JPH02243523A - 光学素子成形用型 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、レンズ５プリズム等のガラスよりなる光学素
子を、ガラス素材のプレス成形により製造するのに使用
される型に関するものである。

［従来の技術］ 研摩Ｃ程を必要としないでガラス素材のプレス成形によ
ってレンズを製造する技術は従来のレンズの製造におい
て必要とされた複雑な工程をなくし、簡単［１つ安価に
レンズを製造することを可能とし、近来、レンズのみな
らずプリズムその他のガラスよりなる光学素子の製造に
使用されるようになってきた。

このようなガラスの光学素子のプレス成形に使Ｉｎされ
る型材に要求される性質としては、硬さ、耐熱性、離型
性、鏡面加工性等に優れている事が挙げられる。従来、
この神の型材としして、金属、セラミックス、及びそれ
らをコーティングした材料等、数多くの提案がされてい
る。いくつかの例を挙げるならば、特開昭４９−５１１
１２には１３ｃｒマルテンサイト鋼が、特開昭５２−４
５６１３にはＳｉＣ及びＳｉ３Ｎ４が、特開昭６０−２
４６２３０には超硬合金に貴金属をコーティングした材
料が提案されている。

また、特開昭６１−１８３１３４には、ダイヤモンド薄
膜又はダイヤモンド状炭素膜をコーティングした材料も
提案されている。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、１３ｃｒマルテンサイト鋼は酸化しやす
く、さらに高温でＦｅが硝子中に拡散して硝ｒが着色す
る欠点をもつ。又、ＳｉＣ、５ｉｓＬは−・成約に酸化
されにくいとされているが、高温ではやはり酸化がおこ
り表面にＳｉＯ□の膜が形成される為硝子と融着を起こ
し、さらに高硬度の為型自体の加］二性が極めて悪いと
いう欠点を持つ。又、貴金属をコーディングした材料は
融着は起こしにくいが、極めて軟らかい為、傷がつきゃ
すく又変形しやすい欠点を持つ。

また、ダイヤモンド薄膜をコートしたものは、その表面
が数１０００人〜数μｍ程度の凹凸を有し、平坦でない
ために、面積度の良好なレンズが得られないという欠点
がある。史に５特開昭６１−１８３１３４のようにイオ
ンビーム・スパッタによって形成した単なる均一組成の
ダイヤモンド状炭素膜は窒素雰囲気下で成形すると、ガ
ラス中の酸化鉛が還元されて鉛となって析出し、型の面
積度や耐久性を低下させたり、成形したレンズの面積度
を低下させるという問題があった。

［課題を解決するための手段１ 本発明に従って、ガラスよりなる光学素子のプレス成形
に用いる光学素子成形用型において、型母材の少なくと
も成形面に、該成形面に平行に（１００）面が配向して
いるダイヤモンド膜が被覆されていることを特徴とする
光学素子成形用型、さらにガラスよりなる光学素子のプ
レス成形に用いる光学素子成形用型において、型母材の
少なくとも成形面に１周期律表４ａ、５ａおよび６ａ族
の金属：ＳｉおよびＡｌの炭化物、窒化物、炭窒化物、
炭酸窒化物、硼化物、硼炭化物、１ｉｌｌ窒化物：並び
に１３　（硼素）の炭化物および窒化物から選ばれる１
種以上の組成を有する単層または２層以上からなる中間
層が形成されており、該中間層を介して該成形面に平行
に（１００）面が配向しているダイヤモンド膜が被覆さ
れていることを特徴とする光学素子成形用型が提供され
る。

本発明は、光学素子成形用型にコーディングされる材料
として優れた性質を有するダイヤモンド膜に関して従来
問題とされていた表面の平坦性を改善することにより、
光学素子成形用型として耐久性、成形性に優れた実用に
供し得る光学素子成形用型を提供するものである。

