JPH0477322A - 光学素子製造用ガラスブランク - Google Patents
光学素子製造用ガラスブランクInfo
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- JPH0477322A JPH0477322A JP18714890A JP18714890A JPH0477322A JP H0477322 A JPH0477322 A JP H0477322A JP 18714890 A JP18714890 A JP 18714890A JP 18714890 A JP18714890 A JP 18714890A JP H0477322 A JPH0477322 A JP H0477322A
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- JP
- Japan
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- glass
- blank
- coating
- glass blank
- molding
- Prior art date
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- Granted
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B40/00—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it
- C03B40/02—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it by lubrication; Use of materials as release or lubricating compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はレンズ等の光学素子のプレス成形において成形
用素材として用いられるガラスブランクに関し、特にプ
レス時の型部材との反応を防止し且つ密着力及び摩擦力
を低下させ冷却過程でのワレ発生を防止して良好な光学
素子を得るためのガラスブランクに関する。
用素材として用いられるガラスブランクに関し、特にプ
レス時の型部材との反応を防止し且つ密着力及び摩擦力
を低下させ冷却過程でのワレ発生を防止して良好な光学
素子を得るためのガラスブランクに関する。
［従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来、
ガラスのリヒートプレスにおいて良好な成形品を得るた
めには、成形用素材ガラスと成形用型部材との間の融着
を防止することが大きな課題であった。このため、従来
、型部材を改良する各種の技術が提案されており、また
近年では更に上記融着防止のため、成形用素材の改良が
提案されはじめている。この様な成形用素材の改良に関
する提案としては、例えば、特公平２−１７７８号公報
、特公平２−１７７９号公報、特公平２−１７８０号公
報及び特公昭６１−２９８９０号公報に、ガラス基体の
表面に該ガラス基体よりもガラス転移点温度の高いガラ
スの被覆、酸化ケイ素被覆または炭素被覆を付与するこ
とが開示されている。また、特開平１−２６４９３７号
公報には、ガラス基体の表面に有機物の薄層を配置する
ことが開示されている。
ガラスのリヒートプレスにおいて良好な成形品を得るた
めには、成形用素材ガラスと成形用型部材との間の融着
を防止することが大きな課題であった。このため、従来
、型部材を改良する各種の技術が提案されており、また
近年では更に上記融着防止のため、成形用素材の改良が
提案されはじめている。この様な成形用素材の改良に関
する提案としては、例えば、特公平２−１７７８号公報
、特公平２−１７７９号公報、特公平２−１７８０号公
報及び特公昭６１−２９８９０号公報に、ガラス基体の
表面に該ガラス基体よりもガラス転移点温度の高いガラ
スの被覆、酸化ケイ素被覆または炭素被覆を付与するこ
とが開示されている。また、特開平１−２６４９３７号
公報には、ガラス基体の表面に有機物の薄層を配置する
ことが開示されている。
以上の様な改良により、型部材との融着防止の効果はあ
るが、しかし上記公報に開示の方法には、以下の様な問
題点がある。
るが、しかし上記公報に開示の方法には、以下の様な問
題点がある。
（イ）ガラス基体の表面に該ガラス基体よりもガラス転
移点温度の高いガラスの被覆を付与した場合には、プレ
ス圧で被覆ガラス層がヒビワレを生じここから基体ガラ
スかにじみ出て表面に部分的なくもりが発生したり部分
的に型部材との融着を生じたり、あるいは冷却過程でガ
ラスブランクと型部材との摩擦力が大きくなりガラスに
ワレが発生することがある。
移点温度の高いガラスの被覆を付与した場合には、プレ
