JPH0529482B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0529482B2 JPH0529482B2 JP1068243A JP6824389A JPH0529482B2 JP H0529482 B2 JPH0529482 B2 JP H0529482B2 JP 1068243 A JP1068243 A JP 1068243A JP 6824389 A JP6824389 A JP 6824389A JP H0529482 B2 JPH0529482 B2 JP H0529482B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- low
- fluorocarbon
- boiling point
- tank
- point solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 45
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 31
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 30
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 18
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、フロン系溶剤または低沸点溶剤を
使用する電子部品等の洗浄装置から、フロン系溶
剤または低沸点溶剤を系外に出さないようにして
回収するためのフロンまたは低沸点溶剤回収機構
に関するものである。
使用する電子部品等の洗浄装置から、フロン系溶
剤または低沸点溶剤を系外に出さないようにして
回収するためのフロンまたは低沸点溶剤回収機構
に関するものである。
例えば電子部品等の洗浄装置に使用される、Ｒ
−113等のフロン系溶剤または低沸点溶剤は使用
中に蒸発して大気中に排出され、大気汚染のみな
らず、地球上の大気圏に分布して紫外線を遮断す
るオゾン層の破壊、また地下水等にも混入して水
質汚染という世界的な大問題を引き起こしてい
る。そのため、1998年までにフロン全廃の方向で
各国の合意がなされており、また有機溶剤の規制
も強まつている。
−113等のフロン系溶剤または低沸点溶剤は使用
中に蒸発して大気中に排出され、大気汚染のみな
らず、地球上の大気圏に分布して紫外線を遮断す
るオゾン層の破壊、また地下水等にも混入して水
質汚染という世界的な大問題を引き起こしてい
る。そのため、1998年までにフロン全廃の方向で
各国の合意がなされており、また有機溶剤の規制
も強まつている。
しかしながら、いまだにフロン系溶剤の代替品
は登場しておらず、一部にフロンＲ−225a，ｂ
などが開発されているが、これらも慢性毒性検査
等の諸検査が終了しないうちは、生産販売は望め
ない。
は登場しておらず、一部にフロンＲ−225a，ｂ
などが開発されているが、これらも慢性毒性検査
等の諸検査が終了しないうちは、生産販売は望め
ない。
そこで、従来各種の回収機構が考案され、例え
ば洗浄中に蒸発し飛散したフロンガスまたはガス
化した低沸点溶剤を回収する活性炭式、油溶解式
の回数機構が知られている。
ば洗浄中に蒸発し飛散したフロンガスまたはガス
化した低沸点溶剤を回収する活性炭式、油溶解式
の回数機構が知られている。
しかしながら、洗浄層内から一旦飛散したフロ
ンガスまたは低沸点溶剤を回収することは効率が
悪く、またその用途に応じた回収機構を従来の洗
浄装置に取り付ける必要があるため装置が大型化
し、高価になつてしまうという欠点があつた。
ンガスまたは低沸点溶剤を回収することは効率が
悪く、またその用途に応じた回収機構を従来の洗
浄装置に取り付ける必要があるため装置が大型化
し、高価になつてしまうという欠点があつた。
そこでこの発明は、フロン系溶剤または低沸点
溶剤を洗浄槽内から飛散させることなく、洗浄装
置内において直接回収することのできるフロンま
たは低沸点溶剤回収機構を提供することを目的と
して開発したものである。
溶剤を洗浄槽内から飛散させることなく、洗浄装
置内において直接回収することのできるフロンま
たは低沸点溶剤回収機構を提供することを目的と
して開発したものである。
すなわち、洗浄装置は通常第１槽（温浴・超音
波槽）、第２槽（冷却槽）および第３槽（ベーパ
ー槽）から構成され、洗浄装置の使用中は第３槽
からのフロン系溶剤または低沸点溶剤の蒸気分子
は、ヒーターの熱エネルギーにより大きなエント
ロピーを保有しているため、冷却コイル下段部に
おいて結露し、液化する。しかし結露できずに熱
エネルギーを奪われたフロンまたは低沸点溶剤の
気体分子は、低エントロピーのまま徐々に上昇す
る。また第１槽および第２槽でも大気中において
各槽の保有熱エネルギーで自然蒸発する。この蒸
気のエントロピー自体も低い。以上のような条件
下でこの低レベルの蒸気を回収し、液化すること
のできるフロンまたは低沸点溶剤回収機構を提案
するものである。
波槽）、第２槽（冷却槽）および第３槽（ベーパ
ー槽）から構成され、洗浄装置の使用中は第３槽
からのフロン系溶剤または低沸点溶剤の蒸気分子
は、ヒーターの熱エネルギーにより大きなエント
ロピーを保有しているため、冷却コイル下段部に
おいて結露し、液化する。しかし結露できずに熱
エネルギーを奪われたフロンまたは低沸点溶剤の
気体分子は、低エントロピーのまま徐々に上昇す
る。また第１槽および第２槽でも大気中において
