JPH02243693A - 2―メチル―1―オキサデチアセフアロスポリン合成用中間体及びその製造法 - Google Patents

2―メチル―1―オキサデチアセフアロスポリン合成用中間体及びその製造法

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JPH02243693A
JPH02243693A JP1061034A JP6103489A JPH02243693A JP H02243693 A JPH02243693 A JP H02243693A JP 1061034 A JP1061034 A JP 1061034A JP 6103489 A JP6103489 A JP 6103489A JP H02243693 A JPH02243693 A JP H02243693A
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Tsuneo Okonogi
小此木 恒夫
Yasushi Murai
村井 安
Masayuki Shibahara
聖至 柴原
Shinichi Kondo
信一 近藤
Shigeharu Inoue
重治 井上
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Meiji Seika Kaisha Ltd
Merck and Co Inc
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、ジャーナル・オブ・アンチビオティクス第
41巻、第1130.1137.1154頁(1988
年)および昭和61年特許公開第251585号公報記
載の抗菌剤として有用な2−メチル−1−オキサゾチア
セフ70スポリンの合成中間体である化合物(I)及び
(II )の新しい製法に関する。
更に詳しくは、式(IV)て表わされるオ・キサゾリン
化合物にアルキルノ、(を導入し2次いで得られるオキ
サゾリン化合物(1)に酸を作用させ、2−メチル−3
−メチレン−1−オキサセファム化合物(■)を得る製
法に関する。
すでに3位メチレンセファムや3位メチレン−1−オキ
サセファムは1種々のセファロスポリン抗生物質を製造
する際の中間体として有用であることが知られている。
2位にメチル基を有するl−オキサセファムに関しても
、2−メチル−3−メチレン−1−オキサゾチアセファ
ム化合物が、特開昭61−158985号公報に開示さ
れている。
しかし、その方法はペニシリンから合成された式(m)
で表わされるオキサゾリン化合物を中間体とし、対応す
る2−メチル−3−メチレン−1−オキサゾチアセファ
ム化合物(II )への変換には多くの工程を必要とす
るものである。
未発IyJ者はオキサゾリン化合物(III)を中間体
とするこの化合物(■りの筒便な合成法・を求め°(研
究し、この発明に至った。
h 〕へ N。
本発明では、ジャーナル・才ブ・アメリカン・ケミカル
・ソサイアティー第105巻、ff!2908頁、  
(1983年)記載の式(ff)で表わされる化合物に
有機金属化合物を作用させ、下記反応式に従って化合′
1R(I)を製造することができる。
上記式中 R1は水素、R2はメチル基を、またはR′
はメチル基、Rfは水素を示し、カルボン酸保護基R3
としてはペニシリンやセファロスポリンの化学で用いら
れる保護基であればいずれも使用可能であり1代表的な
ものとしてはメチル、エチル、第三ブチル、2,2.2
−)−リクロルエチル、2−トリメチルシリルエチル、
アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、P−二トロ
ヘンジル、P−メトキシベンジル、ベンズヒドリルなど
が例示できる。
ム、ジメチル亜鉛、ジメチル銅#(1)リチウム、メチ
ルリチウム、メチルチタニウムトリクロリド、ジメチル
チタニウムジクロリド、メチルトリイソプロポキシチタ
ニウムなどを例示することができる0反応は1通常窒素
やアルゴンなどの不活性気体中−78°Cから室温の範
囲で5分ないし10時間の範囲で終了する。
この反応は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタンなどの不活性溶媒中で実施することが
できる。
次いて、対応する化合物(n)は上記化合物(I)に酸
を作用させて、下記反応式に従って製造することができ
る。
(工V) 有機金属化合物としては、メチルマグネシウムプロミド
、メチルマグネシウムクロリドなどのグリニア試薬やト
リメチルマグネシラ(エフ Cエフ) この反応に用いる酸としては鉱酸、カルボン酸、スルホ
ン醇、ホスホン酸、及びルイス酸などを例示することが
できる。
好適には、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ト
ソフルオロメタンスルホン酸。
トソフルオロ酢酸などの有機酸、三ふっ化はう素、J1
!化亜鉛、塩化すず、三塩化チタンなどのルイス酸を用
いることができる。
反応は通常窒素やアルゴンなどの不活性気体中、−20
°Cか630℃の範囲で不活性溶媒中実施することかで
きる。
不活性溶媒としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ベン
ゼン、トルエンなどの炭化水素、塩化メチレン、クロロ
ホルム、ジクロロエタンなどのへ口炭北本素、ジエチル
エーテルジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテ
ル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステ
ル、アセトン、メチルイソブチルケトンなどのケトンを
例示できる。
また前記の原料物質は、オキサゾリン化合物(m)から
例えば次の反応式に従って製造することができる。すな