ダイヤモンド膜は、化学的に安定かつ不活性であるため
高温度においても鉛またはアルカリ元素を大量に含む光
学素子と反応することなく、また膜硬度が非常に高く、
型表面にすり傷等を発生したりプレス成形に際し塑性変
形を引き起こしたりしない。従って、ダイヤモンド膜の
表面がガラス素子成形において像形成品質が良好に得ら
れる程度に平坦であれば、光学素子成形用型材料として
これ程優れたものはない。

ところで、ダイヤモンドを気相合成する方法は、特開昭
５８−５１１００、特開昭５８−１１０４９４、持分告
６１−２６３２等により公知である。

また、ダイヤモンド砥粒を用いて基板に微小な傷を形成
することによりダイヤモンド結晶の核発生密度を白土さ
せ膜状にする方法（持分告６２−２７０３９　）が知ら
れている。これらの方法により形成されるダイヤモンド
膜の表面は、一般に数１０００人〜数μｍ程度の凹凸を
有している。

一方、ダイヤモンド結晶の合成において合成条件により
結晶面方位を制御できることが知られている（小橋、佐
藤、雪野、加茂、瀬高＝３３回応物要旨集）ｐ２８５　
（１９８６春））。

従って、光学素子成形用の型材料に＋ｉｉｊ述の手法を
用いてダイヤモンド膜を形成する。このとき。

合成条件を調整し、型表面に平行にダイヤモンド結晶の
（１００）面が型表面に向くように結晶面方位を制御す
る。ダイヤモンドの（＋００）面は（＋００）、（Ｉｌ
ｌ）、（＋１０）面のうちもっとも柔らかい面であるこ
とは良く知られている。（１００）而を研摩あるいはエ
ツチングにより表面粗さがＲ，、、で口、０３μｍ以壬
にな６ように平坦化する。なお（１００）而が完全に型
表面に平行である必要はなく多少傾いていても良い。ま
た余り多くなければ（Ｉｌｌ）、（１１０）が存在して
もさしつかえない。

まず、プレス成形用型のけ材として精密加工が容易で、
耐熱性、耐熱衝撃性のある材料、例えば、タングステン
・カーバイド、サーメット、ジルコニアを球面形状もし
くは非球面形状に高精度に加工した心材を、ダイヤモン
ド砥粒を分散したアルコール溶液中に入れ超音波洗浄器
を用いて傷付は処理する。次に、マイクロ波プラズマＣ
ＶＤ法、熱フイラメントＣＶＤ法、プラズマ・ジェット
法、Ｅ　ＣＲプラズマＣＶＤ法等によりダイヤモンド薄
膜を形成する。このとき使用するガスは含炭素ガスであ
るメタン、エタン、プロパン、エチレン、ベンゼン、ア
セチレンなどの炭化水素、塩化メチレン、四塩化炭素、
クロロホルム、トリクロールエタンなどのハロゲン化炭
素、メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコー
ル類、（ａｌｌ、、１　ｚｃＯ、（Ｃａｌｌａ）　ｚｃ
ｏなとのケトン類やｃｏ　、　ｃｏｗなとのガスとＮ、
　、Ｉｌ、　、０．．１１２０　、Ａｒ等の不活性ガス
である。特に、Ｃ１１４と１１２を用いた系では使用す
る装置パラメーターにより異なるが、我々が用いた装置
系ではメタン濃度を１〜３％とすることにより（１００
）面が母材表面に平行に成長したダイヤモンド膜を形成
することができる。

次に、この面を従来よりダイヤモンドの研摩法として知
られているダイヤモンド粉末とラップ盤の１種であるス
カイフ盤を用いる方法や、水素雰囲気下で６００℃〜８
５０℃加熱した鋳鉄板とダイヤモンド膜を摺り合せるこ
とにより平坦化する方法や、イオンビームエッヂング（
ＩＤＥ）、イオンビームアシストエツチング（ｌ　ＢＡ
Ｅ）、　反応性イオンエツチング（ＲＩＥ）、反応性イ
オンビームエツチング（ＲＩＢＥ）等のドライエツチン
グにより平坦化する。例えば、酸素によりエツチング（
アッシング）を行なう場合を考えると、（＋００）面は
他の（Ｉｌｌ）、（＋１０）面に比較し酸化されにくい
ためエツチングレートの制御性が高く平坦化を行なう上
で他の面よりも優れている。

