JPH02248417A - 高分子量フェノール樹脂の製造法 - Google Patents
高分子量フェノール樹脂の製造法Info
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- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はフェノールノボラック樹脂の連結基としてホル
ムアルデヒド類以外のアルデヒド類も縮合が容易であり
、かつ高分子量フェノールノボラック樹脂が得られる改
良された製造法に関する。
ムアルデヒド類以外のアルデヒド類も縮合が容易であり
、かつ高分子量フェノールノボラック樹脂が得られる改
良された製造法に関する。
(従来の技術)
フェノールノボラック樹脂は、一般的に、村山新−著フ
エノール樹脂(1981発行、日刊新聞社)に記載され
ている様に、フェノール類とホルマリンとを酸触媒の存
在下加熱条件で縮合反応を行い、その後100°C以上
の高温条件で減圧または水蒸気蒸留することにより残存
のフェノール類や水を除去した後、冷却して樹脂状の固
体を得ていた。しかし、この方法により得られるフェノ
ールノボラック樹脂はほとんど平均分子量が1. 00
0以下と低く、また分子量分布も広いものであた。
エノール樹脂(1981発行、日刊新聞社)に記載され
ている様に、フェノール類とホルマリンとを酸触媒の存
在下加熱条件で縮合反応を行い、その後100°C以上
の高温条件で減圧または水蒸気蒸留することにより残存
のフェノール類や水を除去した後、冷却して樹脂状の固
体を得ていた。しかし、この方法により得られるフェノ
ールノボラック樹脂はほとんど平均分子量が1. 00
0以下と低く、また分子量分布も広いものであた。
また最近では特開昭61−12714号や特開昭62−
230816号に報告されているように、フェノール類
とホルムアルデヒドを有機溶媒均一中、弱酸性触媒を用
いて縮合反応させ、その反応液を水中に沈澱させる事に
より高分子量のもので平均分子量が約1万のフェノール
ノボラック樹脂を得る製造法も用いられてきている。
230816号に報告されているように、フェノール類
とホルムアルデヒドを有機溶媒均一中、弱酸性触媒を用
いて縮合反応させ、その反応液を水中に沈澱させる事に
より高分子量のもので平均分子量が約1万のフェノール
ノボラック樹脂を得る製造法も用いられてきている。
しかしながら、いずれの方法もフェノール類の連結基と
して用いるのはホルムアルデヒド、アセトアルデヒドの
様に立体障害が少なく反応性の高いアルデヒド類を使用
するときのみ有効なフェノールノボラック樹脂の製造法
であり、立体障害等で反応性の低いアルデヒド類を用い
フェノールノボラック樹脂を得ることは困難であった。
して用いるのはホルムアルデヒド、アセトアルデヒドの
様に立体障害が少なく反応性の高いアルデヒド類を使用
するときのみ有効なフェノールノボラック樹脂の製造法
であり、立体障害等で反応性の低いアルデヒド類を用い
フェノールノボラック樹脂を得ることは困難であった。
この欅に反応性の低いアルデヒド類を用い上記のように
一般的なフェノールノボラック樹脂の製造法により製造
するには強酸触媒を多量使用したり橿めて過酷な条件を
用いなければならなかった。
一般的なフェノールノボラック樹脂の製造法により製造
するには強酸触媒を多量使用したり橿めて過酷な条件を
用いなければならなかった。
またそのような条件においても樹脂収率は低かった0反
応性の低いアルデヒド類を用いフェノールノボラック樹
脂を工業的にスケールで収率よくかつ経済的に製造でき
る技術はなかった。
応性の低いアルデヒド類を用いフェノールノボラック樹
脂を工業的にスケールで収率よくかつ経済的に製造でき
る技術はなかった。
(本発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は反応性の低い置換アルデヒド類を用いて
も分子量分布が狭く、かつ高分子量が可能であるフェノ
ールノボラック樹脂の製造法を提供することである。別
の目的は、従来実現不可能であったフェノール類と置換
アルデヒド類を主成分としたフェノールノボラック樹脂
の製造法を提供することである。
も分子量分布が狭く、かつ高分子量が可能であるフェノ
ールノボラック樹脂の製造法を提供することである。別
の目的は、従来実現不可能であったフェノール類と置換
アルデヒド類を主成分としたフェノールノボラック樹脂
の製造法を提供することである。
本発明のさらに別の目的は、連結基として種々置換のア
ルデヒド類を用いることを可能とし、使用用途の拡大し
たフェノールノボラック樹脂の製造法を提供することで
ある。
ルデヒド類を用いることを可能とし、使用用途の拡大し
たフェノールノボラック樹脂の製造法を提供することで
ある。
本発明のフェノールノボラック樹脂のr高分子量」とは
重量平均分子量が1,000以上のものを示す。
重量平均分子量が1,000以上のものを示す。
(課題を解決しようとする手段)
