JPH0224829A - 磁気記録媒体およびその製造法ならびにその表面処理剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ディスク、磁気テープ、磁気カード、磁
気ドラムなどの磁気記録媒体に関し、特に磁気記録膜上
に、化学的に強固に結合した表面処理層を形成した優れ
た耐摺動特性を有する信頼性の高い磁気記録媒体および
その製造法ならびにその表面処理剤に関する。

〔従来の技術〕

通常、磁気記録媒体の表面は、記録再生時に磁気記録ヘ
ッドなどにより摩擦される。この摩擦による磁気記録媒
体の性能低下を防止するためには。

例えば磁気記録膜上に強固に接着した潤滑層を必要とす
る。磁気記録膜上に設ける潤滑剤として。

ペルフルオロポリエーテルは、比較的優れた性能を有す
るものとして一般的によく知られており。

中でも末端極性基をもつペルフルオロポリエーテルは、
イソプロピルアルコールによる清掃が可能で、磁気記録
媒体への付着性の強い潤滑剤として提案されている（米
国特許第４２６８５５６号）。

また、磁気記録膜上に表面処理層を設けて潤滑層との被
着性の向上をはかることについては、特開昭５７−１６
４４３０号公報において開示されている。

そして、磁性粒子とバインダを含む磁性塗料によって形
成された塗布型の磁気記録媒体においては、磁性粒子と
結合する官能基をもつ表面処理剤と、バインダと結合す
る官能基をもつ表面処理剤とを併用して表面処理層を形
成する方法が提案されている（特開昭６３−６９０２０
号公報）。

〔発明が解決しようとする課題〕

磁性粒子とバインダなど含む磁性塗料によって形成され
た塗布型の磁気記録媒体においては、磁性塗膜表面に磁
性粒子とバインダなどからなる複合的組成表面が形成さ
れている。このような複合的組成表面において、磁性粒
子とバインダの双方に強固に化学結合した表面処理層を
形成させることは、従来技術における単一組成の表面処
理剤では困難であった。

このため、磁性粒子と結合する表面処理剤と。

バインダと結合する表面処理剤とを、それぞれ併用する
方法・が提案されているが、複数の処理剤を用いて順次
表面処理を行った場合には、処理工程が増え繁雑になる
という問題があった。また、複数の表面処理剤を混合し
て適用した場合には。

部の磁性粒子がバインダ結合性の表面処理剤で被覆され
、バインダが磁性粒子結合性の表面処理剤で被覆される
ことによるものと思われるが、−様性に優れた表面処理
層の形成が困難であった。

本発明の目的は、単一組成の表面処理剤で、磁性粒子お
よびバインダの双方に化学結合し、−様性の優れた表面
処理層を有する磁気記録媒体およびその製造方法、なら
びにその表面処理剤を提供すること−にある。

〔課題を解決するための手段〕

上記本発明の目的は、バインダ中に磁性粒子を含有する
塗布型の磁性塗膜を磁性膜とする磁気記録媒体において
、磁性塗膜のバインダと結合する官能基をもつアミンの
含フッ素カルボン酸塩を表面処理剤として用い、磁性粒
子に対しては、上記アミンの含フッ素カルボン酸塩のア
ミンカルボキシレート結合の開裂により生成するカルボ
キシル基で結合させることにより、達成される。

本発明の表面処理剤としては２次に示す一般式（１）お
よび（［ｒ）で示される化合物が挙げられる。

Ｒｆ−ＣＯ２−”Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）−Ａ−Ｘ　　　・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・（１）Ｘ−
Ａ−Ｎ（Ｒ，）（Ｒ，）”’Ｏ□Ｃ−Ｒｆ’−Ｃ○２−
”Ｎ（Ｒ，）（Ｒ，）−Ａ−Ｘ・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・（ＩＩ）上記の一般式（１）およ
び（ＩＩ）において。