次に、上述した研摩を行なう場合、特に、機械的研摩に
より平坦化するようなときには、ダイヤモンド膜と型母
材との密着性が充分でないと、膜が剥離したり、カケた
りする問題が発生する。また、ダイヤモンド膜を研摩す
るためにはダイヤモンドの膜厚は厚い方が好ましいが、
一方、膜厚が厚くなると、膜の内部応力が大きくなるた
め基体となる型母材との密着性が劣化する傾向がある。

そこで、研摩するために必要、十分な膜厚を有し、しか
も機械的な研摩を行なってもも基体であるＨ：）　／す
材と十分な密着性を維持するダイヤモンド膜を形成する
ため、基体とダイヤモンド層の間に密着性を向上させる
ための中間層を設けることが好ましい。ここで、中間層
はダイヤモンド膜の内部応力を緩和したり、熱膨張係数
の違いを緩和したり、基体と中間層とダイヤモンド層間
の結合力（密首力）の高いことにより総合的にダイヤモ
ンド膜と型母材との密着性を高めるものである。こうし
た観点から選ばれる中間層の材質としては、周期律表４
ａ、５ａおよび６ａ族の金属：Ｓｌおよび＾ｌの炭化物
、窒化物、炭窒化物５炭酸窒化物、硼化物、硼窒化物及
び硼炭化物；並びに１３（硼素）の炭化物および窒化物
から選ばれるＩ　Ｐｎ以１・、の組成を有する単層また
は２層以上の複層からなるものであれば良い。

なお、ダイヤモンド層中に、窒素、酸素、水素、フッ素
が数１００００ｐｐｍ以下の範囲で微量含まれていても
さしつかえない。

［実施例］ 以下図面を参照しながら、本発明の具体的な実施例を説
明する６ 実施例１ 第１図に示すマイクロ波プラズマＣＶＤ装置を用い、Ｗ
ｅ−１０％ＣＯからなる型Ｌ）材上にダイヤモンド薄膜
を５μｍ析出させた。このとき、型母材の表面は成形面
形状に鏡面加工した後ダイヤモンド核発生密度をＬげる
ため、粒径１５μｍのダイヤモンド砥粒をエチルアルコ
ールに分散した溶液中で１時間超音波洗浄器中で傷付は
処理する。

鏡面加工の程度によっては、前述の傷付は処理を行なわ
なくても良い。ダイヤモンド薄膜の形成は、第１図のマ
イクロ波プラズマＣＶＤ装置により、まず排気系ｌによ
りｌ　Ｘ　Ｉ　Ｏ−’Ｔｏｒｒまで排気した後、ガス供
給系２により、ＣＩ＋、　＝　２５ＣＣＵ、　Ｉ＋。

＝　９８　ＳＣＣＭの流ｍで反応室に送り１反応室内の
圧力を３５　Ｔｏｒｒとした。次に、２．４５Ｇ１１７
．のマイクロ波３を用いマイクロ波のパワーを４００Ｗ
として約５μｍ厚のダイヤモンド多結品膜を型母材上に
形成した。このとき、型母材の温度は、８５０℃とした
。得られたダイヤモンド薄膜の表面粗さを触針式の表面
粗さ計により測定したところＲ，、，０，３μｍであっ
た。またＸ線回折により（１００）面が、はぼ基体表面
に平行に配向していることをｇｓ認した。

次に、このダイヤモンド薄板の表面を所望する球面形状
を有する錆鉄■１と摺り合せることにより研摩１．た。

このとき、研摩面の周速は、早均約２　Ｏｒ：ｍ／　ｍ
ｉｎ　、研摩荷重６００　ｇ／ｃｍ”　、雰囲気は水素
ガスで約：３０　ｎ　Ｔａｒｒと１．　、　Ｖｔ　１２
　！ＩＩＩの温度は８００℃とした。なお、この研摩装
置は真空装置内にあり、研摩する前にはｌ　Ｘ　Ｉ　Ｏ
−’Ｔｏｒｒまで排気した後、前述の圧力まで、水素を
供給するものである。この研摩により、膜表面の表向粗
さがＲ＠　ａ　ｗで０．０３ａｍ、膜１ワは４ｕｍであ
った。このときの研摩速度は１μｍ／ｈであった。