ス圧で被覆ガラス層がヒビワレを生じここから基体ガラ
スかにじみ出て表面に部分的なくもりが発生したり部分
的に型部材との融着を生じたり、あるいは冷却過程でガ
ラスブランクと型部材との摩擦力が大きくなりガラスに
ワレが発生することがある。
（ロ）ガラス基体の表面に酸化ケイ素被覆を付与した場
合には、上記（イ）と同様であり、特に酸化ケイ素は型
部材とのなじみがよいために冷却過程でワレが発生しや
すく、また酸化ケイ素は熱膨張係数がガラス基体を構成
する通常の光学ガラスに比べて著しく低いために加熱時
に被覆がヒビワレを生じやすい。
合には、上記（イ）と同様であり、特に酸化ケイ素は型
部材とのなじみがよいために冷却過程でワレが発生しや
すく、また酸化ケイ素は熱膨張係数がガラス基体を構成
する通常の光学ガラスに比べて著しく低いために加熱時
に被覆がヒビワレを生じやすい。
（ハ）ガラス基体の表面に炭素被覆を必要以上に厚く付
与した場合には、炭素は還元剤であるためにガラス中の
酸素とも反応してガラス成分を還元し、ガラスを茶色に
着色させる。特に、ガラス基体として鉛含有ガラスを用
いる場合には、該ガラス中のＰｂＯが還元されて、着色
が著しく、透過率が低下する。
与した場合には、炭素は還元剤であるためにガラス中の
酸素とも反応してガラス成分を還元し、ガラスを茶色に
着色させる。特に、ガラス基体として鉛含有ガラスを用
いる場合には、該ガラス中のＰｂＯが還元されて、着色
が著しく、透過率が低下する。
（ニ）ガラス基体の表面に有機物薄層を配置する場合に
は、該有機物薄層が加熱時に分解し、場合によっては腐
食性のガス（例えば、塩素ガスやフッ素ガス）を発生し
て、プレス成形装置を汚染し型部材を含む装置の耐久性
を損ないやすいという問題がある。また、上記分解は部
分的にランダムに発生するため、表面精度が低下するこ
とがある。
は、該有機物薄層が加熱時に分解し、場合によっては腐
食性のガス（例えば、塩素ガスやフッ素ガス）を発生し
て、プレス成形装置を汚染し型部材を含む装置の耐久性
を損ないやすいという問題がある。また、上記分解は部
分的にランダムに発生するため、表面精度が低下するこ
とがある。
そこで、本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて、ガ
ラスブランクと型部材との反応を防止して成形品の（も
りを防止することに加えて、成形品と型部材との融着を
阻止するとともに、ワレ及び着色を防止することを目的
とするものである。
ラスブランクと型部材との反応を防止して成形品の（も
りを防止することに加えて、成形品と型部材との融着を
阻止するとともに、ワレ及び着色を防止することを目的
とするものである。
［課題を解決するための手段］
本発明によれば、上記目的を達成するものとして、
プレス成形により光学素子を製造する際に成形用素材と
して用いられるガラスブランクであって、ガラス基体の
少なくとも光学機能面が形成される表面に反応防止被覆
及び炭化水素被覆がこの順に付されていることを特徴と
する、光学素子製造用ガラスブランク、 が提供される。
して用いられるガラスブランクであって、ガラス基体の
少なくとも光学機能面が形成される表面に反応防止被覆
及び炭化水素被覆がこの順に付されていることを特徴と
する、光学素子製造用ガラスブランク、 が提供される。
ここで、上記反応防止被覆は、成形温度において、ガラ
スブランクと型部材とが反応してガラスブランクがくも
る現象を防止するために、ガラスブランクよりも融点の
高い物質が有効であり、例えばＡｌｘ ０３．５ｉＯａ
、ＭｇＦｚまたは蒸着用ガラスである。また、上記反
応防止被覆の厚さは、成形温度においてガラス成分が反
応防止被覆層を拡散して型部材表面に達しない膜厚を下
限とし、成形時にクラックの発生しない膜厚を上限し、
例えば１００〜５００人である。
スブランクと型部材とが反応してガラスブランクがくも
る現象を防止するために、ガラスブランクよりも融点の
高い物質が有効であり、例えばＡｌｘ ０３．５ｉＯａ
、ＭｇＦｚまたは蒸着用ガラスである。また、上記反
応防止被覆の厚さは、成形温度においてガラス成分が反
応防止被覆層を拡散して型部材表面に達しない膜厚を下
限とし、成形時にクラックの発生しない膜厚を上限し、
例えば１００〜５００人である。
また、上記炭化水素被覆は、極く微量の反応ガス層を型
部材とガラスブランクとの界面に形成することにより、
型部材とガラスブランクとの密着力を低下させ、融着及
びワレを防止するものである。この目的のために、炭化
水素被覆層の厚さは、例えば１０〜５０人である。該炭
化水素被覆層の厚さが薄すぎると十分な密着力低下効果
が得られず、また該炭化水素被覆層の厚さが厚すぎると
成形品の着色が著しくなり透過率低下を生ずる。このた
め、厚さを厚くしすぎると、成形後にガラスブランクの
表面に残存する炭化水素膜及び炭化水素膜とガラスとの
反応物を、後工程例えばアニール処理工程により、除去
