JPH02247648A - マスクの製造方法 - Google Patents
マスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH02247648A JPH02247648A JP1067883A JP6788389A JPH02247648A JP H02247648 A JPH02247648 A JP H02247648A JP 1067883 A JP1067883 A JP 1067883A JP 6788389 A JP6788389 A JP 6788389A JP H02247648 A JPH02247648 A JP H02247648A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- pattern
- inspection
- patterns
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W46/00—Marks applied to devices, e.g. for alignment or identification
- H10W46/601—Marks applied to devices, e.g. for alignment or identification for use after dicing
- H10W46/603—Formed on wafers or substrates before dicing and remaining on chips after dicing
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
し［要］
多数のチップパターンにそれぞれチップコードを備えた
マスクの製造方法に関し、 パターンの同一性を判別する検査装置によるチップパタ
ーンの検査を可能とし、かつチップパターン中にチップ
コードをパターニング可能とすることを目的とし、 基板上に多数のチップパターンをパターニングし、次い
で各チップパターンが同一であるか否かを判定する検査
工程を行ない、次いで各チップパターンにデツプコード
を印字するように構成する。
マスクの製造方法に関し、 パターンの同一性を判別する検査装置によるチップパタ
ーンの検査を可能とし、かつチップパターン中にチップ
コードをパターニング可能とすることを目的とし、 基板上に多数のチップパターンをパターニングし、次い
で各チップパターンが同一であるか否かを判定する検査
工程を行ない、次いで各チップパターンにデツプコード
を印字するように構成する。
［産業上の利用分野１
この発明は多数のチップパターンにそれぞれチップコー
ドを備えたマスクの製造方法に関するものである。
ドを備えたマスクの製造方法に関するものである。
半導体装置の製造過程においてウェハ上に多数形成され
るチップにはそれぞれ異なるチップコードが付され、チ
ップの検査工程において不良となったチップのウェハ上
での位置を解析可能となっている。
るチップにはそれぞれ異なるチップコードが付され、チ
ップの検査工程において不良となったチップのウェハ上
での位置を解析可能となっている。
［従来の抜術］
従来、ウェハ上の多数のチップにそれぞれ付されるチッ
プコードはウェハプロセスの最終段階で使用するマスク
の各チップパターン中にそのパターンの一部としてパタ
ーニングされたものに基し１て形成されたり、あるいは
ウェハ上の各チップに電子ビーム露光装置でそれぞれ描
くことにより形成されている。
プコードはウェハプロセスの最終段階で使用するマスク
の各チップパターン中にそのパターンの一部としてパタ
ーニングされたものに基し１て形成されたり、あるいは
ウェハ上の各チップに電子ビーム露光装置でそれぞれ描
くことにより形成されている。
［発明が解決しようとする課題１
多数の同一のチップパターンがパターニングさ、れるマ
スクは、そのパターニング後に各チップパターンが正確
であるか否かがパターン検査装置により検査されている
。すなわち、マスク上に多数パターニングされたチップ
パターンが全て同一パターンであることを利用して、各
チップパターンが同一であるか否かを検出することによ
りそのパターンが正確であるか否かを検出している。
スクは、そのパターニング後に各チップパターンが正確
であるか否かがパターン検査装置により検査されている
。すなわち、マスク上に多数パターニングされたチップ
パターンが全て同一パターンであることを利用して、各
チップパターンが同一であるか否かを検出することによ
りそのパターンが正確であるか否かを検出している。
ところが、各チップパターン中にチップコードがパター
ニングされたマスクでは各チップパターン中のチップコ
ードがそれぞれ異なるため、上記のような検査装置によ
るパターン検査ができないという問題点があった。また
、電子ビーム露光装置でウェハ上の各チップにチップコ
ードをそれぞれ描くことはスルーブツトが低下するとい
う問題点がある。
ニングされたマスクでは各チップパターン中のチップコ
ードがそれぞれ異なるため、上記のような検査装置によ
るパターン検査ができないという問題点があった。また
、電子ビーム露光装置でウェハ上の各チップにチップコ
ードをそれぞれ描くことはスルーブツトが低下するとい
う問題点がある。
この発明の目的は、パターンの同一性を判別する検査装
置によるチップパターンの検査を可能とし、かつチップ
パターン中にチップコードをパタニング可能とするマス
クの製造方法を提供するにある。
置によるチップパターンの検査を可能とし、かつチップ
パターン中にチップコードをパタニング可能とするマス
クの製造方法を提供するにある。
〔課題を解決するための手段］
上記目的は、基板上に多数のチップパターンをパターニ
ングし、次いで各チップパターンが同一であるか否かを
判定する検査工程を行ない、次いで各チップパターンに
チップコードを印字するマスク製造方法により達成され
る。
ングし、次いで各チップパターンが同一であるか否かを
判定する検査工程を行ない、次いで各チップパターンに
チップコードを印字するマスク製造方法により達成され
る。
［作用］
チップパターンの検査工程の後にチップコードが印字さ
れるので、そのチップコードがチップパターンの検査の
障害となることはない。
れるので、そのチップコードがチップパターンの検査の