比較例 前述の型母材を用い、第１図のマイクロ波プラズマＣＶ
　Ｉ）装置により、同様に排気した後、ガス供給系２に
より、　ＣＩ＋、を０．５　Ｓ（：ＣＭ、　Ｉ＋□を’
１９．５３ＣＣＭ流し、反応室内の圧力を３５Ｔｏｒｒ
とし、同条件のマイクロ波放電により、約５　ｕ　ｍ厚
のダイヤモンド薄膜を型母材上にＩＦニ成した。このと
き型ＲＪ材の温度は８５０℃とした。得られた膜の表向
粗さはＲ，、、で１μｍであった。またＸ線回折により
（ＩＩＩ）、（１１０）ピークが得られ、特に（ｚＮＩ
Ｔｉｉが、主体の膜であることがねかった。次に、前述
と同様にして膜表面を研摩したところ、研摩後の膜表面
の表面粗さは、Ｒ１，８で０゜０５μｍ、膜厚は３μｍ
であった。このときの研摩速度は０．４ｕｍ／ｈであっ
た。

このようにダイヤモンド薄膜が型Ｆｉ）材表面に対しく
１００）面を平行墨こ配向させた場合、そうでない場合
と比べ研摩速度が格段に速くできるだけでなく、研摩後
の表向粗さも、良好にすることができる。

第２図及び第３図は本発明に係る光学素子成形用型の１
つの実施態様を示すものである。

第２図は光学素子のプレス成形前の状態を示し、第３図
は光学素子成形後の状態を示す。第２図中ｌは型母材、
２は該型１１材のガラス素材の接触する成形前に形成さ
れたダイヤモンド層、３はガラス素材であり、第３図中
４は光学素子である。第２図に示すように型の間に置か
れた硝子素材３をプレス成形することによって、第２図
に示すようにレンズ等の光学素子４が成形される。

次に、本発明による光学素子成形用型によって硝子レン
ズのプレス成形を行なった例について、詳述する。下記
の表１は実験に供した型材の種類を示す。

表１ Ｎｏ、１〜３は比較材であり、Ｎｏ、４は本発明で提案
する材料である。母材として超硬合金ＷＣ（９０％）＋
Ｃｎ（１０％）を使用した。ト紀の例に使用したレンズ
の成形装置を第４図に示す。

第４図中、５１は真空槽本体、５２はそのフタ、５３は
光学素子を成形する為のＬ型、５４はその下型、５５は
−Ｅ型をおさえるための上型おさえ、５６は用型、５７
は型ホルダ−，５８はヒータ、ｂ９は１型をつさｒ　’
、−）るつき上げ棒、６０は該つき１−げ棒を作動する
エアシリンダ、６１は油回転ポンプ、８２，６３．６４
はバルブ、６５は不活性ガス流入バイブ、６６はバルブ
、６７はリークバイブ、６８はバルブ、６９は温度セン
サ、７０は水冷バイブ、７１は真空槽を支持する台を示
す。

レンズを製作する工程を次に述べる。

フリント光学硝子（ＳＦ＋４）を所定の量に調整し、球
状にした硝子素材を型のキャビティー内に置き、これを
装置内に設置する。

ガラス素材を投入した型を装置内に設置してから真空槽
５１のフタ５２を閉じ、水冷バイブ７０に水を流し、ヒ
ータ５８に電流を通す、この時窒素ガス用バルブ６６及
び６８は閉じ、排気系バルブ６２，６３．６４も閉じて
いる。尚油回転ポンプ６１は常に回転している。