Ｒ工、Ｒ２は水素原子あるいは炭素数１から４までのア
ルキル基を表わし、具体的には、メチル基。

エチル基、プロピル基、ブチル基などである。

Ａは、アルキレン基、アリレン基などから選ばげられる
。

又はバインダと結合する官能基であり、具体的には、−
Ｎ、、−ＣＨ＝ＣＨ，、−Ｉ、−Ｂｒなどが挙げられる
。

Ｒ，およびＲｆ／はペルフルオロポリエーテル基。

ペルフルオロアルキル基などの含フッ素炭素基を表わし
、具体的には。

ＣＦ、　　　　　ＣＦ。

−（（ＣＦ、０）Ｐ（ＣＦ、ＣＦ、○）ｑ〕−（式中Ｐ
ｙ　ｑｔ　ｒは、３〜１００の整数を表わす、）などが
挙げられる。

本発明の磁気記録媒体に適用する表面処理剤として、具
体的には２次の化合物が挙げられる。

ＣＦ　３　　　　　ＣＦ　。

Ｎ、■ＮＨ，”（Ｊｚ　Ｃ（（ＣＦ、０）ｐ　（ＣＦ２
　ＣＦ２０）　ｑ）■、−”Ｎｌ（、＠　Ｎ、　。

Ｈ，Ｃ＝α部２闇□。へＣ（（σ２０）バσ、α２０）
ｑ）ωｉ喘、汎ＣＩ（＝ω。

ＣＦ、　　　　　ＣＦ。

８ｒ◎ＮＩ（ａ”ｚｃ（（ＣＦｚＯ）ｐ（σ２α−０）
ｑ）ＣＡ−増、■Ｂｒなど。

上記表面処理剤は、バインダと結合する官能基をもつア
ミンと含フッ素カルボン酸より合成可能である。上記両
化合物を混合し反応させることにより２本発明の表面処
理剤であるアミンの含フッ素カルボン酸塩を生成する。

上記反応における反応溶媒として、フッ素系溶媒および
炭化水素系溶媒の混合溶媒を使用してもかまわない。フ
ッ素系溶媒としては、フルオロカーボン類、フルオロク
ロロカーボン類などが挙げられ、具体的には、トリクロ
ロトリフルオロエタン、ペルフルオロ−２−ブチルテト
ラヒドロフラン、ペルフルオロへブタンなどがある。

炭化水素系溶媒としては、エーテル、炭化水素などが挙
げられ、具体的には、ジエチルエーテル。

ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ベンゼン、トルエンなどがある。

反応に際しては、上記溶媒を単独あるいは混合溶媒とし
て使用する他に９反応物をそれぞれフッ素系、炭化水素
系溶媒に別々に溶解し、溶液のかたちで反応させる方法
などもある。

上記のアミンと含フッ素カルボン酸は、はぼ化学量論的
に反応する。したがって、各化合物の仕込み比は、当量
比で０．５〜２倍の範囲にあるのが未反応物の除去の点
から考えて好適である０反応生成物の精製法としては、
抽出、蒸留、液体クロマトグラフィなどの周知の方法を
適用することができる。

以上の方法で合成した本発明の表面処理剤を。

浸漬法、スプレ法２回転塗布法などを用い、磁性塗膜の
表面に塗布した後、必要に応じて熱処理。

紫外線処理などにより、バインダ結合性の官能基とバイ
ンダとを化学結合させ、アミンの含フッ素カルボン酸塩
のアミンカルボキシレート結合の開裂によって生成する
カルボキシル基と磁性粒子とを結合させる。そして２本
発明の表面処理剤と磁性塗膜との反応条件は、磁性塗膜
に表面処理剤を塗布した後、紫外線を照射するか、もし
くは５０〜２００℃の温度に加熱することが好ましい。

