYK−300>が
被覆の流動特性の調整のために加えられた。このブライ
マーは約2μmの光学的に透明な保′r!t@をポリカ
ーボネートの上に形成した。結果は表2の例4の欄に示
される。
ートとの共重合体くポリサイエンスの)の5.0グラム
を、65グラムのプロピレングリコールメチルエーテル
と20グラムのジアセトンアルコールの温い混合物に溶
解することによって1m製された。5グラムのトルエン
中に0.325グラムのチヌヴイン900と0.68グ
ラムのチヌヴイン1130を含むUV吸収剤溶液が加え
られた。流動調整剤(0,01%のBYK−300>が
被覆の流動特性の調整のために加えられた。このブライ
マーは約2μmの光学的に透明な保′r!t@をポリカ
ーボネートの上に形成した。結果は表2の例4の欄に示
される。
実施例11
3.45グラムのメチルメタクリレートのホモポリマー
と0.44グラムのエチルメタクリレートのホモポリマ
ーとを含むブライマー溶液がItjされた。混合物は5
4.2グラムのプロピレングリコールメチルエーテルと
17.6グラムのジアセトラアルコール中に可溶化され
た。Uv@収剤溶剤溶液、5グラムのトルエン中の0.
75グラムのチヌヴイン1130と0.41グラムのチ
ヌヴイン900で構成した。結果は表2の例5の欄に示
される。
と0.44グラムのエチルメタクリレートのホモポリマ
ーとを含むブライマー溶液がItjされた。混合物は5
4.2グラムのプロピレングリコールメチルエーテルと
17.6グラムのジアセトラアルコール中に可溶化され
た。Uv@収剤溶剤溶液、5グラムのトルエン中の0.
75グラムのチヌヴイン1130と0.41グラムのチ
ヌヴイン900で構成した。結果は表2の例5の欄に示
される。
u例1a
比較のために、ポリエチルメタクリレートのホモポリマ
ーを用いたブライマー溶液が、4゜29グラムのポリエ
チルメタクリレートを56グラムのダウアノールPMと
17.1グラムのジアセトンアルコールとの温溶剤混合
物に溶解することによって調製された。0.5グラムの
チヌヴイン1130と0.3グラムのチヌヴイン900
を2.5グラムのトルエン中に含む溶液が調製された。
ーを用いたブライマー溶液が、4゜29グラムのポリエ
チルメタクリレートを56グラムのダウアノールPMと
17.1グラムのジアセトンアルコールとの温溶剤混合
物に溶解することによって調製された。0.5グラムの
チヌヴイン1130と0.3グラムのチヌヴイン900
を2.5グラムのトルエン中に含む溶液が調製された。
シラン−PVP型耐磨耗性被覆が実施例8及び9に記載
の方法によって調製された。ブライマーはポリカーボネ
ート上に流下被覆され、ついで100℃で30分間乾燥
された。耐磨耗性フィルムも又流下被覆され、そして1
20℃で20分間硬化された。ブライマー′!&覆の耐
湿性は有機アクリルマトリックスとU■吸収剤の適合性
を反映するもので、総合耐湿性は65.6℃、100%
凝縮加湿試験結果を下表の例6の欄に示される。
の方法によって調製された。ブライマーはポリカーボネ
ート上に流下被覆され、ついで100℃で30分間乾燥
された。耐磨耗性フィルムも又流下被覆され、そして1
20℃で20分間硬化された。ブライマー′!&覆の耐
湿性は有機アクリルマトリックスとU■吸収剤の適合性
を反映するもので、総合耐湿性は65.6℃、100%
凝縮加湿試験結果を下表の例6の欄に示される。
表 2
注:+は“ブライマー+側磨耗性被覆”を示す。
実施例13
シラン−アルミナ型耐磨耗性被覆が以下の成分を含んで
調製された。62グラムの5%水中アルミナゾル、75
グラムのメチルトリエトキシシラン、5グラムのジメチ
ルジェトキシシラン、2グラムの酢酸、18グラムのジ
アセトンアルコール及び18グラムの2−プロパツール
。
調製された。62グラムの5%水中アルミナゾル、75
グラムのメチルトリエトキシシラン、5グラムのジメチ
ルジェトキシシラン、2グラムの酢酸、18グラムのジ
アセトンアルコール及び18グラムの2−プロパツール
。
清浄なポリカーボネートが実施例11でW¥Jされた溶
液でブライマー被覆され100℃で30分間乾燥された
。上記シラン−アルミナ溶液がブライマーの施されたポ
リカーボネートの表面に流下被覆され、15分間空気乾
燥され、ついで120℃で2時間硬化された。被覆され
たポリカーボネートは優秀な耐磨耗性、300サイクル
のバイエル磨耗試験後8.0パーセントの曇り、700
時間のQ−tJVB曝露後僅か3.0YIDの黄色化を
示した。65.6℃、100%関係湿度に1200時間