バルブ６２を開は排気をはじめＩ　Ｏ−”「ｏｒｒ以下
になったらバルブｂ２電閉じ、・・、ｌ／７６６を開い
て窒素ガスをボンベより真空槽内に導入する。所定温度
になったらエアシリンダ６０を作動させて１０　ｋｇ／
　ｃｍ”の圧力で５分間加圧する。圧力を除去した後、
冷却速度を一り℃／ｍｉｎで転位点以下になるまで冷却
し、その後は一り０℃／ｍｉｎ以−Ｌの速度で冷却を行
ない、２００℃以下に下がったらバルブ６６を閉じ、リ
ークバルブ６３を開いて真空槽５１内に空気を導入する
。それからフタ５２を開は上型おさえをはずして成形物
を取り出す。

上記のようにして、フリント系光学硝子Ｓ　Ｆ１４（軟
化点５ｐ＝５８６℃、転位点”Ｔ’　ｇ　＝４８５℃）
を使用して、第３図に示すレンズ４を成形した。この時
の成形条件すなわち時間−温度関係図を第５図にボす。

次に成形したレンズの表面粗さ及び成形前後での型の表
面粗さを測定した。その結果を表２にンドす。

次に融着をおこないＮｏ、Ｉ、４について同じ型を用い
て２００回の成形を行なった後表面１１さを測定した。

その結果を表３に示す。

表３ ■−述の表２１表３の結果から明らかなように本発明に
よる型材は硝子とのｍ型性にすぐれ、くり返し使用して
も従来の型材に比校して表面の劣化が極めて少ない。

実施例２ 型１’ｊＪ材としてＷＣ（９０％）＋Ｃｏ（１０％）を
用い、型表面を成形面形状に鏡面加工した後、　ＳｉＣ
を約１μｍスパッタした。この後実施例１と同様の方法
条件によりダイヤモンド膜２０　ｇ、　ｍ形成した。こ
の膜表面粗さはＦ？、、、　０．５μｍで、Ｘ線回折よ
り（＋００）而が基体表面に平行に配向していることを
確認した。

次に、実施例１と同様の方法により膜表面を研摩し、表
面粗さがＲ，、、０，０３μｍの鏡面を得た。ＴｉＣ，
ＴａＣ，１ｌｆｃ、　ＺｎＣを中間層に用いても、同様
に（１００）面が配向しｓ　Ｒｗｈａｘ　Ｏ，０３μｍ
の鏡面を得ることができた。

次に、実施例１と同様にフリント系光学硝子（ＳＦ１４
）を成形した。この結果、成形されたレンズ、成形前の
型、成形後の型の表面粗さは、それぞれＲ，、，０，０
３μｍ、０．０３μｍ、０．０３μｍであった。また、
ｍ型性も良好であった。

更に、表４に示す型部材を用いて光学ガラスのプレス成
形を行なった。

表４ 第５図において、１０４は取入れ用置換室であり、＋０
６は成形室であり、１０８は蒸着室であり、＋１０は取
出し用置換室である。１１２゜１１４．１１６はゲート
バルブであり、＋１８はし・−ルであり、１２０は該レ
ール上を矢印へ方向に搬送せしめられるパレットである
。１２４゜１３８．１４０．１５０はシリンダであり、
１２６．１５２はバルブである。＋２８は成形室１０６
内においてレール１１８に沿って配列されているヒータ
である。

成形室＋０６内はパレット搬送方向に沿って順に加熱ゾ
ーンＩ　０６−１　、ブレスゾーン１ｏ６−２および徐
冷ゾーン＋　０６−３とされている。ブレスゾーン１０
６−２１こおいて、ｋＲ己クシリンダ１３８ロッド１３
４のＦ端には成形用を型部材１３０が固定されており、
」−記シリンダ−１４０のロッド１３６の上端には成形
用″ｔ−型部材１３２が固定されている。これら１−型
部材１３０及びド型部材１３２は、上記第２図の本発明
による１、Ｆ１４部材である。蒸着室＋０８内において
は、蒸着物質１４６を収容した容器＋４２及び該容器を
加熱するためのヒータ１４４が配置されている。