上記の方法で作製した磁気記録媒体をそのままの形態で
使用してもよいが、磁性塗膜表面と化学結合していない
過剰量の表面処理剤を溶媒洗浄。

ワイプなどの方法で除去してもかまわない。

また、必要に応じて上記磁気記録媒体にフッ素系潤滑剤
を浸漬法、スプレ法１回転塗布法などの方法で塗布して
潤滑層を形成させてもよい。

上記のフッ素系潤滑剤として、具体的には、ポリオキシ
ペルフルオロアルキレン（モンテジソン社商品名　フオ
ンプリン）、ポリへキサフルオロプロピレンオキシド（
デュポン社商品名　クライトックス）、ポリオキシヘキ
サフルオロトリメチレン（ダイキン商品名　デムナム）
などが挙げられる。

〔作用〕

本発明における重要なポイントは、塗布型の磁気記録媒
体の磁性膜である磁性塗膜に対して磁性粒子およびバイ
ンダの双方とに強固に化学結合する表面処理剤を選択す
ることである。

本発明の磁気記録媒体に適用する表面処理剤は。

バインダ結合性の官能基と含フッ素セグメントが−Ｃｏ
ｇ−”Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）−結合（Ｒｔ、Ｒｚは水素原
子または炭素数１から４までのアルキル基を表わす）を
介在して接合された構造を有するものである。この表面
処理剤は９例えば第１図に示すごとく、バインダ６に対
してはバインダ結合性の官能基で化学結合７し、＠性粒
子５に対しては−ｃ　ｏ、’″＋Ｎ（Ｒ工）（Ｒ，）−
結合の開裂により生成するカルボキシル基によって化学
結合８される。

したがって、第１図に示す磁性塗膜２のような複合的組
成表面に対して、緻密なフッ素系の表面処理層の形成が
可能となる。このため、上記表面処理層は単独であって
もある程度の耐摩耗性の向上が認められるが、さらに上
記表面処理層上にフッ素系の潤滑剤を塗布した場合には
９表面処理剤の分子構造が潤滑剤と類似の構造を有する
ため。

表面処理層が潤滑剤の親和層として働き耐摩耗性が著し
く向上することになる。

〔実施例〕

以下に本発明の一実施例を挙げ、さらに詳細に説明する
。

まず２本発明の表面処理剤であるアミンの含フッ素カル
ボン酸塩の合成例を実施例１〜３において示す。

（実施例１） 次式で示されるポリへキサフルオロプロピレンオキシド
酸（デュポン社商品名　Ｋｒｙｔｏｘ　１５７ＦＳ／Ｍ
；平均分子量　４５００）　４５ｇを。

１．１．２−トリクロロトリフルオロエタン（以下フレ
オンと略称）１００ｍＩ２に溶解した。

上記溶液に、Ｐ−アジドアニリン１．４ｇを含むメタノ
ール溶液１００鵬Ωを滴下し、常温で攪伴し反応させた
。

反応終了後、溶媒を留去し９次の式（１）で示される化
合物を得た。

収量は４５ｇ（収率９８％）であった。

この式（１）で示される化合物は、赤外スペクトルでは
、　３３（）０−２４００ｃｍ−”にＮＨ，ＣＨによる
吸収、　２１１０ｃｍ−’に−Ｎ、による吸収、　１６
６０ｃｍ−’に）Ｃ＝Ｏによる吸収、　１４００−１０
００ｃｍ−’にＣＦによる吸収がｌｌ！測された。紫外
スペクトルでは。

λ□８．メタノール中＝　２５９ｎｍであった。

（実施例２） 実施例１におけるポリへキサフルオロプロピレンオキシ
ド酸の代りに２次式で示されるペルフルオロポリエーテ
ル−α、ω−ジ酸（モンテフロース社商品名　Ｆｏｍｂ
ｌｉｎ　Ｚ−ＤＩＡＣ；平均分子量４０００）　ｚｏｇ
を用い。