曝露後w1覆上に曇りは現われなかった。
液でブライマー被覆され100℃で30分間乾燥された
。上記シラン−アルミナ溶液がブライマーの施されたポ
リカーボネートの表面に流下被覆され、15分間空気乾
燥され、ついで120℃で2時間硬化された。被覆され
たポリカーボネートは優秀な耐磨耗性、300サイクル
のバイエル磨耗試験後8.0パーセントの曇り、700
時間のQ−tJVB曝露後僅か3.0YIDの黄色化を
示した。65.6℃、100%関係湿度に1200時間
曝露後w1覆上に曇りは現われなかった。
上述の実施例はこの発明の説明のために提供されたもの
である。さまざまな加水分解可能のアルコキシド及び親
水性ヒドロキシベンゾフェノン及び/又はヒドロキシベ
ンゾトリアゾール組成物は、そこに酸化物網目を形成す
るのに十分なアルコキシドがあり、そして石英基板上の
被覆のU■吸収スペクトルによって測定するとき、被覆
の耐磨耗性を損することなしに紫外線抵抗性に所望の改
善を与えるのに十分な親水性UV吸収剤がある限り、広
い範囲の比率と濃度で組み合わすことができる。
である。さまざまな加水分解可能のアルコキシド及び親
水性ヒドロキシベンゾフェノン及び/又はヒドロキシベ
ンゾトリアゾール組成物は、そこに酸化物網目を形成す
るのに十分なアルコキシドがあり、そして石英基板上の
被覆のU■吸収スペクトルによって測定するとき、被覆
の耐磨耗性を損することなしに紫外線抵抗性に所望の改
善を与えるのに十分な親水性UV吸収剤がある限り、広
い範囲の比率と濃度で組み合わすことができる。
さまざまな有機ポリマー及び有機Uv吸収剤は広い範囲
の比率及び濃度で、有機基板への接着を高めるキシレン
のような芳香族溶剤などのさまざまな積楊的溶剤と混ぜ
合わすことができる。この発明により、これらの被覆は
さまざまな基板に対し又さまざまな耐磨耗性被覆ととも
に有用であり、それらの範囲は前掲の特許請求の範囲に
よって規定される。
の比率及び濃度で、有機基板への接着を高めるキシレン
のような芳香族溶剤などのさまざまな積楊的溶剤と混ぜ
合わすことができる。この発明により、これらの被覆は
さまざまな基板に対し又さまざまな耐磨耗性被覆ととも
に有用であり、それらの範囲は前掲の特許請求の範囲に
よって規定される。
Claims (20)
- (1)紫外線から基板を護るための光学的に透明な被覆
組成物であつて以下を含むもの。 a、一般式R_XM(OR′)_Z_−_Xの部分的に
加水分解されたアルコキシド。式中Rは有機ラジカルで
あり、Mはケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウ
ム、セリウム及びそれらの混合物から選ばれ、R′は低
分子量のアルキルラジカルであり、ZはMの原子価であ
りそしてXはZ未満であり又ゼロでもよい。 b、紫外線を吸収しそして親水性モイエティーを含むヒ
ドロキシ含有有機化合物。 - (2)請求項(1)に記載の組成物であって、前述のア
ルコキシドが一般式R_XSi(OR′)_4_−_X
を含みそしてR′はメチル、エチル、プロピル及びブチ
ルからなるグループから選ばれ、Rはアルキル、ビニル
、フェニル、メトキシエチル、γ−グリシドキシプロピ
ル及びγ−メタクリルオキシプロピルからなるグループ
から選ばれ、そしてXが1であることを特徴とする組成
物。 - (3)請求項(1)に記載の組成物であって、前述のヒ
ドロキシ含有有機化合物がエトキシレート及びプロポキ
シレートからなるグループから選ばれた親水性モイエテ
ィーをもつヒドロキシベンゾトリアゾール又はヒドロキ
シベンゾフェノンを含むことを特徴とする組成物。 - (4)光学的に透明な紫外線抵抗性被覆組成物を調製す
る方法であつて次のステップを含むもの。 a、一般式R_XM(OR′)_Z_−_Xのアルコキ
シドを少くとも部分的に加水分解するステップ。式中R
は有機ラジカルであり、Mはケイ素、アルミニウム、チ
タン、ジルコニウム、セリウム及びそれらの混合物から
なるグループから選ばれ、R′は低分子量のアルキルラ
ジカルであり、ZはMの原子価でありそしてXはZ未満
であり又ゼロでもよい。 b、前述の少くとも部分的に加水分解されたアルコキシ
ドに紫外線を吸収しそして親水性モイエティーを含むヒ
ドロキシ含有有機化合物を加えるステップ。 - (5)請求項(4)に記載の方法であって、前述のアル
コキシドが一般式R_XSi(OR′)_4_−_Xを
含みそしてR′はメチル、エチル、プロピル及びブチル
からなるグループから選ばれ、Rはアルキル、ビニル、
