JPH02245203A - フロンまたは低沸点溶剤回収機構 - Google Patents
フロンまたは低沸点溶剤回収機構Info
- Publication number
- JPH02245203A JPH02245203A JP1068243A JP6824389A JPH02245203A JP H02245203 A JPH02245203 A JP H02245203A JP 1068243 A JP1068243 A JP 1068243A JP 6824389 A JP6824389 A JP 6824389A JP H02245203 A JPH02245203 A JP H02245203A
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- JP
- Japan
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- low
- fluorocarbon
- boiling point
- tank
- heat exchanger
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 32
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野］
この発明は、フロン系溶剤または低沸点溶剤を使用する
電子部品等の洗浄装置から、フロン系溶剤または低沸点
溶剤を系外に出さないようにして回収するためのフロン
または低沸点溶剤回収機構に関するものである。
電子部品等の洗浄装置から、フロン系溶剤または低沸点
溶剤を系外に出さないようにして回収するためのフロン
または低沸点溶剤回収機構に関するものである。
〔従来の技術１
例えば電子部品等の洗浄装置に使用される、Ｒ−ｔ ｌ
３等のフロン系溶剤ま・たは低沸点溶剤は使用中に蒸
発して大気中に排出され、大気汚染のみならず、地球上
の大気圏に分布して紫外線を遮断するオゾン層の破壊、
また地下水等にも混入して水質汚染という世界的な大問
題を引き起こしている。そのため、１９９８年までにフ
ロン全廃の方向で各国の合意がなされており、また有機
溶剤の規制も強まっている。
３等のフロン系溶剤ま・たは低沸点溶剤は使用中に蒸
発して大気中に排出され、大気汚染のみならず、地球上
の大気圏に分布して紫外線を遮断するオゾン層の破壊、
また地下水等にも混入して水質汚染という世界的な大問
題を引き起こしている。そのため、１９９８年までにフ
ロン全廃の方向で各国の合意がなされており、また有機
溶剤の規制も強まっている。
しかしながら、いまだにフロン系溶剤の代替品は登場し
ておらず、一部にフロンＲ−２２５ａ。
ておらず、一部にフロンＲ−２２５ａ。
ｂなどが開発されているが、これらも慢性毒性検査等の
諸検査が終了しないうちは、生産販売は望めない。
諸検査が終了しないうちは、生産販売は望めない。
【発明が解決しようとする問題点１
そこで従来各種の回収機構が考案され、例えば洗浄中に
蒸発し飛散したフロンガスまたはガス化した低沸点溶剤
を回収する活性炭式、油溶解式の回収機構が知られてい
る。
蒸発し飛散したフロンガスまたはガス化した低沸点溶剤
を回収する活性炭式、油溶解式の回収機構が知られてい
る。
しかしながら、洗浄槽内から一旦飛散したフロンガスま
たは低沸点溶剤を回収することは効率が悪く、またその
用途に応じた回収機構を従来の洗浄装置に取り付ける必
要があるため装置が大型化し、高価になってしまうとい
う欠点があった。
たは低沸点溶剤を回収することは効率が悪く、またその
用途に応じた回収機構を従来の洗浄装置に取り付ける必
要があるため装置が大型化し、高価になってしまうとい
う欠点があった。
そこでこの発明は、フロン系溶剤または低沸点溶剤を洗
浄槽内から飛散させることなく、洗浄装置内において直
接回収することのできるフロンまたは低沸点溶剤回収機
構を提供することを目的として開発したものである。
浄槽内から飛散させることなく、洗浄装置内において直
接回収することのできるフロンまたは低沸点溶剤回収機
構を提供することを目的として開発したものである。
すなわち、洗浄装置は通常第１槽（温浴・超音波槽）、
第２槽（冷却槽）および第３槽（ペーパー槽）から構成
される装置 からのフロン系溶剤または低沸点溶剤の蒸気分子は、ヒ