することが必要となる。
部材とガラスブランクとの界面に形成することにより、
型部材とガラスブランクとの密着力を低下させ、融着及
びワレを防止するものである。この目的のために、炭化
水素被覆層の厚さは、例えば１０〜５０人である。該炭
化水素被覆層の厚さが薄すぎると十分な密着力低下効果
が得られず、また該炭化水素被覆層の厚さが厚すぎると
成形品の着色が著しくなり透過率低下を生ずる。このた
め、厚さを厚くしすぎると、成形後にガラスブランクの
表面に残存する炭化水素膜及び炭化水素膜とガラスとの
反応物を、後工程例えばアニール処理工程により、除去
することが必要となる。
炭化水素被覆層は、炭素被覆層に比較して、同一膜厚で
は膜中にＣＨ２が多量に含まれているため、ガラスブラ
ンクの透過率をあまり低下させることがなく、しかも融
着及びワレを防止する効果は極薄層（１０〜５０人厚）
でも十分である。
は膜中にＣＨ２が多量に含まれているため、ガラスブラ
ンクの透過率をあまり低下させることがなく、しかも融
着及びワレを防止する効果は極薄層（１０〜５０人厚）
でも十分である。
また、炭化水素被覆層を形成する方法は、炭化水素ガス
の高周波放電処理、イオンガン処理あるいは直流放電処
理等の、ガラスブランクに対してつき回りの良好な方法
を用いることができ、且つ上記方法は低コストの処理方
法であるという利点がある。
の高周波放電処理、イオンガン処理あるいは直流放電処
理等の、ガラスブランクに対してつき回りの良好な方法
を用いることができ、且つ上記方法は低コストの処理方
法であるという利点がある。
［実施例］
以下、図面を参照しながら本発明の具体的実施例を説明
する。
する。
第１図は本発明によるガラスブランクの一実施例を示す
断面図である。本実施例は、光学素子が両凸レンズであ
る例を示す。
断面図である。本実施例は、光学素子が両凸レンズであ
る例を示す。
第１図において、２はプレス成形の素材たるガラス基体
である。該ガラス基体としては、所望の光学的特性のレ
ンズを得るために必要な屈折率値及び分散値をもつ光学
ガラスを用いる。上記ガラス基体２は目的とするレンズ
形状に近似の形状及び寸法に仕上げられている。
である。該ガラス基体としては、所望の光学的特性のレ
ンズを得るために必要な屈折率値及び分散値をもつ光学
ガラスを用いる。上記ガラス基体２は目的とするレンズ
形状に近似の形状及び寸法に仕上げられている。
ガラス基体２の光学機能面が形成される表面（上下両面
）には、反応防止被覆３及び炭化水素被覆４がこの順に
付されている。
）には、反応防止被覆３及び炭化水素被覆４がこの順に
付されている。
上記反応防止被覆３としては、例えばＡｔ。
Ｏｓ 、５ｉｎｓ 、ＭｇＦａまたは蒸着用ガラスを用
いることができる。該反応防止被覆３の厚さは、例えば
１００〜５００人である。該反応防止被覆３は、真空蒸
着等の薄膜堆積技術を用いて形成することができる。
いることができる。該反応防止被覆３の厚さは、例えば
１００〜５００人である。該反応防止被覆３は、真空蒸
着等の薄膜堆積技術を用いて形成することができる。
上記炭化水素被覆の厚さは、例えば１０〜５０人、好ま
しくは１５〜３５人である。該炭化水素被覆の厚さは薄
すぎると効果が十分でなく、また厚すぎると成形品の透
過率低下が著しくなり、アニール工程が必要になる。該
炭化水素被覆４は、プラズマ処理やイオンガン処理等の
簡単な薄膜堆積技術を用いて形成することができる。該
炭化水素被覆４における炭素：水素の原子比は、例えば
１０／６〜１０１０．５であり、特に１ｏ１５〜１０／
１が好ましい。
しくは１５〜３５人である。該炭化水素被覆の厚さは薄
すぎると効果が十分でなく、また厚すぎると成形品の透
過率低下が著しくなり、アニール工程が必要になる。該
炭化水素被覆４は、プラズマ処理やイオンガン処理等の
簡単な薄膜堆積技術を用いて形成することができる。該
炭化水素被覆４における炭素：水素の原子比は、例えば
１０／６〜１０１０．５であり、特に１ｏ１５〜１０／
１が好ましい。
第２図は上記実施例のガラスブランクの製造に用いられ
る薄膜堆積装置の概略構成を示す模式図である。以下、
本図を参照しながらブランク製造の例を説明する。
る薄膜堆積装置の概略構成を示す模式図である。以下、
本図を参照しながらブランク製造の例を説明する。
第２図において、１２は真空槽であり、１４は該真空槽
に形成されている排気口である。該排気口は不図示の真
空排気源に接続されている。１６は上記真空槽１２内へ
ガスを導入するためのガス導入口である。該ガス導入口
は不図示のガス源に接続されている。
に形成されている排気口である。該排気口は不図示の真
空排気源に接続されている。１６は上記真空槽１２内へ
ガスを導入するためのガス導入口である。該ガス導入口
は不図示のガス源に接続されている。
上記真空槽重２内には、下部に蒸発源１８及びシャッタ
２０が配置されており、上部にガラス基体保持のための