障害となることはない。
［実施例］
以下、この発明を具体化したマスクの製造方法を第１図
〜第３図に従って説明する。
〜第３図に従って説明する。
第１図に示すように、まず通常のプロセスすなわちクロ
ム膜の生成工程及びそのクロム膜のエツチング工程等に
よりガラス基板１上に多数のチップパターン２を形成し
てマスク３を形成する。このとき、第３図に示すように
各チップパターン２間のスクライブライン上において所
定位置には位置合わせマーク４が同時にパターニングさ
れている。
ム膜の生成工程及びそのクロム膜のエツチング工程等に
よりガラス基板１上に多数のチップパターン２を形成し
てマスク３を形成する。このとき、第３図に示すように
各チップパターン２間のスクライブライン上において所
定位置には位置合わせマーク４が同時にパターニングさ
れている。
次いで、このマスク３の各チップパターン２が正確にパ
ターニングされているが否かをパターン検査装置で検査
する。すなわら、ガラス基板１上に多数パターニングさ
れたチップパターン２は全て同一パターンであるので、
各チップパターン２が同一であるか否かを検出すること
によりそのパターンが正確であるか否かを検出する。
ターニングされているが否かをパターン検査装置で検査
する。すなわら、ガラス基板１上に多数パターニングさ
れたチップパターン２は全て同一パターンであるので、
各チップパターン２が同一であるか否かを検出すること
によりそのパターンが正確であるか否かを検出する。
パターン検査が終了した後に公知のレーザーマーカーで
各チップパターン２に例えば第２図に示すようなチップ
コード５ａ、５ｂをそれぞれ印字する。すなわち、チッ
プコード５ａはガラス基板１の横方向における各チップ
パターン２の位置を表わすものであり、チップコード５
ｂはガラス基板１の縦方向における各チップパターン２
の位置を表わすものである。そして、チップコード５ａ
。
各チップパターン２に例えば第２図に示すようなチップ
コード５ａ、５ｂをそれぞれ印字する。すなわち、チッ
プコード５ａはガラス基板１の横方向における各チップ
パターン２の位置を表わすものであり、チップコード５
ｂはガラス基板１の縦方向における各チップパターン２
の位置を表わすものである。そして、チップコード５ａ
。
５ｂの印字の際には前記位置合わせマーク４が利用され
てレーザーマーカーに対するガラス基板１の位置合わせ
が行なわれる。
てレーザーマーカーに対するガラス基板１の位置合わせ
が行なわれる。
以上のような製造方法によれば、チップコード５ａ、５
ｂの印字に先立ってチップパターン２の検査が行なわれ
るので、上記検査装置で各チップパターン２が同一が否
かによるパターン検査を行なうことができる。そして、
パターン検査後にチップコード５ａ、５ｂを印字してマ
スク３を完成させ、そのマスク３を使用してウェハを露
光すれば、チップコード５ａ、５ｂ及びチップパターン
２をウェハ上に同時にパターニングすることができるの
で、スループットを低下させることもない。
ｂの印字に先立ってチップパターン２の検査が行なわれ
るので、上記検査装置で各チップパターン２が同一が否
かによるパターン検査を行なうことができる。そして、
パターン検査後にチップコード５ａ、５ｂを印字してマ
スク３を完成させ、そのマスク３を使用してウェハを露
光すれば、チップコード５ａ、５ｂ及びチップパターン
２をウェハ上に同時にパターニングすることができるの
で、スループットを低下させることもない。
［発明の効果１
以上詳述したように、この発明のマスク製造方法によれ
ばパターンの同一性を判別する検査装置によるチップパ
ターンの検査を可能とし、かつチップパターン中にチッ
プコードをパターニングすることができる優れた効果を
発揮する。
ばパターンの同一性を判別する検査装置によるチップパ
ターンの検査を可能とし、かつチップパターン中にチッ
プコードをパターニングすることができる優れた効果を
発揮する。
第１図及び第２図は本発明のマスク製造方法の一過程を
−示すマスク正面図、第３図はその部分拡大図である。 図中、１はガラス基板、２はチップパターン、３はマス
ク、 ５ａ。 ５ｂはチップコードである。 第２図 本発明のマスクの袈造過裡を示す正面図第１図 本発明のマスクの袈造過裡を示す正面図第３図 マスクの部分拡大図
−示すマスク正面図、第３図はその部分拡大図である。 図中、１はガラス基板、２はチップパターン、３はマス
ク、 ５ａ。 ５ｂはチップコードである。 第２図 本発明のマスクの袈造過裡を示す正面図第１図 本発明のマスクの袈造過裡を示す正面図第３図 マスクの部分拡大図
Claims (1)
- １、基板上に多数のチップパターンをパターニングし、
次いで各チップパターンが同一であるか否かを判定する
検査工程を行ない、次いで各チップパターンにチップコ
ードを印字することを特徴とするマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1067883A JPH02247648A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1067883A JPH02247648A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | マスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02247648A true JPH02247648A (ja) | 1990-10-03 |
Family
ID=13357744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1067883A Pending JPH02247648A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | マスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02247648A (ja) |
-
1989
- 1989-03-20 JP JP1067883A patent/JPH02247648A/ja active Pending
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