本発明の前記諸口的は、フェノール類と2mアルデヒド
類を酸触媒の存在下、溶液状で反応させる時に、フェノ
ール類がアルデヒド類を介して縮合する際に生成する水
を、水と共沸し得る有機溶媒により反応系外に共沸によ
り除去し、平衡を樹脂生成有利な方向へずらすことを特
徴とする、反応性の低い置換アルデヒド類をフェノール
ノボラック樹脂の連結基として使用した高分子量フェノ
ールノボラック樹脂の製造法により達成された。
類を酸触媒の存在下、溶液状で反応させる時に、フェノ
ール類がアルデヒド類を介して縮合する際に生成する水
を、水と共沸し得る有機溶媒により反応系外に共沸によ
り除去し、平衡を樹脂生成有利な方向へずらすことを特
徴とする、反応性の低い置換アルデヒド類をフェノール
ノボラック樹脂の連結基として使用した高分子量フェノ
ールノボラック樹脂の製造法により達成された。
本発明の置換アルデヒド類を連結基としたフェノールノ
ボラック樹脂の製造法を詳しく述べる。
ボラック樹脂の製造法を詳しく述べる。
すなわち、フェノール類及び置換アルデヒド類とを好ま
しくは窒素等の不活性雰囲気下、水と共沸し得る有機溶
媒の単独又は混合系の溶媒中で酸触媒存在下撹拌し加熱
条件で共沸脱水反応させることにより高分子量フェノー
ルノボランク樹脂が得られる。
しくは窒素等の不活性雰囲気下、水と共沸し得る有機溶
媒の単独又は混合系の溶媒中で酸触媒存在下撹拌し加熱
条件で共沸脱水反応させることにより高分子量フェノー
ルノボランク樹脂が得られる。
共沸脱水方法について詳述する。
本発明のフェノールノボラック樹脂の製造法はフェノー
ル類及びアルデヒド類を縮合反応する時に生成する水を
反応系内から除去することを特徴としている。その反応
系外への脱水方法として、■ 加熱リフラックス反応す
る際に、窒素、アルゴン等の不活性気流と共に溶媒と一
緒に反応容器外に蒸発させてしまう方法。
ル類及びアルデヒド類を縮合反応する時に生成する水を
反応系内から除去することを特徴としている。その反応
系外への脱水方法として、■ 加熱リフラックス反応す
る際に、窒素、アルゴン等の不活性気流と共に溶媒と一
緒に反応容器外に蒸発させてしまう方法。
■ 加熱リフラックス反応する際に、ソックスレイ抽出
器を用い乾燥剤(脱水剤)を通して溶媒を還流する方法
。
器を用い乾燥剤(脱水剤)を通して溶媒を還流する方法
。
■ 加熱リフラックス反応する際に、冷却管(還流管)
の下部にディーン・スターク・トラップ(水分定量受器
)を付け、水のみをトラップして溶媒を反応系に戻す方
法。
の下部にディーン・スターク・トラップ(水分定量受器
)を付け、水のみをトラップして溶媒を反応系に戻す方
法。
等代表的な例を挙げたが、上記以外の反応系外への脱水
方法を用いてもよい。
方法を用いてもよい。
溶媒について詳述する。
上記の様に縮合反応する時の溶媒として、水と共沸混合
物をつくり得る溶媒が好ましいが、そのような溶媒とし
て、ベンゼン、トルエン、キシレン(o−、p−、m)
などの芳香族系の溶媒、エタノールイソプロパノール 媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなどの
エステル系溶媒、四塩化メタン、クロロホルム、トリク
ロロエタンなどのハロゲン系溶媒であるが、特に好まし
いのは水と混合したときに極小共沸点をとる芳香族系の
有機溶媒である。
物をつくり得る溶媒が好ましいが、そのような溶媒とし
て、ベンゼン、トルエン、キシレン(o−、p−、m)
などの芳香族系の溶媒、エタノールイソプロパノール 媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなどの
エステル系溶媒、四塩化メタン、クロロホルム、トリク
ロロエタンなどのハロゲン系溶媒であるが、特に好まし
いのは水と混合したときに極小共沸点をとる芳香族系の
有機溶媒である。
フェノール類及びアルデヒド類を縮合反応する時に溶媒
として上記共沸溶媒のみで行ってもよいが、生成するフ
ェノールノボランク樹脂の溶解性を考慮して更に反応を
均一化するために補助溶媒を用い混合溶媒で反応を行っ
てもよい.そのようなン容媒として、アルコール ン類、エステル類、アミド類等の有機溶媒が用いられ、
特に反応により生成するノボラック樹脂が溶解可能な溶
媒を選択する必要がある。
として上記共沸溶媒のみで行ってもよいが、生成するフ
ェノールノボランク樹脂の溶解性を考慮して更に反応を
均一化するために補助溶媒を用い混合溶媒で反応を行っ
てもよい.そのようなン容媒として、アルコール ン類、エステル類、アミド類等の有機溶媒が用いられ、
特に反応により生成するノボラック樹脂が溶解可能な溶
媒を選択する必要がある。
以下にノボラック樹脂が可溶な溶媒を示す。アルコール
類として、メタノール、エタノール、プロパツール、2
−プロパツール、ブタノール、メトキシエタノール、1
−メトキシ−2−プロパツール、2−メトキシ−1−プ
ロパツール、エトキシエタノール、ブトキシェタノール
、メトキシエトキシエタノール、エーテル類として、ジ
オキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチ
レングリコールジエチルエーテル、エチレングリコール
ジブチルエーテル等、ケトン類として、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン等、エステ
ル類としてはメトキシエチルアセテート、エトキシエチ
ルアセテート、ブトキシエチルアセテートなどがあり、
アミド類としてはN、N−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホオキシドなどが挙げ
られるが、むろん本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
類として、メタノール、エタノール、プロパツール、2
−プロパツール、ブタノール、メトキシエタノール、1
−メトキシ−2−プロパツール、2−メトキシ−1−プ
ロパツール、エトキシエタノール、ブトキシェタノール
、メトキシエトキシエタノール、エーテル類として、ジ
オキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチ
レングリコールジエチルエーテル、エチレングリコール
ジブチルエーテル等、ケトン類として、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン等、エステ
ル類としてはメトキシエチルアセテート、エトキシエチ
ルアセテート、ブトキシエチルアセテートなどがあり、
アミド類としてはN、N−ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホオキシドなどが挙げ
られるが、むろん本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
本製造法に使用するフェノール及びアルデヒドについて
詳述する。
詳述する。
本発明のフェノール類とは2個以上の活性水素を有する
フェノール類であり一般式(1)に示す。
フェノール類であり一般式(1)に示す。
(ただし、Rl 、、 R3はそれぞれ同じであっても
異なっていてもよくベンゼン環上の置換可能な通常の置
換基を表す、) H また、本発明の置換アルデヒド類を一般式(n)に示す
。
異なっていてもよくベンゼン環上の置換可能な通常の置
換基を表す、) H また、本発明の置換アルデヒド類を一般式(n)に示す
。
R4−CHo (II)
(ただし、R4は置換もしくは無置換のアルキル基また
はフェニル基を表す、) −a式(1)について以下更に詳しく説明する。
はフェニル基を表す、) −a式(1)について以下更に詳しく説明する。
R1−R3は水素原子、水酸基または置換可能の基であ
る。そのような基としては例えばハロゲン原子、シアノ
基、スルホ基、又はカルボキシル基)、それぞれ置換ま
たは無置換のアルキル基、アリール基、アシルオキシ基
、アシルアミノ基、アミノ基、スルホンアミド基、アル
コキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモ
イル基、スルファモイル基、アルコキシカルホモニル基
、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基
、アリールスルホニル基、アルコ中ジスルホニル基、ア
リールオキシスルホニル基、カルバモイルアミノ基、ス
ルファモイルアミノ基、カルバモイルオキシ基、アルコ
キシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基である。またR1.R1がそれぞれベンゼン環上
で隣接するときは縮環して炭素環あるいはへテロ環を形
成してもよい。
る。そのような基としては例えばハロゲン原子、シアノ
基、スルホ基、又はカルボキシル基)、それぞれ置換ま
たは無置換のアルキル基、アリール基、アシルオキシ基
、アシルアミノ基、アミノ基、スルホンアミド基、アル
コキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモ
イル基、スルファモイル基、アルコキシカルホモニル基
、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基
、アリールスルホニル基、アルコ中ジスルホニル基、ア
リールオキシスルホニル基、カルバモイルアミノ基、ス
ルファモイルアミノ基、カルバモイルオキシ基、アルコ
キシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルア
ミノ基である。またR1.R1がそれぞれベンゼン環上
で隣接するときは縮環して炭素環あるいはへテロ環を形
成してもよい。
−M式(II)について以下更に詳しく説明する。
R4はアルキル基、置換アルキル基、フェニル基、置換
フェニル基、アリル基、置換または無置換のアルケニル
基、水素原子を表す。
フェニル基、アリル基、置換または無置換のアルケニル
