JPH0224597Y2 - - Google Patents

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JPH0224597Y2
JPH0224597Y2 JP16446184U JP16446184U JPH0224597Y2 JP H0224597 Y2 JPH0224597 Y2 JP H0224597Y2 JP 16446184 U JP16446184 U JP 16446184U JP 16446184 U JP16446184 U JP 16446184U JP H0224597 Y2 JPH0224597 Y2 JP H0224597Y2
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coolant liquid
chamber
coolant
separator
machine tool
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Description

【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本考案は、工作機械において加工中の加工物等
を冷却するために用いられるクーラント液中の加
工屑を除去するクーラント液清浄装置に関するも
のである。 (従来技術) この種クーラント液を清浄化するための技術的
手段としては、工作機械を通過したクーラント液
上面に浮上した加工屑を磁石により吸着させてク
ーラント液から分離する分離器を備えたクーラン
トタンクが開示されている(実開昭58−132633号
公報参照)。ところが、この公知例のものにおい
ては、分離器通過後のクーラント液(未だ浮遊す
る加工屑を多く含んでいるものと思われる)をそ
のまま工作機械側へ供給するようにしているた
め、加工精度の低下およびクーラント液の早期劣
化につながるという問題を内包しており、なお改
善の余地を有している。 (考案の目的) 本考案は、上記の点に鑑みてなされたもので、
その目的は、工作機械へ供給されるクーラント液
中に残存する加工屑の量を可及的に少なくせんと
することにある。 (目的を達成するための手段) 本考案は、上記目的を達成するための手段とし
て、工作機械を通過したクーラント液中の加工屑
を磁石により吸着して分離する分離器の下流に、
該分離器を通過したクーラント液が流入する第1
室を設けるとともに、該第1室に第1隔壁を介し
て接続され、前記第1室内のクーラント液位が前
記第1隔壁より高くなるとクーラント液が流入す
る(即ち、オーバフローする)第2室と、前記第
1室に前記第1隔壁とは別の第2隔壁を介して接
続され、前記第2室にクーラント液が流入しはじ
めるクーラント液位よりも低い液位状態でクーラ
ント液が流入する第3室とを付設し、前記第2室
内に流入したクーラント液を、第1のクーラント
液ポンプを介設したクーラント液還流通路を通し
て前記分離器上流部へ還流させる一方、前記第3
室内に流入したクーラント液を、第2のクーラン
ト液ポンプを介設したクーラント液供給通路を通
して前記工作機械へ供給するようにしたことを特
徴としている。 (作用) 本考案では、上記手段によつて下記の如き作用
が得られる。 (1) 分離器にて大部分の加工屑を除去された後の
クーラント液上面に浮遊する軽い加工屑がオー
バフローにより除去され、ほとんど加工屑を含
まない清浄なクーラント液が工作機械へ供給さ
れる。 (2) 前記オーバフローにより工作機械供給系外へ
分離された軽い加工屑を含んだクーラント液が
分離器上流部に還流され、分離器での加工屑の
捕捉率が向上する。 (実施例) 以下、添付の図面を参照して、本考案の好適な
実施例を説明する。 本実施例にかかるクーラント液清浄装置は、第
1図図示の如く、工作機械1を通過したクーラン
ト液が最初に流入する第1槽2と、該第1槽2内
に設置された磁石式の分離器3と、該分離器3を
通過したクーラント液が流入する第2槽4と、該
第2槽4からオーバフローしたクーラント液が流
入する回収槽5とを備えている。 前記第1槽2は、工作機械1の加工位置(砥石
6と加工物7との接触位置)の下方に設けられた
クーラント液溜り8と連絡管9を介して接続され
た沈澱室10と、該沈澱室10と仕切板11を介
して接続され、分離器3が設置される分離室12
とからなつている。前記沈澱室10では、比重の
高い砥粒(比重:約3.9)Wが沈澱除去される。