ーターの熱エネルギーにより大きなエントロピーを保有
しているため、冷却コイル下段部において結露し、液化
する。しかし結露できずに熱エネルギーを奪われたフロ
ンまたは低沸点溶剤の気体分子は、低エントロピーのま
ま徐々に上昇する．また第１槽および第２槽でも大気中
において各種の保有熱エネルギーで自然蒸発する。この
蒸気のエントロピー自体も低い。以上のような条件下で
この低レベルの蒸気を回収し、液化することのできるフ
ロンまたは低沸点溶剤回収機構を提案するものである。
第２槽（冷却槽）および第３槽（ペーパー槽）から構成
される装置 からのフロン系溶剤または低沸点溶剤の蒸気分子は、ヒ
ーターの熱エネルギーにより大きなエントロピーを保有
しているため、冷却コイル下段部において結露し、液化
する。しかし結露できずに熱エネルギーを奪われたフロ
ンまたは低沸点溶剤の気体分子は、低エントロピーのま
ま徐々に上昇する．また第１槽および第２槽でも大気中
において各種の保有熱エネルギーで自然蒸発する。この
蒸気のエントロピー自体も低い。以上のような条件下で
この低レベルの蒸気を回収し、液化することのできるフ
ロンまたは低沸点溶剤回収機構を提案するものである。
すなわちこの発明のフロンまたは低沸点溶剤回収機構は
、フロン系溶剤または低沸点溶剤を使用する洗浄装置に
おいて、洗浄槽のペーパーラインの上部に、低レベルの
蒸気を加熱する熱交換器を備えるとともに、さらにその
上部に洗浄槽を取り巻くポケットを形成し、このポケッ
ト内に上記低レベルの蒸気から吸熱する熱交換器を設け
たことを特徴とするものである。
、フロン系溶剤または低沸点溶剤を使用する洗浄装置に
おいて、洗浄槽のペーパーラインの上部に、低レベルの
蒸気を加熱する熱交換器を備えるとともに、さらにその
上部に洗浄槽を取り巻くポケットを形成し、このポケッ
ト内に上記低レベルの蒸気から吸熱する熱交換器を設け
たことを特徴とするものである。
また、フロン系溶剤または低沸点溶剤を使用ずる洗浄装
置において、洗浄槽のペーパーラインの上部に吸入口を
設け、この吸入口から導入された低レベルの蒸気を加熱
する熱交換器と、さらに上記低レベルの蒸気から吸熱す
る熱交換器とを設けたことをも特徴としている。
置において、洗浄槽のペーパーラインの上部に吸入口を
設け、この吸入口から導入された低レベルの蒸気を加熱
する熱交換器と、さらに上記低レベルの蒸気から吸熱す
る熱交換器とを設けたことをも特徴としている。
〔実施例Ｊ
次に、この発明に係るフロンまたは低沸点溶剤回収機構
の一実施例を図面に基いて説明する。
の一実施例を図面に基いて説明する。
第１図および第２図において、１１はフロン系溶剤また
は低沸点溶剤を使用する洗浄装置で、この洗浄装置１１
はハウジング２１内に設置した、第ＨＩ１２（温浴・超
音波槽）、第２槽１３（冷却槽）および第３槽１４（ペ
ーパー槽）からなる各洗浄槽で構成されている．洗浄装
置１１の使用中は第３槽１４からのフロン系溶剤の蒸気
分子は、第３槽ｌ４に設置したヒーター（図示せず）の
熱エネルギーにより大きなエントロピーを保有している
ため、冷却コイルｌ５下段部において結露し、液化する
．しかし結露できずに熱エネルギーを奪われたフロンの
気体分子は、低エントロピーのまま徐々に上昇する．ま
た第ＩＩ！ｌ ２および第２槽ｌ３でも大気中において
各種の保有熱エネルギーで自然蒸発する．この蒸気のエ
ントロピー自体も低い。
は低沸点溶剤を使用する洗浄装置で、この洗浄装置１１
はハウジング２１内に設置した、第ＨＩ１２（温浴・超
音波槽）、第２槽１３（冷却槽）および第３槽１４（ペ
ーパー槽）からなる各洗浄槽で構成されている．洗浄装
置１１の使用中は第３槽１４からのフロン系溶剤の蒸気
分子は、第３槽ｌ４に設置したヒーター（図示せず）の
熱エネルギーにより大きなエントロピーを保有している
ため、冷却コイルｌ５下段部において結露し、液化する
．しかし結露できずに熱エネルギーを奪われたフロンの
気体分子は、低エントロピーのまま徐々に上昇する．ま
た第ＩＩ！ｌ ２および第２槽ｌ３でも大気中において
各種の保有熱エネルギーで自然蒸発する．この蒸気のエ
ントロピー自体も低い。
以上のような条件下でこの低レベルの蒸気を回収し、液
化するため、本発明では洗浄装置１ｌのハウジング２ｌ
のペーパーラインの上部に、低レベルの蒸気を加熱する