ドーム状ホルダ２２、ガラス基体を加熱するためのヒー
タ２４及び被覆厚測定のための水晶膜厚モニタ２６が配
置されている。２８は高周波印加用アンテナである。尚
、３０は上記ホルダ２２に保持されているガラス基体で
ある。
２０が配置されており、上部にガラス基体保持のための
ドーム状ホルダ２２、ガラス基体を加熱するためのヒー
タ２４及び被覆厚測定のための水晶膜厚モニタ２６が配
置されている。２８は高周波印加用アンテナである。尚
、３０は上記ホルダ２２に保持されているガラス基体で
ある。
上記ガラス基体３０ （２）の表面に反応防止被覆３及
び炭化水素被覆４をこの順に付する際には、上記排気口
１４から排気を行い、真空槽１２内を減圧した後に、蒸
発源１８から反応防止被覆形成材料を蒸発させ、次いで
ガス導入口１６から炭化水素ガスを例えば５Ｘ１０−”
〜５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒとなるまで導入し、高周波印加
用アンテナ２８に例えば１００〜５００Ｗの高周波を印
加して、炭化水素プラズマを形成する。
び炭化水素被覆４をこの順に付する際には、上記排気口
１４から排気を行い、真空槽１２内を減圧した後に、蒸
発源１８から反応防止被覆形成材料を蒸発させ、次いで
ガス導入口１６から炭化水素ガスを例えば５Ｘ１０−”
〜５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒとなるまで導入し、高周波印加
用アンテナ２８に例えば１００〜５００Ｗの高周波を印
加して、炭化水素プラズマを形成する。
真空槽１２内に導入される炭化水素ガスとしては、例え
ばメタン、エタン、プロパン、エチレン、プロピレン、
アセチレンなどが例示できる。
ばメタン、エタン、プロパン、エチレン、プロピレン、
アセチレンなどが例示できる。
炭化水素被覆４における炭素：水素の原子比は堆積条件
によって変化するので、所望の原子比が得られる様に条
件を設定する。
によって変化するので、所望の原子比が得られる様に条
件を設定する。
次に、以上の様な装！を用いて上記実施例のガラスブラ
ンクを製造した実例を説明する。
ンクを製造した実例を説明する。
フリント系光学ガラス（ＳＦ８）を所定の形状に研摩仕
上げしてなるガラス基体３０を洗浄し、ホルダ２２にセ
ットした。ヒータ２４で３００℃に加熱し、真空槽１２
内の真空度がｌＸｌ０””Ｔｏｒｒ以下になるまで排気
口１４から排気した後、ガス導入０１６からＡｒガスを
５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒになるまで導入した。そして、高
周波印加用アンテナ２８に３００Ｗの高周波を印加して
、高周波放電を行い、ガラス基体３０のプラズマクリー
ニングを行った。その後、Ａｒガスの導入を停止し、ｌ
Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒの真空度に戻して、蒸発源１８から
蒸着用ガラスを蒸発させ、約３００入庫の反応防止被覆
（蒸着用ガラス層）３を形成した。次に、蒸発源１８か
らの蒸発を停止させ、ガス導入口１６からＣＨ，ガスを
ｌＸｌ０−”Ｔｏｒｒになるまで導入した。そして、高
周波印加用アンテナ２８に４００Ｗの高周波を印加して
高周波放電を行い、約３０入庫の炭化水素被覆４を形成
した。尚、上記炭化水素被覆４における炭素：水素の原
子比は、赤外分光分析による測定の結果、約１０／２で
あった。
上げしてなるガラス基体３０を洗浄し、ホルダ２２にセ
ットした。ヒータ２４で３００℃に加熱し、真空槽１２
内の真空度がｌＸｌ０””Ｔｏｒｒ以下になるまで排気
口１４から排気した後、ガス導入０１６からＡｒガスを
５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒになるまで導入した。そして、高
周波印加用アンテナ２８に３００Ｗの高周波を印加して
、高周波放電を行い、ガラス基体３０のプラズマクリー
ニングを行った。その後、Ａｒガスの導入を停止し、ｌ
Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒの真空度に戻して、蒸発源１８から
蒸着用ガラスを蒸発させ、約３００入庫の反応防止被覆
（蒸着用ガラス層）３を形成した。次に、蒸発源１８か
らの蒸発を停止させ、ガス導入口１６からＣＨ，ガスを
ｌＸｌ０−”Ｔｏｒｒになるまで導入した。そして、高
周波印加用アンテナ２８に４００Ｗの高周波を印加して
高周波放電を行い、約３０入庫の炭化水素被覆４を形成
した。尚、上記炭化水素被覆４における炭素：水素の原
子比は、赤外分光分析による測定の結果、約１０／２で
あった。
第３図は以上の様にして得られたガラスブランクを用い
てプレス成形が実施される装置の一例を示す断面図であ
る。
てプレス成形が実施される装置の一例を示す断面図であ
る。