ＨＯｚＣ（（ＣＦａＯ）Ｐ（ＣＦｚＣＦ＊Ｏ）Ｑ〕Ｃ０
ｘＨ実施例１と同様の手順にしたがい２次の式（２）で
示される化合物を得た。

Ｎ、■Ｎ）１３＋−へＣ（（鳴０）ｐ（ＣＦ、咀０）ｑ
）（Ａ−鴬◎Ｎ。

・・・・・・・・・・・・（２） 収量は２０ｇ（収率９５％）であった、この式（２）で
示される化合物は、赤外スペクトルでは、　３３００−
２４００ｃｓ−”にＮＨ，ＣＨによる吸収、　２１１０
ｃｍ−１に−Ｎ、による吸収、　１６６０ｃｍ−１に〉
Ｃ＝０による吸収、　１４００−１０００ｃｍ−”にＣ
Ｆによる吸収がｗＡ測された。紫外スペクトルでは、λ
１ｌａＸｐメタノール中＝　２５９ｒ＋＋ｓであった。

（実施例３） 次式で示されるポリへキサフルオロプロピレンオキシド
酸（デュポン社商品名　Ｋｒｙｔｏｘ　１５７ＦＳ／Ｌ
；平均分子量２５００）　２５　ｇを。

ＣＦ、　　　　　ＣＦ。

フレオン５０履Ωに溶解した。

上記溶液にアリルアミン１ｇを徐々に加えて攪拌しなが
ら反応させた。

反応終了後、溶媒および未反応のアリルアミンを留去し
１次の式（３）で示される化合物を得た。

以下余白 収量は２３ｇ（収率９２％）であった、この（３）式で
示される化合物は、赤外スペクトルでは。

３３００−２４００ｃ＋ｓ−’にＮＨ，ＣＨによる吸収
、　１６８０８１１−’に＞Ｃ＝Ｏによる吸収がＩｌｔ
測された。また。

″Ｈ−ＮＭＲスペクトルでは、３゜ｉｐｐｍに＝ＣＨ。

プロトン、　４．ｌｐｐｍに＝ＣＨ２プロトン、　４．
４ｐｐｍにＣＨ＝Ｃプロトンによる吸収が観測された。

次に１本発明の表面処理剤を磁気記録媒体に適用した場
合の実施例について説明する。

磁性塗膜は、エポキシ、フェノール、およびポリビニル
ブチラールよりなるバインダと適当量の溶剤を用いて磁
性粒子（γ−Ｆｅ、０３）と補強剤（α−Ｍ、Ｏ，粉）
を分散させて作製した磁性塗料を、　１４インチ径のア
ルミニウム合金の基体上に塗布し、その後熱硬化および
表面研摩処理を行い作製した磁性塗膜を、以下の実施例
および比較例において用いた。なお、磁性粒子の体積含
率は約２５％であった。

（実施例４） 上記磁性塗膜に、下記の式（１）で示される表面処理剤
を０．５重量％含むフレオン溶液をスプレし、ディスク
を回転させながらガーゼテープで摺り付けて塗布した。

ついで、紫外線照射により化学結合させ、磁性塗膜をフ
レオン中で超音波洗浄を約１０分間行い遊離した表面処
理剤を除去した。

上記磁性塗膜表面の接触角（ｎ−ヘキサデカン使用）測
定結果を第１表に示す。

（実施例５） 実施例４における表面処理剤として、下記の式（２）で
示される化合物を用い、実施例４と同様の方法で試料を
作製した。

Ｎ、■闇、”Ｏｘ　ｃ　（（ＣＦｚ　Ｏ）ｐ　（ＣＦ、
ＣＦ、０）ｑ）四−”ＮＨ，＠　Ｎ□　・・・（２）（
ｐ／ｑ＝０．１．平均分子量４２００）（実施例６） 実施例４における表面処理剤として、下記の式（３）で
示される化合物を用い、実施例４と同様の方法で試料を
作製した。

