JPH02244664A - 集積回路パッケージリードの半田コーティング装置 - Google Patents
集積回路パッケージリードの半田コーティング装置Info
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- JPH02244664A JPH02244664A JP63102849A JP10284988A JPH02244664A JP H02244664 A JPH02244664 A JP H02244664A JP 63102849 A JP63102849 A JP 63102849A JP 10284988 A JP10284988 A JP 10284988A JP H02244664 A JPH02244664 A JP H02244664A
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/01—Manufacture or treatment
- H10W70/04—Manufacture or treatment of leadframes
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K3/00—Tools, devices or special appurtenances for soldering, e.g. brazing, or unsoldering, not specially adapted for particular methods
- B23K3/06—Solder feeding devices; Solder melting pans
- B23K3/0646—Solder baths
- B23K3/0669—Solder baths with dipping means
- B23K3/0676—Conveyors therefor
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0438—Apparatus for making assemblies not otherwise provided for, e.g. package constructions
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/70—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
- H10P72/76—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches
- H10P72/7604—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H10P72/7622—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by supporting substrates others than wafers, e.g. chips
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Molten Solder (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
倶−
本発明は、集積回路パッケージに関連する電気的リード
を半田付けする為の改良した方法及び装置に関するもの
である。
を半田付けする為の改良した方法及び装置に関するもの
である。
従米投亙
集積回路組立体の製造の間のプロセスの中の1つのステ
ップとして、従来鋼から構成されていたリードを半田で
コーティングするステップがある。
ップとして、従来鋼から構成されていたリードを半田で
コーティングするステップがある。
この半田コーティングは、集積回路装置の動作中に導電
性に悪影響を与えたり又半田付は性能に悪影響を与えた
りすることのあるリードの不所望の酸化を防止するのに
役立つ。リードの半田コーティングを実施する為に、ウ
ェーブソルダリング即ち流動半田付けは使用することの
可能な1つの半田付は技術である。このコーティングプ
ロセスは、集積回路パッケージをホルダー内に位置させ
、そのホルダーを溶融した半田波内に指向させることに
よって行なわれる。従来の方法は、各ICパッケージを
平坦状にパレット上に配置させ、矩形又は正方形のパッ
ケージの1側部を半田波に対面させ、該パレット上のパ
ッケージが半田波に近づきそれに入り込む、この方法に
おいて問題となることは、集積回路パッケージ及びその
外部リードが半田・波を介して通過した後に、該半田物
質は冷却する傾向となり、通常リードの端部に発生する
半田ドロップ乃至は半田塊を形成する。微細ピッチのリ
ードは中心間距離において通常約0.O25インチ離隔
されているので、形成される半田塊はリード間の間隙を
架橋することがあり、電気的に短絡した接触を発生させ
る。
性に悪影響を与えたり又半田付は性能に悪影響を与えた
りすることのあるリードの不所望の酸化を防止するのに
役立つ。リードの半田コーティングを実施する為に、ウ
ェーブソルダリング即ち流動半田付けは使用することの
可能な1つの半田付は技術である。このコーティングプ
ロセスは、集積回路パッケージをホルダー内に位置させ
、そのホルダーを溶融した半田波内に指向させることに
よって行なわれる。従来の方法は、各ICパッケージを
平坦状にパレット上に配置させ、矩形又は正方形のパッ
ケージの1側部を半田波に対面させ、該パレット上のパ
ッケージが半田波に近づきそれに入り込む、この方法に
おいて問題となることは、集積回路パッケージ及びその
外部リードが半田・波を介して通過した後に、該半田物
質は冷却する傾向となり、通常リードの端部に発生する
半田ドロップ乃至は半田塊を形成する。微細ピッチのリ
ードは中心間距離において通常約0.O25インチ離隔
されているので、形成される半田塊はリード間の間隙を
架橋することがあり、電気的に短絡した接触を発生させ
る。
■−孜
本発明は、以上の点に鑑みなされたものであって上述し
た如き従来技術の欠点を解消し、集積回路パッケージの