前記分離器3は、モータ13により回転駆動され
るドラム14内に永久磁石15を配設して構成さ
れ、クーラント液中の加工屑F(比重:約2.1)を
吸着除去する。 前記第2槽4内には、前記分離器3を通過した
クーラント液が接続管16を介して流入する第1
室17と後述する第3室20とが第2隔壁21に
よつて区画形成されている。前記第1室17と前
記回収槽5を構成する第2室18とは所定高さの
第1隔壁19によつて区画されており、第1室1
7内のクーラント液位が前記第1隔壁19の高さ
より上がると第2室18へクーラント液が流入す
るように構成されている。つまり、第1室17内
のクーラント液は、液位上昇に伴つて第2室18
へオーバフローし、液面上に浮遊する加工屑Fは
第2室18に回収されるのである。 前記第1室17内は、仕切板22,23によつ
て3つの分室24,25,26に仕切られてい
る。該仕切板22は前記第1隔壁19より十分低
く、ほぼ第1室17の中間高さと等しい高さに構
成される一方、前記仕切板23は、第2槽4とほ
ぼ同高とされ、且つ下部一側に貫通孔27を有し
ている。又、前記第2隔壁21も前記仕切板23
と同高とされ、且つ下部において前記貫通孔27
と反対側に貫通孔28を有している。第1室17
に流入したクーラント液は、第1室17において
仕切板22上方を越え、仕切板23の貫通孔27
を通つた後蛇行して貫通孔28から第3室20へ
流入する。つまり、第1室17内のクーラント液
は、前記第2室18にクーラント液が流入しはじ
めるクーラント液位よりも低い液位状態で第3室
20へ流入するのである。なお、第3室20と第
2室18との間も第1隔壁19の延長部分で区画
されている。 前記第2槽4の内底部には、該内底部に沈澱し
ている加工屑を浮遊させるための攪拌装置として
作用するエアーパイプ29が配設されている。 前記回収槽5には、第2室18と連続するポン
プ室30が設けられており、該ポンプ室30には
第1のクーラント液ポンプ31が配設されてい
る。又、第2室18の底面18aはポンプ室30
に向かつて下り勾配とされている。 前記ポンプ31の吐出側は、クーラント液還流
通路32を介して前記第1槽2の沈澱室10(即
ち、分離器3の上流部)に接続されており、第2
室18に流入したクーラント液が再度分離器3上
流部へ還流されるようになつている。 一方、第3室20の上面には、第2のクーラン
ト液ポンプ33が配設されており、該ポンプ33
のサクシヨンパイプ34は、第3室20における
クーラント液位の略中央部に開口せしめられてい
る。かかる開口位置とするのは、第3室20にお
いては、クーラント液の中間部分が最も清浄と考
えられるからである(軽い加工屑は上方に浮遊
し、重い加工屑は沈澱すると考えられる)。 前記ポンプ33の吐出側は、クーラント液供給
通路35を介して工作機械1に接続されており、
清浄化されたクーラント液が工作機械1の加工位
置に供給されるようになつている。 図面中、符号36はクーラント液中の油分を回
収する油分回収バルブ、37は自動給水用の電磁
バルブ、38はポンプ31の発停(即ち、回収槽
5から第1槽2への還流)および自動給水を制御
するフロート、39はポンプ31の発停確認スイ
ツチ、40は満水確認スイツチ、41はエアーバ
ルブ、42は流量調整バルブである。 次に、図示のクーラント液清浄装置の作用を説
明する。 工作機械1による研削が開始されると、ポンプ
33の駆動により加工位置にクーラント液が供給
され、工作機械1を通過したクーラント液(砥粒
Wおよび加工屑Fを含む)は、連絡管9を介して
第1槽2の沈澱室10に流入し、ここで、比重の
高い砥粒Wの大部分が沈澱除去される。該沈澱室
10においてクーラント液面に浮遊した比重の低
い加工屑Fの大部分は分離器3にて永久磁石15
の作用により吸着除去される。該分離器3を通過
したクーラント液(まだ相当量の加工屑Fが残存
せしめられている)は、第2槽4の第1室17に
流入した後、浮遊する加工屑Fとともに所定量の
クーラント液が回収槽5の第2室18へオーバフ
ローする。該第2室18へオーバフローしたクー
ラント液(加工屑Fを含んでいる)はポンプ31
の駆動によりクーラント液還流通路32を介して
第1槽2の沈澱室10へ還流される。上記循環を
繰り返すことによつて、分離器3による加工屑F
の捕捉量が増大せしめられる。一方、第2槽4に
おいて、第1室17から第3室20に流入したク
ーラント液(ほとんど清浄化されている)はポン