０５　　０Ｆ′（平均分子量２５００）（比較例１） 表面処理剤として下記の式（４）および式（５）で示さ
れる試料を用いた。

磁性塗膜の表面処理は、まず磁性粉と結合する表面処理
剤として、上記の式（４）で示される化合物を、実施例
４と同様の方法で塗布し、トリフルオロトリクロロエタ
ンで洗浄後２．さらに上記の式（５）で示される表面処
理剤を塗布し、紫外線を３０分間照射してバインダと結
合させた。その後。

トリフルオロトリクロロエタンで１０分間超音波洗浄し
試料を作製した。

（比較例２） 比較例１における式（４）で示される表面処理剤を下記
の式（６）の化合物に、上記の式（５）の化合物を、下
記の式（７）の化合物に代えて。

比較例１と同様の方法で試料を作製した。

ＨＯｚＣ（（ＣＦｔＯ）ｐ（ＣＦ＊ＣＦ＊０）ＪＣＯｉ
Ｈ”四・・・（６）（ｐ／ｑ＝■、１．平均分子量４０
００）（ｐ／ｑ＝０．１．平均分子量４２００）（比較
例３） 比較例１における表面処理剤である式（４）の化合物を
下記の式（８）の化合物に２式（５）の化合物を下記の
式（９）の化合物に代えて、比較例１と同様の方法で試
料を作製した。

（８）の化合物を、比較例１と同様の方法で塗布し、フ
レオンで１０分間超音波洗浄を行い試料とした。

（比較例５） バインダと結合する表面処理剤である上記の式（９）で
示される化合物を比較例１と同様の方法で塗布し２Ｍ外
線を３０分間照射してバインダと結合させた。その後、
フレオンで１０分間超音波洗浄し試料とした。

上記実施例４〜６．比較例１〜５における磁性塗膜表面
の接触角（ｎ−ヘキサデカン使用）測定結果を第１表に
示す。

（比較例４） 磁性粒子を結合する表面処理剤である上記の大筒１表に
おいて、実施例４と比較Ｍ４および５から２本発明によ
る磁性塗膜表面の表面処理層は。

磁性粒子と結合する表面処理剤（式（８）の化合物）、
およびバインダと結合する表面処理剤（式（９）の化合
物）を、それぞれ単独に用いた表面処理層よりも接触角
が大きく、低エネルギ表面になっていることが分かる。

また実施例４〜６と比較例１〜３がら１本発明による表
面処理剤は、ａｔ磁性粒子バインダの双方に結合するた
め、磁性粒子結合性の表面処理剤とバインダ結合性の表
面処理剤をそれぞれ併用した時と同様の低エネルギ表面
が１回の表面処理で得られることが分かる。

次に本発明による磁気記録媒体が優れた耐摩耗性を示す
実施例を挙げる。

上記実施例４〜６において作製した塗布型の磁気ディス
クに対して、潤滑処理は２表面処理剤あるいは潤滑剤の
トリクロロトリフルオロエタンの０．５重量％溶液を用
いてスプレにより塗布し、そのディスクを回転させなが
らガーゼテープで摺り付けるという方法で行った。ａｔ
性塗膜の表面処理の場合には９表面処理剤を約５００ｍ
ｇ　／■３と過剰付与した後、必要に応じて熱処理ある
いは紫外線照射により化学結合させ、その後、トリクロ
ロトリフルオロエタン中で超音波洗浄を約１０分間行い
遊離した表面処理剤を除去した。また潤滑剤塗布の場合
には、スプレ時間を調整して、潤滑剤の付着量を制御し
た。なお表面処理剤および潤滑剤の付着量は、フーリエ
変換型の赤外分光分析（ＦＴ−ＩＲ分光分析）により測
定した。

耐摩耗性の評価は、上記の方法で作製した磁気ディスク
にα−アルミナ摺動子（曲率半径３０鵬鴎の球面摺動子
）を２０ｇ重の荷重で押し付け、スライディング速度２
０ｍ／ｓｅｃでくり返し摩擦し、磁気記録媒体表面に疵
が発生ずまでの摩擦回数（摺動強度と呼ぶ）の測定によ
り行った。