リードを半田でコーティングする為の改良した方法及び
装置を提供することである。
た如き従来技術の欠点を解消し、集積回路パッケージの
リードを半田でコーティングする為の改良した方法及び
装置を提供することである。
本発明の別の目的とするところは、集積回路パッケージ
の密接して離隔されているリードの半田コーティングの
間に半田の蓄積及び電気的短絡を防止する方法及び装置
を提供することである。
の密接して離隔されているリードの半田コーティングの
間に半田の蓄積及び電気的短絡を防止する方法及び装置
を提供することである。
豊−玖
本発明によれば、ICパッケージのリードは、該パッケ
ージ及びそのリードを溶融した半田波を介して通過させ
ることによってコーティングさせる。矩形又は正方形の
集積回路パッケージは、ホルダー又はパレット上に固定
的に位置されており、従って各パッケージは傾斜位置で
半田波に進入し且つそれから出る。又、各パッケージは
、該パレット上の回転した位置に設定され、従って該パ
ッケージの側部ではなく角部が半田波に進入し且つそこ
から出る。パレットに対して且つ半田波に対して相対的
にパッケージ組立体を回転させ且つ傾斜させることによ
って、不所望の半田塊が形成されることが防止され且つ
電気的短絡が防止される。
ージ及びそのリードを溶融した半田波を介して通過させ
ることによってコーティングさせる。矩形又は正方形の
集積回路パッケージは、ホルダー又はパレット上に固定
的に位置されており、従って各パッケージは傾斜位置で
半田波に進入し且つそれから出る。又、各パッケージは
、該パレット上の回転した位置に設定され、従って該パ
ッケージの側部ではなく角部が半田波に進入し且つそこ
から出る。パレットに対して且つ半田波に対して相対的
にパッケージ組立体を回転させ且つ傾斜させることによ
って、不所望の半田塊が形成されることが防止され且つ
電気的短絡が防止される。
失11
以下、添付の図面を参考に、本発明の具体的実施の態様
に付いて詳細に説明する。
に付いて詳細に説明する。
パレット10はアレイ状に着座している多数のICパッ
ケージ12を支持している0本発明において、矩形又は
正方形の集積回路(IC)パッケージは約45°回転さ
れ、従って各ICパッケージの角部は半田波14に向か
って対面する。該半田波は、ポンプ機構によって発生さ
れ、該ポンプ機構は、半田の貯留部乃至は容器16を超
えた与えられた高さへ溶融状態で半田を噴出させる。
ケージ12を支持している0本発明において、矩形又は
正方形の集積回路(IC)パッケージは約45°回転さ
れ、従って各ICパッケージの角部は半田波14に向か
って対面する。該半田波は、ポンプ機構によって発生さ
れ、該ポンプ機構は、半田の貯留部乃至は容器16を超
えた与えられた高さへ溶融状態で半田を噴出させる。
該ICパッケージは角度が付いた表面乃至はランプ18
上に着座されており、従って半田波に対面するICパッ
ケージの角部又はノーズは水平線と相対的に約10’乃
至20@の角度で上に向いて指向されている。該パッケ
ージは、各ICパッケージを包囲すると共に分離する交
差レール20によって所定位置に維持されている。更に
、フィンガー24を持ったゲート乃至はドア22は下降
されて、該パッケージを静止状態にしっかりと保持する
。夫々のICパッケージと接触する各フィンガー24の
部分は、該ICパッケージ下側のランプの角度に対応し
て、約10°乃至20’の角度を持つべく形状構成され
ている。
上に着座されており、従って半田波に対面するICパッ
ケージの角部又はノーズは水平線と相対的に約10’乃
至20@の角度で上に向いて指向されている。該パッケ
ージは、各ICパッケージを包囲すると共に分離する交
差レール20によって所定位置に維持されている。更に
、フィンガー24を持ったゲート乃至はドア22は下降
されて、該パッケージを静止状態にしっかりと保持する
。夫々のICパッケージと接触する各フィンガー24の
部分は、該ICパッケージ下側のランプの角度に対応し
て、約10°乃至20’の角度を持つべく形状構成され
ている。
従って、固定したICパッケージ組立体は、本発明によ
れば1例えばコンベヤ26によって半田波内へ又それを
介して移動される場合に、傾斜され且つ回転された位置
とされる。矩形又は正方形のICパッケージは回転した
配向状態に位置され、従って該パッケージが半田波に進
入する場合、隣接する側部は半田波に進入する方向に対
して角度を持っている。ICパッケージは、半田波を介
しての移動の経路に沿って、角度の付いた配向状態及び
傾斜した位置を維持する。好適な回転角度は、パレット
の移動経路と相対的に約45°である。
れば1例えばコンベヤ26によって半田波内へ又それを
介して移動される場合に、傾斜され且つ回転された位置
とされる。矩形又は正方形のICパッケージは回転した
配向状態に位置され、従って該パッケージが半田波に進
入する場合、隣接する側部は半田波に進入する方向に対
して角度を持っている。ICパッケージは、半田波を介
しての移動の経路に沿って、角度の付いた配向状態及び
傾斜した位置を維持する。好適な回転角度は、パレット
の移動経路と相対的に約45°である。
事実上、パッケージは半田波を介して波乗り運動し、従
って半田の蓄積や塊形成が発生すること無しに、半田は
外部パッケージリードをコーティングする。パレットが
半田波から脱出する場合、過剰な半田はこぼれ落ち半田
波に帰還する。従って、コーティングの過程中に、半田
物質を不当に失うことはない、半田波を介して傾斜させ
且つ回転させたICパッケージを通過させることによっ
て波乗り動作を行なわせているので、半田の塊形成やそ
の結果としての電気的短絡等の問題を発生すること無し
に、リードに実質的に滑らかな半田のコーティングを付
与することが可能である。
って半田の蓄積や塊形成が発生すること無しに、半田は
外部パッケージリードをコーティングする。パレットが
半田波から脱出する場合、過剰な半田はこぼれ落ち半田
波に帰還する。従って、コーティングの過程中に、半田
物質を不当に失うことはない、半田波を介して傾斜させ
且つ回転させたICパッケージを通過させることによっ
て波乗り動作を行なわせているので、半田の塊形成やそ
の結果としての電気的短絡等の問題を発生すること無し