基、水素原子を表す。
R1−R’の置換基に許容される置換基としてはハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、置換アルキ
ル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、−NHCOR
’で表される基(Rsはアルキル基、フェニル基、R1
に許容される基で一度以上置換されていてもよい、 )
−COO基、−N13(hR’(R5は上記と同義)
、−3OR’ (R’は上記と同義) 、−3O,R’
(R’は上記と同義) 、−COR5(R5は上記
と同義) 、−CON (−R’ ) −R’で表さ
れる基(R6、R?は同じであっても異なっていてもよ
く、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、フェニル
基、置換フェニル基を表す)、−SO□N (−R”
)−R’ (R1、・R’は同義)、アミノ基(アル
キル基で置換されていてもよい)、水酸基や加水分解し
て水酸基を形成する基が挙げられる。
ン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、置換アルキ
ル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、−NHCOR
’で表される基(Rsはアルキル基、フェニル基、R1
に許容される基で一度以上置換されていてもよい、 )
−COO基、−N13(hR’(R5は上記と同義)
、−3OR’ (R’は上記と同義) 、−3O,R’
(R’は上記と同義) 、−COR5(R5は上記
と同義) 、−CON (−R’ ) −R’で表さ
れる基(R6、R?は同じであっても異なっていてもよ
く、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、フェニル
基、置換フェニル基を表す)、−SO□N (−R”
)−R’ (R1、・R’は同義)、アミノ基(アル
キル基で置換されていてもよい)、水酸基や加水分解し
て水酸基を形成する基が挙げられる。
一般式(1)において好ましくは、R1−R3はそれぞ
れ同じであっても異なっていてもよく水素原子、水酸基
、炭素数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、
炭素数1〜18のW換もしくは無置換のアルコキシ基、
置換もしくは無置換のフェニル基、炭素数1〜18の置
換もしくは無置換のスルホンアミド基又はアシルアミノ
基、置toモしくは無置換のフェニルスルホンアミド基
又はアシルアミノ基、ハロゲン原子、アミノ基(アルキ
ル基で置換されていてもよい)を表す。
れ同じであっても異なっていてもよく水素原子、水酸基
、炭素数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、
炭素数1〜18のW換もしくは無置換のアルコキシ基、
置換もしくは無置換のフェニル基、炭素数1〜18の置
換もしくは無置換のスルホンアミド基又はアシルアミノ
基、置toモしくは無置換のフェニルスルホンアミド基
又はアシルアミノ基、ハロゲン原子、アミノ基(アルキ
ル基で置換されていてもよい)を表す。
一般式(n)において好ましくは、R4は水素原子、炭
素数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、置換
もしくは無置換のフェニル基、アリル基、炭素数2〜1
8の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。
素数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、置換
もしくは無置換のフェニル基、アリル基、炭素数2〜1
8の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。
前記一般式(1)のうち好ましい化合物は下記一般式(
ll’l)、(TV)、(V)で表される。
ll’l)、(TV)、(V)で表される。
H
一般式(III)、(IV)、(V)においてR1は上
記と同義である。さらにR1で好ましくは水素原子、炭
素数1〜1日の置換もしくは無置換のアキル基を表す。
記と同義である。さらにR1で好ましくは水素原子、炭
素数1〜1日の置換もしくは無置換のアキル基を表す。
前記一般式(It)のうちさらに好ましく化合物は炭素
数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、置換も
しくは無置換のフェニル基、水素原子を表す。
数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、置換も
しくは無置換のフェニル基、水素原子を表す。
以下に(1)及び(II)の具体例を示すが、むろん本
発明はこれに限定されるものではない。
発明はこれに限定されるものではない。