なお、用いた表面処理剤および潤滑剤を第３表および第
４表に示す。

以下余白 第４表 （実施例７） 式（１）で示される表面処理剤を用い、実施例４と同様
の方法で塗布した後、紫外線を３０分間照射しバインダ
と結合させた。その後、フレオン中で１０分間超音波洗
浄を行い試料とした。摺動強度の測定結果を第２表に示
す。

（実施例８） 表面処理剤として２式（２）示される化合物を用い、実
施例７と同様の方法で試料を作製した。

（実施例９） 表面処理剤として２式（３）で示される化合物を用い、
実施例７と同様の方法で試料を作製した。

（実施例１０） 実施例７と同様の方法で作製した試料の表面に。

下記の式（Ａ）で示される潤滑剤を塗布して試料とした
。

Ｆ（ＣＦＣＦ２ｏ）ｎＣＦ２０Ｆ、・・・・・・・・・
・・・・・・・・・（Ａ）０Ｆ′（平均分子量４４００
） （実施例１１） 実施例８と同様の方法で作製した試料の表面に。

下記の式（Ｂ）で示される潤滑剤を塗布して試料とした
。

ＣＦａ　Ｏ（（ＣＦ２０）ｐ　（ＣＦｚ　ＣＦ、○）ｑ
）ＣＦ３・・・・・・・・・・・・・・・（Ｂ）（ｐ／
ｑ＝０．１．平均分子量１００００）（比較例６） 表面処理剤として下記の式（４）および式（５）で示さ
れる化合物を用い。

ＣＦ。

ＣＦ３ （平均分子量４６００） 磁性塗膜の表面処理は、まず磁性粉と結合する表面処理
剤である式（４）の化合物を比較例１の方法で塗布し、
トリフルオロトリクロロエタンで洗浄後、さらに表面処
理剤として式（５）の化合物を塗布し、紫外線を３０分
間照射してバインダと結合させた。その後、トリフルオ
ロトリクロロエタンで１０分間超音波洗浄して試料を作
製した。摺動強度の測定結果を第２表に示す。

（比較例７） 比較例６と同様の方法で作製した試料の表面に。

実施例１０において用いた式（Ａ）で示される潤滑剤を
塗布して試料とした。

（比較例８） 表面処理をしていない磁性塗膜表面に、比較例７と同様
に式（Ａ）で示される潤滑剤を塗布して試料とした。

以上の実施例７〜１１および比較例６〜８で作製した試
料の試験結果を、まとめて第２表に示す。

なお、上記の実施例および比較例において、試料の表面
処理剤の付着量および潤滑剤の付着量はＦＴ−ＩＲ分光
分析により測定し、膜厚換算値として第２表に示した。

第２表 第２表に示されるように２本発明の表面処理剤を用いて
磁性塗膜の表面処理をした試料（実施例７〜１１）によ
れば、単一組成の表面処理剤を用いながら、磁性粒子結
合型の表面処理剤とバインダ結合型の表面処理剤とをそ
れぞれ適用した磁性塗膜（比較例６，７）と同様に、摺
動特性に優れた磁気記録媒体が得られることが分かる。

また９本発明の表面処理剤を用いて形成した表面処理層
上に、さらに潤滑層を設けた磁気記録媒体（実施例１０
．１１）においても、磁性粒子結合型の表面処理剤とバ
インダ結合型の表面処理剤とをそれぞれ適用した比較例
７と同様の効果が得られていることが分かる。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したごとく９本発明によれば。