各槽の保有熱エネルギーで自然蒸発する。この蒸
気のエントロピー自体も低い。以上のような条件
下でこの低レベルの蒸気を回収し、液化すること
のできるフロンまたは低沸点溶剤回収機構を提案
するものである。
すなわちこの発明のフロンまたは低沸点溶剤回
収機構は、フロン系溶剤または低沸点溶剤を使用
する洗浄装置において、洗浄槽のベーパーライン
の上部に、低レベルの蒸気を加熱する熱交換器を
備えるとともに、さらにその上部に洗浄槽を取り
巻くポケツトを形成し、このポケツト内に上記低
レベルの蒸気から吸熱する熱交換器を設けたこと
を特徴とするものである。
収機構は、フロン系溶剤または低沸点溶剤を使用
する洗浄装置において、洗浄槽のベーパーライン
の上部に、低レベルの蒸気を加熱する熱交換器を
備えるとともに、さらにその上部に洗浄槽を取り
巻くポケツトを形成し、このポケツト内に上記低
レベルの蒸気から吸熱する熱交換器を設けたこと
を特徴とするものである。
また、フロン系溶剤または低沸点溶剤を使用す
る洗浄装置において、洗浄槽のベーパーラインの
上部に吸入口を設け、この吸入口から導入された
低レベルの蒸気を加熱する熱交換器と、さらに上
記低レベルの蒸気から吸熱する熱交換器とを設け
たことをも特徴としている。
る洗浄装置において、洗浄槽のベーパーラインの
上部に吸入口を設け、この吸入口から導入された
低レベルの蒸気を加熱する熱交換器と、さらに上
記低レベルの蒸気から吸熱する熱交換器とを設け
たことをも特徴としている。
次に、この発明に係るフロンまたは低沸点溶剤
回収機構の一実施例を図面を基いて説明する。
回収機構の一実施例を図面を基いて説明する。
第１図および第２図において、１１はフロン系
溶剤または低沸点溶剤を使用する洗浄装置で、こ
の洗浄装置１１はハウジング２１内に設置した、
第１槽１２（温浴・超音波槽）、第２槽１３（冷
却槽）および第３槽１４（ベーパー槽）からなる
各洗浄槽で構成されている。洗浄装置１１の使用
中は第３槽１４からのフロン系溶剤の蒸気分子
は、第３槽１４に設置したヒーター（図示せず）
の熱エネルギーにより大きなエントロピーを保有
しているため、冷却コイル１５下段部において結
露し、液化する。しかし結露できずに熱エネルギ
ーを奪われたフロンの気体分子は、低エントロピ
ーのまま徐々に上昇する。また第１槽１２および
第２槽１３でも大気中において各槽の保有熱エネ
ルギーで自然蒸発する。この蒸気のエントロピー
自体も低い。
溶剤または低沸点溶剤を使用する洗浄装置で、こ
の洗浄装置１１はハウジング２１内に設置した、
第１槽１２（温浴・超音波槽）、第２槽１３（冷
却槽）および第３槽１４（ベーパー槽）からなる
各洗浄槽で構成されている。洗浄装置１１の使用
中は第３槽１４からのフロン系溶剤の蒸気分子
は、第３槽１４に設置したヒーター（図示せず）
の熱エネルギーにより大きなエントロピーを保有
しているため、冷却コイル１５下段部において結
露し、液化する。しかし結露できずに熱エネルギ
ーを奪われたフロンの気体分子は、低エントロピ
ーのまま徐々に上昇する。また第１槽１２および
第２槽１３でも大気中において各槽の保有熱エネ
ルギーで自然蒸発する。この蒸気のエントロピー
自体も低い。
以上のような条件下でこの低レベルの蒸気を回
収し、液化するため、本発明では洗浄装置１１の
ハウジング２１のベーパーラインの上部に、低レ
ベルの蒸気を加熱する熱交換器２２を所定の領域
Ａ（加熱ゾーン）に設置している。またこの加熱
ゾーンＡの上部には、ハウジング２１を取り巻く
ようにポケツト２３が形成され、このポケツト２
３の内部には上記低レベルの蒸気から吸熱する熱
交換器２４を所定の領域Ｂ（回収ポケツト、吸熱
ゾーン）で設けている。このポケツト２３は洗浄
槽と連通しており、吸熱ゾーンＢで結露して液化
したフロン系溶剤または低沸点溶剤は回収されて
再度洗浄槽に送られ、再利用される。
収し、液化するため、本発明では洗浄装置１１の
ハウジング２１のベーパーラインの上部に、低レ
ベルの蒸気を加熱する熱交換器２２を所定の領域
Ａ（加熱ゾーン）に設置している。またこの加熱
ゾーンＡの上部には、ハウジング２１を取り巻く
ようにポケツト２３が形成され、このポケツト２
３の内部には上記低レベルの蒸気から吸熱する熱
交換器２４を所定の領域Ｂ（回収ポケツト、吸熱
ゾーン）で設けている。このポケツト２３は洗浄
槽と連通しており、吸熱ゾーンＢで結露して液化
したフロン系溶剤または低沸点溶剤は回収されて
再度洗浄槽に送られ、再利用される。
第３図はこの発明のフロンまたは低沸点溶剤回
収機構の他の実施例を示すもので、洗浄装置１１
のハウジング２１のベーパーラインの上部に、低
レベルの蒸気を吸引する吸入口３１を設けたもの
である。この吸入口３１には、上記洗浄装置１１
とは別途に構成したフロンまたは低沸点溶剤回収
機構３２が付設されており、フロンまたは低沸点
溶剤回収機構３２は加熱コイル４１を備えた加熱
器３３と、冷却フイン４２とその下部の回収槽４
３とを備えた冷却器３４と、上記蒸気を強制循環
させるポンプ３５とで構成されている。吸入口３
１から導入された低レベルの蒸気は加熱器３３で
加熱され、次いで冷却器３４で冷却されて結露
し、液化されて回収槽４３に貯留される。勿論、
この液化されたフロン系溶剤または低沸点溶剤も
洗浄槽に返送して再利用されるようになつてい
る。
収機構の他の実施例を示すもので、洗浄装置１１
のハウジング２１のベーパーラインの上部に、低
レベルの蒸気を吸引する吸入口３１を設けたもの
である。この吸入口３１には、上記洗浄装置１１
とは別途に構成したフロンまたは低沸点溶剤回収