しコH7
[−5
!−8
H
■
■−10
H
■
しN5
■−19
■
■−25
■−35
■ −37
■−24
■−26
■
■−36
■−38
■−27
■−29
0■
■−41
■−43
■ −28
■−30
υ■
■ −40
■−44
n−3
■−11
■−13
C)1.CHO
n−C3117CllO
n−CJ. 、C)t。
n−CJ+9CHO
CHJCHzCHO
BrCHiCtlO
CII3COCHO
■−12
■−14
C)IsCHzCl(O
ncJwcH。
ncJ+scHO
n−C,+lIxsCHO
C I CHzCHO
CNCHICHO
110ccHO
■−17
■−18
■−19
■−20
■−29
■−30
■−32
■−33
■
■−35
■−36
■−21
■−37
■−40
■−22
■−24
■=26
■−38
■−43
■−44
HOC−C−C=C−CHO
■−45
■−47
■−49
CHsC−CCHxCNHCHxCH
CI!
■−46
■−48
■−50
本発明に用いられるアルデヒド類の使用割合はフェノー
ル類に対するモル比が0.5〜2.0の範囲にあること
が好ましく、更に好ましくは0゜8〜1.5の範囲にあ
ることがよい。
ル類に対するモル比が0.5〜2.0の範囲にあること
が好ましく、更に好ましくは0゜8〜1.5の範囲にあ
ることがよい。
フェノールノボラック樹脂の分子量に対して本発明の製
造法に関してもフェノール類とアルデヒド類の使用割合
に依存するところがあり、より高分子量体を得たいとき
はアルデヒド類の使用割合が1以上であることが好まし
い。
造法に関してもフェノール類とアルデヒド類の使用割合
に依存するところがあり、より高分子量体を得たいとき
はアルデヒド類の使用割合が1以上であることが好まし
い。
しかし、アルデヒド類の使用割合が1.5以上になると
フェノール類の水酸基部分による置換反応が起こり易く
なり、生成する樹脂の水酸基当量が少なくなることがあ
るのであまり好ましくはない。
フェノール類の水酸基部分による置換反応が起こり易く
なり、生成する樹脂の水酸基当量が少なくなることがあ
るのであまり好ましくはない。
酸触媒について述べる。
本発明において用いられる酸性触媒としては具体的に硫
酸、塩酸、過塩素酸、硝酸、リン酸、などの無機プロト
ン酸、p−)ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、マ
レイン酸、酢酸、ギ酸、などの有機プロトン酸、三フッ
化ホウ素、三フッ化ホウ素エーテル錯体などの三フッ化
ホウ素の各種錯体、三塩化アルミニウム、四塩化すず、
塩化亜鉛、塩化第二鉄、四塩化チタンなどのルイス酸な
どを挙げることができるが、これらの酸性触媒のうちで
はプロトン酸を使用することが好ましい。
酸、塩酸、過塩素酸、硝酸、リン酸、などの無機プロト
ン酸、p−)ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、マ
レイン酸、酢酸、ギ酸、などの有機プロトン酸、三フッ
化ホウ素、三フッ化ホウ素エーテル錯体などの三フッ化
ホウ素の各種錯体、三塩化アルミニウム、四塩化すず、
塩化亜鉛、塩化第二鉄、四塩化チタンなどのルイス酸な
どを挙げることができるが、これらの酸性触媒のうちで
はプロトン酸を使用することが好ましい。
なお、酸性触媒の使用量は前記フェノール類に対して0
.1ないし70モル%の範囲であるが触媒として用いる
酸の強さ、酸の種類によって使用量は異なる。
.1ないし70モル%の範囲であるが触媒として用いる
酸の強さ、酸の種類によって使用量は異なる。
反応濃度について述べる。
反応濃度としては、フェノール類とアルデヒド類の総仕
込み重量が、用いられる溶媒量に対し10〜70重量%
であることが好ましく、又特に20〜50重量%である
ことが好ましい。
込み重量が、用いられる溶媒量に対し10〜70重量%
であることが好ましく、又特に20〜50重量%である
ことが好ましい。
反応温度について述べる。
本発明のフェノールノボラック樹脂はフェノール類とア
ルデヒド類とをチッソ等の不活性雰囲気中、前記酸触媒
存在下、前記溶媒中に加熱下によって製造される0反応
温度としては50°Cから180℃または溶媒の沸点ま
での範囲で反応することが好ましく、特に70°Cから
150°Cの範囲で反応することが好ましい。
ルデヒド類とをチッソ等の不活性雰囲気中、前記酸触媒
存在下、前記溶媒中に加熱下によって製造される0反応
温度としては50°Cから180℃または溶媒の沸点ま
での範囲で反応することが好ましく、特に70°Cから
150°Cの範囲で反応することが好ましい。
(本発明の効果)
本発明では置換アルデヒド類を用いても高分子量でかつ
分子量分布の狭いフェノールノボラック樹脂が得られる
。また、その低分子量成分(2〜3核量体)の残存が極
めて少なく抑えられているので写真用素材等に利用して
もその性能は高くかつ弊害をもたらさない。
分子量分布の狭いフェノールノボラック樹脂が得られる