フリント系光学ガラス（ＳＦ＋４、中点５ｐ＝５８６℃
、ガラス転位点１ｇ＝４８５℃）を所定の形状及びＣＩ
法に粗加工して、成形のためのブランクを得た。

ガラスブランクをパレット１２０に装置し、取入れ置換
室１０４内の＋　２０−１の位置へ入れ、該位置のパレ
ットをシリンダ１２４のロッド１２２によりＡ方向に押
してゲートバルブ１１２を越えて成形室１０６内の１２
０−２の位置へと搬送し、以下同様に所定のタイミング
で順次新たに取入れ置換室１０４内にパレットを入れ、
このたびにパレットを成形室１０６内で１２０−２→・
・・→１２０−８の位置へと順次搬送した。この間に、
加熱ゾーン１０６−１ではガラスブランクなヒータ１２
８により徐々に加熱し＋　２０−４の位置で軟化点銀ト
とした上で、プレスゾーン１０６−２へと搬送し、ここ
でシリンダ１３８．１４０を作動させて上型部材＋３０
及び下型部材１３２によりｌ　Ｏｋｇ／　Ｃｍ”のＬＬ
力で５分間プレスし、その後加珪力を解除しガラス転位
点以下まで冷却し、その後シリンダ１３８，１４０を作
動させてＬ型部材１３０及びト型部材１３２をガラス成
形品から離型した。該プレスに際しては上記パレットが
成形円胴型部材として利用された。しかる後に、徐冷ゾ
ーンＩ　０６−３ではガラス成形品を徐々に冷却した。

尚、成形室！　０６内には不活性ガスを充満させた。

成形室１０６内においてｌ　２０−８の位置に到達した
パレットを、次の搬送ではゲートバルブ１１４を越えて
蒸着室１０８内の１２０−９の位置へと搬送した。通常
、ここで真空蒸着を行なうのであるが、本実施例では該
蒸着を行なわなかった。そして、次の搬送ではゲートバ
ルブ１１６を越えて取出し置換室＋１０内の１２０−１
０の位置へと搬送した。そして、次の搬送時にはシリン
ダ１５０を作動させてロッド＋４８によりガラス成形品
を成形装置１０２外へと取出した。

以」二の様なプレス成形の前後における型部材１３０．
１３２の成形面の表面粗さ及び成形された光学素子の光
学面の表面粗さ、ならびに成形光学素子と型部材１３０
．１３２との離型性について表５に示す。

次に融着が起きないＮｏ、ｌ、４について同＝・型部材
を用いて連続１７ｊ同のプレス成形を行なった。この際
の型部材１：３０，１３２の成形面の表面粗さおよび成
形された光学素子の光学面の表面粗さについて表６に示
す。

表６ 以上の様に本発明実施例においては、繰返しプレス成形
に使用しても良好な表面精度を十分に維持でき、融着を
生ずることなく良好な表面精度の光学素子が成形できた
。

特に型母材（Ｗ　Ｃ：　ａ　＝　５．５　ｘ　１０−’
）と、ダイヤモンド膜（ａ　＝　４．５　ｘ　１０−’
）の熱膨張係数の中間的な熱膨張係数を持つＳｉＣ（ａ
＝４．７　Ｘ１０−’）を中間層にすることにより、１
ｊ；１述の成形条件においても高耐久性をイｆすること
が確認された。また、中間層を形成しないでダイヤモン
ド層を２０μｍと厚くした場合にあったダイヤモンド層
の研摩あるいは光学素子の連続成形時の膜の部剥離やカ
ケといった問題も解決された。