に、リードに実質的に滑らかな半田のコーティングを付
与することが可能である。
以上、本発明の具体的実施の態様に付いて詳細に説明し
たが1本発明はこれら具体例にのみ限定されるべきもの
では無く1本発明の技術的範囲を逸脱すること無しに種
々の変形が可能であることは勿論である。
たが1本発明はこれら具体例にのみ限定されるべきもの
では無く1本発明の技術的範囲を逸脱すること無しに種
々の変形が可能であることは勿論である。
第1図は半田波に隣接する多数の集積回路パッケージを
支持するパレットの概略平面図、第2図は第1図のパレ
ット及び半田波の概略断面図、第3図はパレットが半田
波から出る場合の半田波と相対的なパレット及びICパ
ッケージを示した概略拡大側面図、である。 (符号の説明) 1o:パレット 12:ICパッケージ 14:半田波 16:半田貯蔵部(容器) 18 : 20 : 22 : 24 : 26 : ランプ 交差レール ゲート(ドア) フィンガー コンベヤ
支持するパレットの概略平面図、第2図は第1図のパレ
ット及び半田波の概略断面図、第3図はパレットが半田
波から出る場合の半田波と相対的なパレット及びICパ
ッケージを示した概略拡大側面図、である。 (符号の説明) 1o:パレット 12:ICパッケージ 14:半田波 16:半田貯蔵部(容器) 18 : 20 : 22 : 24 : 26 : ランプ 交差レール ゲート(ドア) フィンガー コンベヤ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、矩形又は正方形の集積回路パッケージのリードワイ
ヤを半田でコーティングする方法において、複数個の集
積回路パッケージをパレット上に位置させ、前記位置さ
せるステップは前記パレットの直線移動経路と相対的な
角度で前記パッケージを傾斜させ且つ前記パッケージの
側部が前記パレットの移動方向と相対的にな角度で回転
される様に前記パッケージを回転させることを包含して
おり、前記パレット及び前記パッケージを前記直線経路
に沿って且つ半田波を介して移動させ、従って前記パッ
ケージが不当に半田を蓄積すること無しに前記半田波を
介して効果的に波乗り動作を行なうことを特徴とする方
法。 2、特許請求の範囲第1項において、前記傾斜角度は前
記パレットと相対的に約10゜乃至約45゜であること
を特徴とする方法。 3、特許請求の範囲第1項において、前記パッケージの
回転角度は約45゜であることを特徴とする方法。 4、集積回路パッケージのリードを半田でコーティング
する装置において、リードを持った複数個の矩形又は正
方形の集積回路パッケージ、実質的に直線経路に沿って
搬送すべく前記パッケージを支持しており前記パッケー
ジが着座される表面を持ったランプを具備しており前記
ランプ表面がパレットの支持表面と相対的に傾斜されて
いるランプ、前記パッケージの各々を固定し且つ傾斜し
た位置に維持する手段、を有することを特徴とする装置
。 5、特許請求の範囲第4項において、前記ランプ表面は
前記パレットの支持表面と相対的に約10゜乃至20゜
の角度で傾斜されていることを特徴とする装置。 6、特許請求の範囲第4項において、前記位置維持手段
は、前記パッケージと摩擦接触する為のフィンガーを持
ったゲートを有することを特徴とする装置。 7、特許請求の範囲第6項において、前記フィンガーは
前記パッケージと接触する角部分を持っており、前記フ
ィンガーの前記角部分は前記ランプ表面の傾斜角度と対
応すべく構成されていることを特徴とする装置。 8、特許請求の範囲第4項において、前記位置支持手段
は、前記直線経路と相対的に回転した位置に前記パッケ
ージを保持し、従って隣接側部が前記直線経路と相対的
に角度を付けて配設されていることを特徴とする装置。 9、特許請求の範囲第8項において、前記隣接側部は、
前記直線経路と相対的に90゜又は180゜以外の角度
を画定することを特徴とする装置。 10、特許請求の範囲第8項において、前記パレット及
びパッケージが傾斜され且つ回転された位置で前記半田
波を介して搬送される場合に、前記リードワイヤを半田
でコーティングする為に半田波を供給する手段を有する
ことを特徴とする装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/043,895 US4766842A (en) | 1987-04-29 | 1987-04-29 | Method and means for wave soldering of leads of an integrated circuit package |
| US43,895 | 1987-04-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02244664A true JPH02244664A (ja) | 1990-09-28 |
| JP2755388B2 JP2755388B2 (ja) | 1998-05-20 |
Family
ID=21929452
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63102849A Expired - Lifetime JP2755388B2 (ja) | 1987-04-29 | 1988-04-27 | 集積回路パッケージリードの半田コーティング装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4766842A (ja) |
| EP (1) | EP0290089B1 (ja) |
| JP (1) | JP2755388B2 (ja) |
| KR (1) | KR880013245A (ja) |
| DE (1) | DE3883283T2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4887762A (en) * | 1987-03-12 | 1989-12-19 | British Aerospace Public Limted Company | Solder coating processes |