。また、その低分子量成分(2〜3核量体)の残存が極
めて少なく抑えられているので写真用素材等に利用して
もその性能は高くかつ弊害をもたらさない。
以上の反応試薬、反応条件により本発明の高分子量フェ
ノールノボラック樹脂が得られるが以下に本発明の実施
例を更に具体的に説明する。
ノールノボラック樹脂が得られるが以下に本発明の実施
例を更に具体的に説明する。
〈実施例1〉
フェノール/カプロンアルデヒド樹脂の合成フェノール
39.5g (0,42モル)、カプロンアルデヒド4
2.1g (0,42モル)、及びメトキシエタノール
33gとベンゼン76gを窒素気流下中の反応容器に入
れ室温で攪拌した。
39.5g (0,42モル)、カプロンアルデヒド4
2.1g (0,42モル)、及びメトキシエタノール
33gとベンゼン76gを窒素気流下中の反応容器に入
れ室温で攪拌した。
そこへ触媒としてp−)ルエンスルホン酸3.8g(0
,02モル)を加え、オイルバスにより徐々に加熱を開
始した。リフラックス反応(オイルバスの温度130−
140’C)時に冷却管の下部に水分定量受器を装着し
水の分離を確認しながら反応を4時間行い終了した。そ
の時の水の分離量は9I!dlであった。室温まで冷却
した反応液に酢酸エチル250dを加え抽出水洗を3回
行った。その後酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウムで乾
燥して濾過、濃縮し真空ポンプで乾燥を行った。
,02モル)を加え、オイルバスにより徐々に加熱を開
始した。リフラックス反応(オイルバスの温度130−
140’C)時に冷却管の下部に水分定量受器を装着し
水の分離を確認しながら反応を4時間行い終了した。そ
の時の水の分離量は9I!dlであった。室温まで冷却
した反応液に酢酸エチル250dを加え抽出水洗を3回
行った。その後酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウムで乾
燥して濾過、濃縮し真空ポンプで乾燥を行った。
収168g、収率91.9%、
重量平均分子量3,400
分散()IW/)IN) 2 、 8
ただし、重量平均分子量はゲルパーミエイションクロマ
トグラフ(GPC)により求めた。GPCの測定条件は
東洋曹達社製HLC8020型GPC,分離カラムとし
て東洋曹達社製TSK−GEL2本(4,0OOH12
,0OOH)、溶離液としてTHF (流速1. 0m
/win 、カラム温度40°c)、UV吸収(254
ns)の吸収波長を求めることにより測定を行った。
トグラフ(GPC)により求めた。GPCの測定条件は
東洋曹達社製HLC8020型GPC,分離カラムとし
て東洋曹達社製TSK−GEL2本(4,0OOH12
,0OOH)、溶離液としてTHF (流速1. 0m
/win 、カラム温度40°c)、UV吸収(254
ns)の吸収波長を求めることにより測定を行った。
標準サンプルとしてポリスチレンを使用した。
〈実施例2〉
0−クレゾール/ベンズアルデヒド樹脂の合成0−クレ
ゾール60.7g (0,56モル)、ベンズアルデヒ
ド65.4g (0,62モル)、及びメトキシエタノ
ール100gとトルエン100gを窒素気流下中の反応
容器に入れ室温で攪拌した。そこへ触媒として臭化水素
酸(47%)8゜6g (0,05モル)を加え、オイ
ルバスにより徐々に加熱を開始した。リフラックス反応
(オイルバスの温度+35−145°C)で生成する水
をトルエンと共に窒素気流により反応容器から蒸発させ
ながら反応を3時間行い終了した。反応液を冷却しメト
キシタノール1.00#11+を添加溶解し、その溶液
をアジター攪拌している水2!中に再沈澱させた。沈澱
物を濾別し水洗を2〜3回繰り返したあと真空乾燥器に
より乾燥を行った。
ゾール60.7g (0,56モル)、ベンズアルデヒ
ド65.4g (0,62モル)、及びメトキシエタノ
ール100gとトルエン100gを窒素気流下中の反応
容器に入れ室温で攪拌した。そこへ触媒として臭化水素
酸(47%)8゜6g (0,05モル)を加え、オイ
ルバスにより徐々に加熱を開始した。リフラックス反応
(オイルバスの温度+35−145°C)で生成する水
をトルエンと共に窒素気流により反応容器から蒸発させ
ながら反応を3時間行い終了した。反応液を冷却しメト
キシタノール1.00#11+を添加溶解し、その溶液
をアジター攪拌している水2!中に再沈澱させた。沈澱
物を濾別し水洗を2〜3回繰り返したあと真空乾燥器に
より乾燥を行った。
収量105 g、収率95.5%、
重量平均分子量14,800
分散(MW/MN) 2 、 5
〈実施例3〉
カテコール/n−オクチルアルデヒド樹脂の合成カテコ
ール28.6g (0,26モル)、n−オクチルアル
デヒド33.5g (0,26モル)、及び1−メトキ
シ−2−プロパツール50gとトルエン50gを窒素気
流下中の反応容器に入れ室温で攪拌した。そこへ触媒と
して硫酸266g(0,03モル)を加え、オイルバス