第３図において、３２は真空槽本体であり、３４はその
蓋である。３６，３８．４０はそれぞれレンズをプレス
成形するための上型部材、下型部材及び胴型部材である
。４２は型ホルダであり、４４は上型部材押えである。
蓋である。３６，３８．４０はそれぞれレンズをプレス
成形するための上型部材、下型部材及び胴型部材である
。４２は型ホルダであり、４４は上型部材押えである。
４６はヒータであり、４８は上言己下型部材を突き上げ
るための突き上げ棒であり、５０は該突き上げ棒を作動
させるシリンダである。５２は真空排気ポンプであり、
５４．５６，５８．６０はバルブであり、６２は窒素ガ
ス等の非酸化性ガス導入のためのパイプであり、６４は
リークパイプであり、６６はバルブである。６８は温度
センサであり、７０は水冷バイブである。７２は真空槽
支持部材である。
るための突き上げ棒であり、５０は該突き上げ棒を作動
させるシリンダである。５２は真空排気ポンプであり、
５４．５６，５８．６０はバルブであり、６２は窒素ガ
ス等の非酸化性ガス導入のためのパイプであり、６４は
リークパイプであり、６６はバルブである。６８は温度
センサであり、７０は水冷バイブである。７２は真空槽
支持部材である。
上記上型部材３６、下型部材３８及び胴型部材４０とし
ては、例えば、超硬合金、Ｓ ｌ ＊ Ｎ４＋ＳｉＣ，
サイアロン、サーメット、Ａｌｚ Ｏｓ 。
ては、例えば、超硬合金、Ｓ ｌ ＊ Ｎ４＋ＳｉＣ，
サイアロン、サーメット、Ａｌｚ Ｏｓ 。
Ｚｒ０ｚ 、Ｃｒｙ Ｏｘ等からなる母材に必要に応じ
て表面にＳｉｘ Ｎ４ 、ＴｉＮ、ＴａＮ、ＢＮ。
て表面にＳｉｘ Ｎ４ 、ＴｉＮ、ＴａＮ、ＢＮ。
ＡＩＮ、ＳｉＣ，ＴａＣ，ＷＣ＋ 白金合金等のコーテ
ィングを施したものを用いることができる。
ィングを施したものを用いることができる。
次に、以上の様な装置において上記実施例のガラスブラ
ンクを用いてプレス成形した実例を説明する。
ンクを用いてプレス成形した実例を説明する。
上型部材３６及び下型部材３８として５ｉｘＮ４製のも
のを用い、これら型部材の光学機能面形成のための表面
を面精度ニュートン３本以内且つ中心線平均表面粗さ０
．０２μｍ以内とした。
のを用い、これら型部材の光学機能面形成のための表面
を面精度ニュートン３本以内且つ中心線平均表面粗さ０
．０２μｍ以内とした。
型内にガラスブランクを配置し、真空槽内な１ＸＩＯ−
”Ｔｏｒｒ以下になるまで排気し、次いで真空槽内に窒
素ガスを導入した。
”Ｔｏｒｒ以下になるまで排気し、次いで真空槽内に窒
素ガスを導入した。
５３０℃まで加熱した後に、シリンダ５０を作動させて
１００Ｋｇ／ａｍ”の圧力で５分間プレスした。その後
、２００℃以下まで徐々に冷却した。
１００Ｋｇ／ａｍ”の圧力で５分間プレスした。その後
、２００℃以下まで徐々に冷却した。
そして、真空槽内に空気を導入し、型を開いて成形品を
取出した。
取出した。
以上の様にして１００個のレンズを成形した。
得られたレンズの機能面を３７５０倍の走査型電子顕微
鏡で観察したところ表面欠陥は認められず、両面とも着
色やくもりのないものであった。
鏡で観察したところ表面欠陥は認められず、両面とも着
色やくもりのないものであった。
また、型部材との融着は全く発生せず、成形品ワレは全
く生じなかった。更に、レンズ両面の表面精度は良好で
あった。
く生じなかった。更に、レンズ両面の表面精度は良好で
あった。
［発明の効果Ｊ
以上説明した様に、本発明によれば、ガラス基体の少な
（とも光学機能面が形成される表面に反応防止被覆及び
炭化水素被覆をこの順に付することにより、ガラスブラ
ンクと型部材との反応を防止して融着を阻止することに
加えて、成形品にくもりや着色やワレや表面精度低下が
発生するのを防止することができる。
（とも光学機能面が形成される表面に反応防止被覆及び
炭化水素被覆をこの順に付することにより、ガラスブラ
ンクと型部材との反応を防止して融着を阻止することに
加えて、成形品にくもりや着色やワレや表面精度低下が
発生するのを防止することができる。
３０ニガラス基体。
Claims (4)
- （１）プレス成形により光学素子を製造する際に成形用
素材として用いられるガラスブランクであって、ガラス
基体の少なくとも光学機能面が形成される表面に反応防
止被覆及び炭化水素被覆がこの順に付されていることを
特徴とする、光学素子製造用ガラスブランク。 - （２）上記反応防止被覆がＡｌ＿２Ｏ＿３、ＳｉＯ＿２
、ＭｇＦ＿２または蒸着用ガラスである、請求項１に記
載の光学素子製造用ガラスブランク。 - （３）上記反応防止被覆の厚さが１００〜５００Åであ
る、請求項１に記載の光学素子製造用ガラスブランク。 - （４）上記炭化水素被覆の厚さが１０〜５０Åである、