プ33により工作機械1へ供給される。 而して、工作機械1による研削が停止される
と、5秒後にポンプ31が停止し、クーラント液
の還流が停止し、30秒後に電磁バルブ37が開弁
して自動給水される。その後、フロート38によ
る満水が確認されると、電磁バルブ37が閉弁す
ると同時にポンプ31が駆動され、クーラント液
の還流が開始される。ポンプ31の駆動後5分経
過すると、エアーパイプ29からのエアー噴出に
よる攪拌を5分間行う。すると第2槽4底部に沈
澱していた加工屑Fが浮遊されて、回収槽5へオ
ーバフローされた後、第1槽2の沈澱室10へ還
流される。この時のポンプ31の運転時間は15分
とする。 上記の如き、動作を繰り返すことによつて、工
作機械1で生じ、クーラント液に混入した研削カ
スのほとんどを沈澱室10および分離器3にて分
離することができるのである。 次記の表−および表−は、従来例および本
実施例における研削カス処理データである。ここ
に、ワーク1台当たりの計算値での研削カス発生
量:10.8gである。
【表】
【表】 上記処理データを比較すると、従来例の処理率
(6.1/10.8=56.5%)に比べて、本実施例の処理
率(10.2/10.8=94.4%)が大巾に向上している
ことがわかる。 (考案の効果) 叙上の如く、本考案によれば、分離器を通過し
たクーラント液をオーバフローさせて浮遊加工屑
とともに回収したクーラント液を再び分離器上流
部に還流させ、オーバフローにより浮遊加工屑を
除去された清浄クーラント液を工作機械に供給す
るようにしているので、クーラント液中の加工屑
を有効且つ最大限に分離せしめることができると
ともに、工作機械に供給されるクーラント液の清
浄化が確保されることとなり、加工精度の向上お
よびクーラント液の劣化防止に寄与すること大で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本考案の実施例にかかる工作機械の
クーラント液清浄装置の平面図、第2図および第
3図は第1図の−および−断面図であ
る。 1……工作機械、2……第1槽、3……分離
器、4……第2槽、5……回収槽、10……沈澱
室、17……第1室、18……第2室、19……
第1隔壁、20……第3室、21……第2隔壁、
31,33……クーラント液ポンプ、32……ク
ーラント液還流通路、35……クーラント液供給
通路。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 工作機械を通過したクーラント液中の加工屑を
    磁石により吸着させて前記クーラント液から分離
    する分離器を備えた工作機械のクーラント液清浄
    装置であつて、前記分離器下流に接続され、該分
    離器を通過したクーラント液が流入する第1室
    と、該第1室に第1隔壁を介して接続され、前記
    第1室内のクーラント液の液位が前記第1隔壁の
    高さより上がるとクーラント液が流入する第2室
    と、前記第1室に前記第1隔壁とは別の第2隔壁
    を介して接続され、前記第2室にクーラント液が
    流入しはじめるクーラント液の液位よりも低い液
    位状態でクーラント液が流入する第3室と、第1
    のクーラント液ポンプが介設されるとともに前記
    第2室と分離器上流部とを接続し、該第2室内に
    流入したクーラント液を前記分離器上流部に還流
    させるクーラント液還流通路と、第2のクーラン
    ト液ポンプが介設されるとともに、前記第3室の
    クーラント液位略中央部と工作機械とを接続し、
    該第3室内に流入したクーラント液を前記工作機
    械に供給するクーラント液供給通路とが付設され
    ていることを特徴とする工作機械のクーラント液
    清浄装置。
JP16446184U 1984-10-29 1984-10-29 Expired JPH0224597Y2 (ja)

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JP16446184U JPH0224597Y2 (ja) 1984-10-29 1984-10-29

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JPS6178551U JPS6178551U (ja) 1986-05-26
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