により徐々に加熱を開始した。リフラックス反応(オイ
ルバスの温度130−140°C)時に冷却管の下部に
水分定量受器を装着し水の分離を確認しながら反応を5
時間行い終了した。その時の水の分離量は5.3dであ
った。室温まで冷却した反応液に酢酸エチル300mを
加え抽出水洗を3回行った。
ール28.6g (0,26モル)、n−オクチルアル
デヒド33.5g (0,26モル)、及び1−メトキ
シ−2−プロパツール50gとトルエン50gを窒素気
流下中の反応容器に入れ室温で攪拌した。そこへ触媒と
して硫酸266g(0,03モル)を加え、オイルバス
により徐々に加熱を開始した。リフラックス反応(オイ
ルバスの温度130−140°C)時に冷却管の下部に
水分定量受器を装着し水の分離を確認しながら反応を5
時間行い終了した。その時の水の分離量は5.3dであ
った。室温まで冷却した反応液に酢酸エチル300mを
加え抽出水洗を3回行った。
その後酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウムで乾燥して濾
過、i4縮し真空ポンプで乾燥を行った。
過、i4縮し真空ポンプで乾燥を行った。
収量52g1収率90.4%、
重量平均分子量3.100
分散(M1台N)3.9
〈実施例4〉
ハイドロキノン/n−ドデシルアルデヒド樹脂の合成
ハイドロキノン33.0g (0,3モル)、nドデシ
ルアルデヒド55.3g (0,3モル)、及び1−メ
トキシ−2−プロパツール75gとトルエン75gを窒
素気流下中の反応容器に入れ室温で攪拌した。そこへ触
媒として硫酸2.9g(0,03モル)を加え、後は実
施例3と同様に反応を行った。
ルアルデヒド55.3g (0,3モル)、及び1−メ
トキシ−2−プロパツール75gとトルエン75gを窒
素気流下中の反応容器に入れ室温で攪拌した。そこへ触
媒として硫酸2.9g(0,03モル)を加え、後は実
施例3と同様に反応を行った。
また、実施例4と同様にハイドロキノンのモル比に対す
るn−ドデシルアルデヒドの使用割合だけを変更した実
施例5〜9の結果を以下の表1に示す。
るn−ドデシルアルデヒドの使用割合だけを変更した実
施例5〜9の結果を以下の表1に示す。
く比較例1〉
ハイドロキノン33.0g (0,3モル)、n−ドデ
シルアルデヒド55.3g (0,3モル)、及びl−
メトキシ−2−プロパツール150gt−窒素気流下中
の反応容器に入れ室温で攪拌した。
シルアルデヒド55.3g (0,3モル)、及びl−
メトキシ−2−プロパツール150gt−窒素気流下中
の反応容器に入れ室温で攪拌した。
そこへ触媒として硫酸2.9g (0,03モル)を加
え、オイルバスの温度130−140°Cで共沸脱水操
作なしで加熱反応を5時間行い、実施例と同様な後処理
を行った。
え、オイルバスの温度130−140°Cで共沸脱水操
作なしで加熱反応を5時間行い、実施例と同様な後処理
を行った。
収量43g、収率60゜
重量平均分子量740
分散(MW/MN) 6 、 7
3%、
Claims (1)
- フェノール類およびアルデヒド類を酸触媒の存在下、有
機溶媒均一系で縮合反応する工程において、生成する水
を共沸させて反応系外に除去することを特徴とした高分
子量フェノール樹脂の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7016189A JPH02248417A (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 高分子量フェノール樹脂の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7016189A JPH02248417A (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 高分子量フェノール樹脂の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02248417A true JPH02248417A (ja) | 1990-10-04 |
Family
ID=13423558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7016189A Pending JPH02248417A (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 高分子量フェノール樹脂の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02248417A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994015259A1 (en) * | 1992-12-29 | 1994-07-07 | Hoechst Celanese Corporation | Resin compositions for photoresist applications |