熱交換器２２を所定の領域Ａ（加熱ゾーン）に設置して
いる．またこの加熱ゾーンＡの上部には、ハウジング２
ｌを取り巻くようにポケット２３が形成され、このポケ
ット２３の内部には上記低レベルの蒸気から吸熱する熱
交換器２４を所定の領域Ｂ（回収ポケット、吸熱ゾーン
）で設けている．このポケット２３は洗浄槽と連通して
おり、吸熱ゾーンＢで結露して液化したフロン系溶剤ま
たは低沸点溶剤は回収されて再度洗浄槽に送られ、再利
用される。
化するため、本発明では洗浄装置１ｌのハウジング２ｌ
のペーパーラインの上部に、低レベルの蒸気を加熱する
熱交換器２２を所定の領域Ａ（加熱ゾーン）に設置して
いる．またこの加熱ゾーンＡの上部には、ハウジング２
ｌを取り巻くようにポケット２３が形成され、このポケ
ット２３の内部には上記低レベルの蒸気から吸熱する熱
交換器２４を所定の領域Ｂ（回収ポケット、吸熱ゾーン
）で設けている．このポケット２３は洗浄槽と連通して
おり、吸熱ゾーンＢで結露して液化したフロン系溶剤ま
たは低沸点溶剤は回収されて再度洗浄槽に送られ、再利
用される。
第３図はこの発明のフロンまたは低沸点溶剤回収機構の
他の実施例を示すもので、洗浄装置１１のハウジング２
１のペーパーラインの上部に、低レベルの蒸気を吸引す
る吸入口３ｌを設けたちのである、この吸入口３１には
、上記洗浄装置１１とは別途に構成したフロンまたは低
沸点溶剤回収機構３２が付設されており、フロンまたは
低沸点溶剤回収機構３２は加熱コイル４１を備えた加熱
器３３と、冷却フィン４２とその下部の回収槽４３とを
備えた冷却器３４と、上記蒸気を強制循環させるポンプ
３５とで構成されている。吸入口３１から導入された低
レベルの蒸気は加熱器３３で加熱され、次いで冷却器３
４で冷却されて結露し、液化されて回収槽４３に貯留さ
れる。勿論、この液化されたフロン系溶剤または低沸点
溶剤も洗浄槽に返送して再利用されるようになっている
。
他の実施例を示すもので、洗浄装置１１のハウジング２
１のペーパーラインの上部に、低レベルの蒸気を吸引す
る吸入口３ｌを設けたちのである、この吸入口３１には
、上記洗浄装置１１とは別途に構成したフロンまたは低
沸点溶剤回収機構３２が付設されており、フロンまたは
低沸点溶剤回収機構３２は加熱コイル４１を備えた加熱
器３３と、冷却フィン４２とその下部の回収槽４３とを
備えた冷却器３４と、上記蒸気を強制循環させるポンプ
３５とで構成されている。吸入口３１から導入された低
レベルの蒸気は加熱器３３で加熱され、次いで冷却器３
４で冷却されて結露し、液化されて回収槽４３に貯留さ
れる。勿論、この液化されたフロン系溶剤または低沸点
溶剤も洗浄槽に返送して再利用されるようになっている
。
【発明の効果］
この発明のフロンまたは低沸点溶剤回収機構は以上のよ
うに形成したので、従来回収が難しかった低レベルの蒸
気を回収することができ、全体として大幅に回収率を向
上させることが可能となった。
うに形成したので、従来回収が難しかった低レベルの蒸
気を回収することができ、全体として大幅に回収率を向
上させることが可能となった。
また簡単な構造であり、安価なフロンまたは低沸点溶剤
回収機構を提供することができる。
回収機構を提供することができる。
第１図はこの発明に係るフロンまたは低沸点溶剤回収機
構の一実施例を示す縦断面図、第２図はその横断面図、
第３図は他の実施例の横断面図である。 １１・・・洗浄装置 １２・・・第１槽１３・・
・第２槽 １４・・・第３槽１５・・・冷却コ
イル ２１・・・ハウジング２２．２４・・・熱交
換器 ２３−・・ポケット３１・・・吸入口 ３２・・・フロンまたは低沸点溶剤回収機構３３・・・
加熱器 ３４・・・冷却器３５・・・ボンブ
構の一実施例を示す縦断面図、第２図はその横断面図、
第３図は他の実施例の横断面図である。 １１・・・洗浄装置 １２・・・第１槽１３・・
・第２槽 １４・・・第３槽１５・・・冷却コ
イル ２１・・・ハウジング２２．２４・・・熱交
換器 ２３−・・ポケット３１・・・吸入口 ３２・・・フロンまたは低沸点溶剤回収機構３３・・・
加熱器 ３４・・・冷却器３５・・・ボンブ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、フロン系溶剤または低沸点溶剤を使用する洗浄装置
において、洗浄槽のペーパーラインの上部に、低レベル