| JP2794022B2 (ja) * | 1988-11-11 | 1998-09-03 | 三生製薬株式会社 | ブナゾシン或いはその塩類含有経皮適用製剤 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3452916A (en) * | 1967-07-07 | 1969-07-01 | Andis Allen R | Tinning-oil level control for a solder-wave apparatus |
| JPS60206559A (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-18 | Seiko Instr & Electronics Ltd | はんだ付方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3053215A (en) * | 1956-12-03 | 1962-09-11 | Rca Corp | Apparatus for soldering printed sheets |
| US3713876A (en) * | 1970-04-07 | 1973-01-30 | Western Electric Co | Methods of metal coating articles |
| US3705457A (en) * | 1970-11-02 | 1972-12-12 | Electrovert Mfg Co Ltd | Wave soldering using inert gas to protect pretinned and soldered surfaces of relatively flat workpieces |
| EP0078900B1 (de) * | 1981-10-22 | 1985-03-20 | Siemens-Albis Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Aufbringen einer Lotschicht auf eine Leiterplatte |
| US4666077A (en) * | 1983-02-28 | 1987-05-19 | Electrovert | Solder pot for wave soldering machine |
| DE3316153C1 (de) * | 1983-05-03 | 1984-05-03 | Kabushiki Kaisha Tamura Seisakusho, Tokyo | Haltevorrichtung zum Tragen eines Feldes von Gegenständen, die einem Lötvorgang ausgesetzt werden sollen, und Gerät zum Befördern der Gegenstände zur Haltevorrichtung |
| US4566624A (en) * | 1983-12-16 | 1986-01-28 | Hollis Automation, Inc. | Mass wave soldering system |
| JPS625651A (ja) * | 1985-03-28 | 1987-01-12 | Senjiyu Kinzoku Kogyo Kk | 微細構造の被めっき部分のめっき方法およびそのための支持装置 |
| US4657172A (en) * | 1985-10-31 | 1987-04-14 | American Microsystems, Inc. | Apparatus and method of solder coating integrated circuit leads |
-
1987
- 1987-04-29 US US07/043,895 patent/US4766842A/en not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-04-27 JP JP63102849A patent/JP2755388B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1988-04-28 DE DE88200839T patent/DE3883283T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-04-28 EP EP88200839A patent/EP0290089B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-04-29 KR KR1019880004903A patent/KR880013245A/ko not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3452916A (en) * | 1967-07-07 | 1969-07-01 | Andis Allen R | Tinning-oil level control for a solder-wave apparatus |
| JPS60206559A (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-18 | Seiko Instr & Electronics Ltd | はんだ付方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR880013245A (ko) | 1988-11-30 |
| JP2755388B2 (ja) | 1998-05-20 |
| US4766842A (en) | 1988-08-30 |
| EP0290089B1 (en) | 1993-08-18 |
| EP0290089A1 (en) | 1988-11-09 |
| DE3883283D1 (de) | 1993-09-23 |
| DE3883283T2 (de) | 1993-12-09 |
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