| JP2004292791A (ja) * | 2003-03-12 | 2004-10-21 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | トリアジン変性ノボラック型フェノール樹脂の製造方法 |
| JP2005060649A (ja) * | 2003-07-31 | 2005-03-10 | Dainippon Ink & Chem Inc | エポキシ樹脂組成物、エポキシ樹脂硬化物、及びノボラック樹脂 |
| JP2009120649A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Showa Highpolymer Co Ltd | 高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法 |
| WO2012165507A1 (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フェノール系樹脂およびリソグラフィー用下層膜形成材料 |
| JP2015011169A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-01-19 | 日産化学工業株式会社 | リソグラフィー用レジスト上層膜形成組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法 |
| JPWO2016076403A1 (ja) * | 2014-11-13 | 2017-10-05 | アイカSdkフェノール株式会社 | ノボラック型フェノール樹脂の製造方法、ノボラック型フェノール樹脂、熱硬化性樹脂組成物及び硬化物 |
| JP2018532027A (ja) * | 2015-10-29 | 2018-11-01 | ヘキシオン・インコーポレイテッド | 新規なアルキルフェノール樹脂及びこの調製方法 |
| US10696838B2 (en) | 2017-10-06 | 2020-06-30 | Hexion Inc. | Rubber compositions containing tackifiers |
-
1989
- 1989-03-22 JP JP7016189A patent/JPH02248417A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994015259A1 (en) * | 1992-12-29 | 1994-07-07 | Hoechst Celanese Corporation | Resin compositions for photoresist applications |
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| WO2012165507A1 (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フェノール系樹脂およびリソグラフィー用下層膜形成材料 |
| CN103619892A (zh) * | 2011-06-03 | 2014-03-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 酚醛系树脂以及光刻用下层膜形成材料 |
| JPWO2012165507A1 (ja) * | 2011-06-03 | 2015-02-23 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フェノール系樹脂およびリソグラフィー用下層膜形成材料 |
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| US10982034B2 (en) | 2015-10-29 | 2021-04-20 | Hexion Inc. | Alkylphenol resins and a method of preparing thereof |
| US11518839B2 (en) | 2015-10-29 | 2022-12-06 | Bakelite UK Holding Ltd. | Alkylphenol resins and a method of preparing thereof |
| US10696838B2 (en) | 2017-10-06 | 2020-06-30 | Hexion Inc. | Rubber compositions containing tackifiers |
| US10982087B2 (en) | 2017-10-06 | 2021-04-20 | Hexion Inc. | Rubber compositions containing tackifiers |
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