の蒸気を加熱する熱交換器を備えるとともに、さらにそ
の上部に洗浄槽を取り巻くポケットを形成し、このポケ
ット内に上記低レベルの蒸気から吸熱する熱交換器を設
けたことを特徴とするフロンまたは低沸点溶剤回収機構
。 ２、フロン系溶剤または低沸点溶剤を使用する洗浄装置
において、洗浄槽のペーパーラインの上部に吸入口を設
け、この吸入口から導入された低レベルの蒸気を加熱す
る熱交換器と、さらに上記低レベルの蒸気から吸熱する
熱交換器とを設けたことを特徴とするフロンまたは低沸
点溶剤回収機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1068243A JPH02245203A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | フロンまたは低沸点溶剤回収機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1068243A JPH02245203A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | フロンまたは低沸点溶剤回収機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02245203A true JPH02245203A (ja) | 1990-10-01 |
| JPH0529482B2 JPH0529482B2 (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=13368135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1068243A Granted JPH02245203A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | フロンまたは低沸点溶剤回収機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02245203A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06178912A (ja) * | 1991-11-11 | 1994-06-28 | Morikawa Sangyo Kk | 溶剤気体の吸引方法及びそれを用いた溶剤回収装置 |
| US5454390A (en) * | 1994-05-16 | 1995-10-03 | International Business Machines Corporation | Vapor rinse-vapor dry process tool |
| US6355113B1 (en) | 1991-12-02 | 2002-03-12 | 3M Innovative Properties Company | Multiple solvent cleaning system |
-
1989
- 1989-03-20 JP JP1068243A patent/JPH02245203A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06178912A (ja) * | 1991-11-11 | 1994-06-28 | Morikawa Sangyo Kk | 溶剤気体の吸引方法及びそれを用いた溶剤回収装置 |
| US6355113B1 (en) | 1991-12-02 | 2002-03-12 | 3M Innovative Properties Company | Multiple solvent cleaning system |
| US5454390A (en) * | 1994-05-16 | 1995-10-03 | International Business Machines Corporation | Vapor rinse-vapor dry process tool |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0529482B2 (ja) | 1993-04-30 |
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