機構３２が付設されており、フロンまたは低沸点
溶剤回収機構３２は加熱コイル４１を備えた加熱
器３３と、冷却フイン４２とその下部の回収槽４
３とを備えた冷却器３４と、上記蒸気を強制循環
させるポンプ３５とで構成されている。吸入口３
１から導入された低レベルの蒸気は加熱器３３で
加熱され、次いで冷却器３４で冷却されて結露
し、液化されて回収槽４３に貯留される。勿論、
この液化されたフロン系溶剤または低沸点溶剤も
洗浄槽に返送して再利用されるようになつてい
る。
この発明のフロンまたは低沸点溶剤回収機構は
以上のように形成したので、従来回収が難しかつ
た低レベルの蒸気を回収することができ、全体と
して大幅に回数率を向上させることが可能となつ
た。
以上のように形成したので、従来回収が難しかつ
た低レベルの蒸気を回収することができ、全体と
して大幅に回数率を向上させることが可能となつ
た。
また簡単な構造であり、安価なフロンまたは低
沸点溶剤回収機構を提供することができる。
沸点溶剤回収機構を提供することができる。
第１図はこの発明に係るフロンまたは低沸点溶
剤回収機構の一実施例を示す縦断面図、第２図は
その横断面図、第３図は他の実施例の横断面図で
ある。 １１……洗浄装置、１２……第１槽、１３……
第２槽、１４……第３槽、１５……冷却コイル、
２１……ハウジング、２２，２４……熱交換器、
２３……ポケツト、３１……吸入口、３２……フ
ロンまたは低沸点溶剤回収機構、３３……加熱
器、３４……冷却器、３５……ポンプ。
剤回収機構の一実施例を示す縦断面図、第２図は
その横断面図、第３図は他の実施例の横断面図で
ある。 １１……洗浄装置、１２……第１槽、１３……
第２槽、１４……第３槽、１５……冷却コイル、
２１……ハウジング、２２，２４……熱交換器、
２３……ポケツト、３１……吸入口、３２……フ
ロンまたは低沸点溶剤回収機構、３３……加熱
器、３４……冷却器、３５……ポンプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ フロン系溶剤または低沸点溶剤を使用する洗
浄装置において、洗浄槽のベーパーラインの上部
に、低レベルの蒸気を加熱する熱交換器を備える
とともに、さらにその上部に洗浄槽を取り巻くポ
ケツトを形成し、このポケツト内に上記低レベル
の蒸気から吸熱する熱交換器を設けたことを特徴
とするフロンまたは低沸点溶剤回収機構。 ２ フロン系溶剤または低沸点溶剤を使用する洗
浄装置において、洗浄槽のベーパーラインの上部
に吸入口を設け、この吸入口から導入された低レ
ベルの蒸気を加熱する熱交換器と、さらに上記低
レベルの蒸気から吸熱する熱交換器とを設けたこ
とを特徴とするフロンまたは低沸点溶剤回収機
構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1068243A JPH02245203A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | フロンまたは低沸点溶剤回収機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1068243A JPH02245203A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | フロンまたは低沸点溶剤回収機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02245203A JPH02245203A (ja) | 1990-10-01 |
| JPH0529482B2 true JPH0529482B2 (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=13368135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1068243A Granted JPH02245203A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | フロンまたは低沸点溶剤回収機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02245203A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0796093B2 (ja) * | 1991-11-11 | 1995-10-18 | 森川産業株式会社 | 溶剤気体から溶剤を回収する装置 |
| US6355113B1 (en) | 1991-12-02 | 2002-03-12 | 3M Innovative Properties Company | Multiple solvent cleaning system |
| US5454390A (en) * | 1994-05-16 | 1995-10-03 | International Business Machines Corporation | Vapor rinse-vapor dry process tool |
-
1989
- 1989-03-20 JP JP1068243A patent/JPH02245203A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02245203A (ja) | 1990-10-01 |
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