フェニル、メトキシエチル、γ−グリシドキシプロピル
及びγ−メタクリルオキシプロピルからなるグループか
ら選ばれ、そしてXが1であることを特徴とする方法。 - (6)請求項(4)に記載の方法であって、前述のヒド
ロキシ含有有機化合物がエトキシレート及びプロポキシ
レートからなるグループから選ばれた親水性モイエティ
ーをもつヒドロキシベンゾトリアゾール又はヒドロキシ
ベンゾフェノンを含むことを特徴とする方法。 - (7)光学的に透明で、紫外線抵抗性でそして耐磨耗性
の被覆を施された物品であって以下を含むもの。 a、透明な固体高分子基板と、 b、一般式R_XM(OR′)_Z_−_Xの金属アル
コキシドの加水分解重縮合の反応生成物である紫外線抵
抗性でそして耐磨耗性の被覆と、紫外線を吸収するヒド
ロキシ含有有機化合物。但し上記一般式中Rは有機ラジ
カルであり、Mはケイ素、アルミニウム、チタン、ジル
コニウム、セリウム及びそれらの混合物からなるグルー
プから選ばれ、R′は低分子量アルキルラジカルであり
、ZはMの原子価であり、そしてXはZ未満であり又ゼ
ロでもよい。 - (8)請求項(7)に記載の物品であつて、R′がメチ
ル、エチル、プロピル及びブチルからなるグループから
選ばれ、Rがアルキル、ビニル、フェニル、メトキシエ
チル、γ−グリシドキシプロピル及びγ−メタクリルオ
キシプロピルからなるグループから選ばれ、そしてXは
1であり、又前述の基板がポリカーボネートであること
を特徴とする物品。 - (9)請求項(8)に記載の物品であつて、前述のヒド
ロキシ含有有機化合物が、エトキシレートとプロキシレ
ートとからなるグループから選ばれた親水性モイエティ
ーを含むヒドロキシベンゾフェノンとヒドロキシベンゾ
トリアゾールからなるグループから選ばれることを特徴
とする物品。 - (10)紫外線からプラスチック基板を護るための光学
的に透明な被覆組成物であって以下を含むもの。 a、紫外線を吸収する有機化合物、 b、アルキルアクリレートの混合物を含むポリマーと、 c、プラスチック基板に対する被覆組成物の接着を促進
するためにプラスチック基板と反応する溶剤。 - (11)請求項(10)に記載の組成物であって、前述
の有機化合物がヒドロキシ含有化合物を含むことを特徴
とする組成物。 - (12)請求項(11)に記載の組成物であって、前述
のヒドロキシ含有有機化合物がヒドロキシベンゾフェノ
ン又はヒドロキシベンゾトリアゾールを含むことを特徴
とする組成物。 - (13)請求項(10)に記載の組成物であって、前述
の溶剤がプロピレングリコールメチルエーテルを含むこ
とを特徴とする組成物。 - (14)請求項(13)に記載の組成物であつて、前述
の溶剤が更にトルエンを含むことを特徴とする組成物。 - (15)光学的に透明な、紫外線抵抗性の被覆が施され
た物品であって以下を含むもの。 a、光学的に重合された基板と、 b、1)紫外線を吸収する有機化合物と、 2)アルキルアクリレートの混合物を含むフィルム形成
ポリマーとを含む透明な紫外線抵抗性の被覆。 - (16)請求項(15)に記載の物品であって、基板が
ポリカーボネートであることを特徴とする物品。 - (17)請求項(15)に記載の物品であって、前述の
被覆が紫外線を吸収するヒドロキシ含有有機化合物を含
むことを特徴とする物品。 - (18)請求項(11)に記載の物品であって、前述の
有機化合物がヒドロキシベンゾフェノン及びヒドロキシ
ベンゾトリアゾールからなるグループから選ばれること
を特徴とする物品。 - (19)請求項(15)に記載の物品であつて、前述の
フィルム形成ポリマーがポリ(メチルメタクリレート)
又はポリ(エチルメタクリレート)を含むことを特徴と
する物品。 - (20)請求項(15)に記載の物品であって、金属ア
ルコキシドの加水分解重縮合の反応生成物である耐磨耗
性被覆を更に含むことを特徴とする物品。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/275,494 US5045396A (en) | 1988-11-23 | 1988-11-23 | UV resistant primer |
| US276276 | 1988-11-25 | ||
| US07/276,276 US5199979A (en) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | UV resistant, abrasion resistant coatings |