請求項１に記載の光学素子製造用ガラスブランク。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18714890A JPH0745330B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 光学素子製造用ガラスブランク |
| US07/727,071 US5168404A (en) | 1990-07-17 | 1991-07-09 | Optical element and glass blank for producing the optical element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18714890A JPH0745330B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 光学素子製造用ガラスブランク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0477322A true JPH0477322A (ja) | 1992-03-11 |
| JPH0745330B2 JPH0745330B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=16200962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18714890A Expired - Fee Related JPH0745330B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 光学素子製造用ガラスブランク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745330B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5340373A (en) * | 1992-02-18 | 1994-08-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing optical element by press molding a blank having a component removed layer and a hydrocarbon coating |
| JP2005255487A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Hoya Corp | 精密プレス成形用プリフォームの製造方法および光学素子の製造方法 |
| JP2007334707A (ja) * | 2006-06-16 | 2007-12-27 | Hitachi Omron Terminal Solutions Corp | 複数の生体情報で認証を行う生体認証装置及びその方法 |
| AT514631B1 (de) * | 2012-03-12 | 2016-06-15 | Athena Automation Ltd | Kühlen von Spritzgussteilen nach dem Formen |
-
1990
- 1990-07-17 JP JP18714890A patent/JPH0745330B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5340373A (en) * | 1992-02-18 | 1994-08-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing optical element by press molding a blank having a component removed layer and a hydrocarbon coating |
| JP2005255487A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Hoya Corp | 精密プレス成形用プリフォームの製造方法および光学素子の製造方法 |
| JP2007334707A (ja) * | 2006-06-16 | 2007-12-27 | Hitachi Omron Terminal Solutions Corp | 複数の生体情報で認証を行う生体認証装置及びその方法 |
| AT514631B1 (de) * | 2012-03-12 | 2016-06-15 | Athena Automation Ltd | Kühlen von Spritzgussteilen nach dem Formen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0745330B2 (ja) | 1995-05-17 |
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