磁性塗膜のような複合的組成を有する表面に対し。

単一組成の表面処理剤で磁性塗膜に強固に結合した表面
処理層の形成が可能となるので、生産性が一段と向上す
るだけでなく、磁性粒子結合型の表面処理剤とバインダ
結合型の表面処理剤とをそれぞれ適用した従来の磁気記
録媒体と同様に、耐摩耗性に優れた信頼性の高い磁気記
録媒体を実現させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体において表面処理層が磁
性塗膜と化学結合する状況を模式的に示した説明図、第
２図および第３図は本発明の実施例において例示した磁
気記録媒体の断面構造を示す模式図である。 １・・・基体 ３・・・表面処理層 ５・・・磁性粒子 ７・・・化学結合 ２・・・磁性塗膜 ４・・・潤滑層 ６・・・バインダ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基体上に直接もしくは下地層を介して、バインダ中
   に磁性粒子を含有する塗布型の磁性膜を形成した磁気記
   録媒体において、上記磁性膜の表面を、磁性膜中のバイ
   ンダと結合する官能基を有するアミンの含フッ素カルボ
   ン酸塩で処理し、上記磁性膜中の磁性粒子に対しては、
   上記アミンの含フッ素カルボン酸塩のアミンカルボキシ
   レート結合の開裂によって生成するカルボキシル基で結
   合させた、上記アミンの含フッ素カルボン酸塩の反応生
   成物よりなる表面処理層を設けたことを特徴とする磁気
   記録媒体。 ２、特許請求の範囲第１項記載のアミンの含フッ素カル
   ボン酸塩は、その基本骨格がペルフルオロポリエーテル
   鎖であることを特徴とする磁気記録媒体。 ３、特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体において
   、アミンの含フッ素カルボン酸塩の反応生成物よりなる
   表面処理層上に、さらにフッ素系潤滑剤からなる潤滑層
   を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。 ４、特許請求の範囲第３項記載のフッ素系潤滑剤は、そ
   の基本骨格がペルフルオロポリエーテル鎖であることを
   特徴とする磁気記録媒体。 ５、基体上に、直接もしくは下地層を介してバインダ中
   に磁性粒子を分散させた磁性塗料を塗布して形成させた
   塗布型の磁性膜を有する磁気記録媒体の製造法において
   、上記磁性膜の表面を、磁性膜中のバインダと結合する
   官能基を有するアミンの含フッ素カルボン酸塩で処理し
   、加熱もしくは紫外線の照射によって、上記磁性膜中の
   磁性粒子に対しては、上記アミンの含フッ素カルボン酸
   塩のアミンカルボキシレート結合の開裂により生成する
   カルボキシル基で結合させた、上記アミンの含フッ素カ
   ルボン酸塩の反応生成物よりなる表面処理層を形成する
   工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造法。 ６、特許請求の範囲第５項記載の磁気記録媒体の製造法
   において、アミンの含フッ素カルボン酸塩の反応生成物
   よりなる表面処理層を形成する工程の後に、上記表面処
   理層上にフッ素系潤滑剤からなる潤滑層を形成する工程
   を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造法。 ７、バインダ中に磁性粒子を含有する塗布型の磁性膜を
   有する磁気記録媒体において、上記磁性膜の表面処理剤
   が、 一般式 Ｒ＿ｆ−ＣＯ＿２＾−＾＋Ｎ（Ｒ＿１）（Ｒ＿２）−Ａ
   −Ｘ…………………（ I ） Ｘ−Ａ−Ｎ（Ｒ＿１）（Ｒ＿２）＾＋＾−Ｏ＿２Ｃ−Ｒ
   ＿ｆ′−ＣＯ＿２＾−＾＋Ｎ（Ｒ＿１）（Ｒ＿２）−Ａ
   −Ｘ…………………（II） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２は水素原子または炭素数１から
   ４までのアルキル基、Ａはアルキレン基、アリレン基か
   ら選ばれる２価の有機基、Ｘはアジド基、ビニル基、ヨ
   ード基、ブロモ基のうちから選ばれるバインダと結合す
   る官能基、Ｒ＿ｆ、Ｒ＿ｆ′はペルフルオロポリエーテ
   ル基、ペルフルオロアルキル基から選ばれる含フッ素炭
   素基を表わす。） で示されるアミンの含フッ素カルボン酸塩を主成分とす
   ることを特徴とする表面処理剤。