［発明の効果］ 本発明の光学素子成形用型によれば、ガラスと離型性に
優れ、鏡面研磨が可能で、繰り返し使用しても従来の型
に比較して表面の劣化が極めて少ない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のダイヤモンド膜を形成するために用い
た成膜装置の概略断面図である。 第２図および第３図は本発明に係る光学素子成形用型の
実施態様を示す断面図で、第２図はプレス成形ｖ；１の
状態、第３図はプレス成形後の状態を示す。 第４図および第６図は本発明に係る光学素子成形用型を
使用するレンズの成形装置を示す断面図で、第４図は非
連続成形タイプ、第６図は連続成形タイプである。第５
図レンズ成形の際の時間温度関係図である。 ！・・・排気系、２・・・ガス供給系、３・・・マイク
ロ波発振器、３′・・・基体、４・・・型の母材、５・
・・ダイヤモンド膜、６・・・ガラス素材、７・・・成
形されたレンズ、５１・・・真空槽本体、５２・・・フ
タ、５３・・・（型、５４・・・下型、５５・・・」二
）４′！おさえ、５６・・・用型、５７・・・型ホルダ
−，５８・・・ヒーター、５９・・・つぎ［げ棒、６０
・・・エアシリンダ、６１−・油回転ポンプ、６２．６
３．６４・・・バルブ、６５・・・流入バイブ、６６−
・・バルブ、６７・・・流出バイブ、６８・・・バルブ
、６９・・・温度センサ、７０・・・水冷バイブ、７１
・・・台、１０２・・・成形装置、＋０４・・・取入れ
用置換室、１０６−・・成形室、１０８・・・蒸着室。 １１０・・・取出し用置換室、ＩＩ２・・・ゲートバル
ブ、＋１４−・・ゲートバルブ、１１６・・・ゲートバ
ルブ、１１８・・・レール、１２０・・・パレット、１
２２・・・ロッド、１２４・・・シリンダ、１２６　・
・・バルブ、＋２８・・・ヒータ、１３０・・・上型、
１３２−・・下型。 １：３４・・・ロッド、１３６・・・ロッド、１；３８
・・・シリンダ、１４０・・・シリンダ、１４２・・・
容器、１４４・・・ヒータ、１４６・・・蒸着物質、１
４８・・・ロッド、１５０・・・シリンダ、１５２・・
・バルブ。 第１図 代理人　　弁理士　山　ド　穣　串 第 ダ 図 第５ 図 Ｂ８聞（’５９） ニド続召ｔＩＪＩＥ昔Ｆ 平成　１年１１月２７日 特許庁長官　　占　ｔｌｌ　　文　毅　　殿１、事件の
表示 特願昭６３−３０７９３４号 ２、発明の名称 光学素子成形用型 ３、補正をする者 １１件との関係　　　　特許出願人 名　　称　　（１００）キャノン株式会社４、代理人〒
１０５　　ｆｆ１０３（４３１）＋８３１６、補正の内
容 （１）明細書の第２７頁１５〜１８行の「本発明の・・
・極めて少ない。」を 「本発明によれば、型の成形面と平行にダイヤモンドの
（１００）面を配向させることにより、この成形面に形
成されたダイヤモンド膜を容易に鏡面研磨することがで
き、従来実用化困難であったダイヤモンド膜を被覆した
型を実用化することができた。特に、ダイヤモンド膜を
用いることにより、高温でガラスと融着を起こしたり、
ガラス中に含有される鉛やアルカリ元素と反応すること
なく耐久性に優れた光学素子成形用型を得ることができ
た。」に訂正する ５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学
   素子成形用型において、型母材の少なくとも成形面に、
   該成形面に平行に（１００）面が配向しているダイヤモ
   ンド膜が被覆されていることを特徴とする光学素子成形
   用型。 ２、ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学
   素子成形用型において、型母材の少なくとも成形面に、
   周期律表４ａ、５ａおよび６ａ族の金属；ＳｉおよびＡ
   ｌの炭化物、窒化物、炭窒化物、炭酸窒化物、硼化物、
   硼炭化物、硼窒化物；並びにＢ（硼素）の炭化物および
   窒化物から選ばれる１種以上の組成を有する単層または
   ２層以上からなる中間層が形成されており、該中間層を
   介して該成形面に平行に（１００）面が配向しているダ
   イヤモンド膜が被覆されていることを特徴とする光学素
   子成形用型。