| US275494 | 1988-11-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02242864A true JPH02242864A (ja) | 1990-09-27 |
| JPH0735485B2 JPH0735485B2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
ID=26957449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1302303A Expired - Lifetime JPH0735485B2 (ja) | 1988-11-23 | 1989-11-22 | 耐uv性、耐磨耗性被覆 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0735485B2 (ja) |
| KR (1) | KR0141382B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04226572A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-08-17 | Ppg Ind Inc | 耐摩耗性被覆組成物及びその製法 |
| US5756628A (en) * | 1996-03-11 | 1998-05-26 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Organic phyllotitanosilicate, shaped body thereof, and method for producing them |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55160033A (en) * | 1979-04-18 | 1980-12-12 | Gen Electric | Polycarbonate product and manufacture |
| JPS62172071A (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-29 | Nippon Paint Co Ltd | 塗料組成物 |
-
1989
- 1989-11-22 KR KR1019890016989A patent/KR0141382B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-22 JP JP1302303A patent/JPH0735485B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55160033A (en) * | 1979-04-18 | 1980-12-12 | Gen Electric | Polycarbonate product and manufacture |
| JPS62172071A (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-29 | Nippon Paint Co Ltd | 塗料組成物 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04226572A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-08-17 | Ppg Ind Inc | 耐摩耗性被覆組成物及びその製法 |
| US5756628A (en) * | 1996-03-11 | 1998-05-26 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Organic phyllotitanosilicate, shaped body thereof, and method for producing them |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR900007981A (ko) | 1990-06-02 |
| JPH0735485B2 (ja) | 1995-04-19 |
| KR0141382B1 (ko) | 1998-06-15 |
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