わら化合物(m)から(V)を経て(Vl)に至る方法
はテトラヘドロン・レタースU巻、 351頁(198
0年)に記載され、化合物(V)から(IT)に至る方
法はジャーナル・オフ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
アティー第105巻、第2908頁(+983年)に記
載されている。
(VZ) (工V) 災」11ニ ジフェニルメチル−3−フォルミルー ( (JR,5S)−3−フェニル−7−オキソ−4−
オキサ−2.6−ジアザビシクロ(3,2,Olヘプト
−2−エン−4−イル)−3−フランエイト1.09を
無水テトラヒドロフラン35mlに溶解し,アルゴン気
流中−78°Cに冷却後,メチルマグネシウムプロミド
のテトラヒドロフラン溶液(3mo 1/ l)1.4
3mlを加え,i。
分間攪拌する。
次いで酢酸0.245mlを加えた後,反応液を飽和基
化アンモニア水溶液に注入し。
酢酸エチルで抽出する.抽出液を水洗.乾燥後濃縮し,
残留物をシリカゲルのクロマトグラフィー(トルエン−
酢酸エチル=1:l)で精製し,ジフェニルメチル−4
−ヒドロキシ−3−メチレン−2− ( (IR,5S
)−3−フェニル−7−オキソ−4−オキサ−2、6−
ジアザビシクロ[3,2,Olヘプト−2−エン−4−
イル)ペンタノエイトの4位水酸基の異性体混合gIs
3 3 0 m 9を得る。
その4位に関する異性体混合比は、(S)体と(R)体
が約2:lである。
NMR (CDC 1.):δ(ppm)(S)体 1、33 (3H,d,J=6.66Hz)、4、42
 (IH,q,J=6.66Hz)。
5、09(IH,s)。
5、15 (IH,s)。
5、26 (IH,d,J=3.33Hz)、5、39
(IH,S)。
6、10 (IH,d,J零3− 33Hz)。
6、87(IH,S)。
7、10 〜7.90 (15H,m)。
(R)体 1、30 (3H,d,J−6.66Hz)。
4、37 (IH,q,J−6.66Hz)。
5、07 (IH,S)。
5、 17  (IH,s)。
5. 28  (IH,d、J=3.33Hz)。
5.45  (LH,s)。
5、 98  (IH,d、J=3. 33Hz)。
6、 87  (IH,53゜ 7、 10〜7. 90  (15M、m)  。
T R(CHC13)  :  Fmam  (Cm−
’)3450、 1779. 1635゜ 丈i1ス 実旅例1の生成物300mjを酢酸エチル5mlに溶解
し、三ふっ化はう素工チルエーテル錯体9μlを加え、
窒素気流中室温で2時間攪拌する。
反応液を炭醜水素ナトリウムを含む氷水に注入し、酢酸
エチルで抽出する。
拍出液を水洗乾燥後、濃縮するとジフェニルメチル(6
R,7R)−7−ペンズアミドー2−メチル−3−メチ
レン−1−才キサデチアセ7アム−4−カルボキシレイ
トの2位異性体混合物を得る。
この混合物をシリカゲルのクロマトグラフィー(トルエ
ン−酢酸エチル、、〜5:l)で粘製すると、2位の立
体異性体をそれぞれ(S)休10Bm2.(R)体49
m9を得る。
(S)体 NMR(CDC1,)  :  δ (ppm)1.3
9  (3)1.d、J=6.25)1z)。
4.22  (IH,q、J=6.25Hz)。
5.01.(IH,d、J−7,42Hz)。
5、 20  (IH,s)。
5、 32  (IH,s)  、 5、 37  (IH,s)  、 5、 39  (IH,s)。
6.67  (IH,d、J=7.42Hz)。
6.85  (IH,s)。
7.26〜7−82 (15H,rn)。
[R(CHC1−s  )  :  71111111
1  (cm−’)1770、 1740. 1670
゜ (R)体 NMR(CDC1,ン : δ (ppm)1、 19
  (3H,d、J=7.03)1z)  、4.59
  (IH,q、J =7.03Hz)。
5、 09  (IH,d、  J=7.42Hz) 
 、5、 22  (IH,s)。
5、 25  (IH,s)  、 5、 33  (IH,s)。
5、 40  (IH,s)。
6.68  (18,d、J=7.42Hz)。
6.90  (IH,s)。
7.26〜7.80  (15H,m)。
I R(CHCl x  )  :  Fmam  (
Cn1−’)1773、 1743. 1670゜

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下式( I )で表わされる化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1は水素、R^2はメチル基をまたはR^
    1はメチル基、R^2は水素を示し、R^3は水素また
    はカルボン酸保護基をそれぞれ示す。)。 2、下式(II)で表わされる化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1は水素、R^2はメチル基をまたはR^
    1はメチル基、R^2は水素を示し、R^3は水素また
    はカルボン酸保護基をそれぞれ示す。)。 3、下式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) で表わされる化合物に有機金属化合物を作 用させることを特徴とする請求項1記載の 化合物( I )の製造法。 4、請求項1記載の化合物( I )に酸を作用させるこ
    とを特徴とする請求項2記載の化 合物(II)の製造法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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J.ANTIBIOT.=1988 *

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