JPH02250371A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH02250371A JPH02250371A JP1070623A JP7062389A JPH02250371A JP H02250371 A JPH02250371 A JP H02250371A JP 1070623 A JP1070623 A JP 1070623A JP 7062389 A JP7062389 A JP 7062389A JP H02250371 A JPH02250371 A JP H02250371A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lsi
- noise
- power supply
- semiconductor device
- supply wiring
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、半導体装置に適用して有効な技術に関するも
ので、例えば、高速化、高性能化される半導体装置に利
用して有効な技術に関するものである。
ので、例えば、高速化、高性能化される半導体装置に利
用して有効な技術に関するものである。
[従来の技術]
最近、LSI外部の、例えば周辺バッファ回路等におい
てノイズが発生しており、このノイズは半導体装置の誤
動作を引き起こすので問題となっている。
てノイズが発生しており、このノイズは半導体装置の誤
動作を引き起こすので問題となっている。
このノイズ発生の原理を第6図を参照しながら説明する
。
。
第6図は従来の半導体装置を回路図で示したものである
。
。
同図において、点線で示される符号1はチップ内部を示
している。このチップ内部1には電源配線8bが配設さ
れており、チップ上にはこの電源配線8bに接続される
多数のポンディングパッド2.2a、2b、2cが形成
されている。上記ポンディングパッド2には出力端子(
Lowレベル出力ピン)3aを介して外部回路9が接続
されている。ポンディングパッド2b、2cにはHig
hからLowレベルへ変化する出力端子6.7がそれぞ
れ接続されており、その間には外部負荷容量6c、7c
がそれぞれ介装された状態となっている。ポンディング
パッド2aにはVss(グランド)端子4′が接続され
ており、その間にはインダクタンス4L′、抵抗4R’
がそれぞれ介装された状態となっている。このインダク
タンス4L′、抵抗4R’はLSI外部のボンディング
ワイヤやパッケージのリード等により構成されるもので
ある。
している。このチップ内部1には電源配線8bが配設さ
れており、チップ上にはこの電源配線8bに接続される
多数のポンディングパッド2.2a、2b、2cが形成
されている。上記ポンディングパッド2には出力端子(
Lowレベル出力ピン)3aを介して外部回路9が接続
されている。ポンディングパッド2b、2cにはHig
hからLowレベルへ変化する出力端子6.7がそれぞ
れ接続されており、その間には外部負荷容量6c、7c
がそれぞれ介装された状態となっている。ポンディング
パッド2aにはVss(グランド)端子4′が接続され
ており、その間にはインダクタンス4L′、抵抗4R’
がそれぞれ介装された状態となっている。このインダク
タンス4L′、抵抗4R’はLSI外部のボンディング
ワイヤやパッケージのリード等により構成されるもので
ある。
このように従来の半導体装置は構成されているので、出
力端子6,7がHil<hからLowレベルへ変化する
と、外部負荷容量6c、7cにそれぞれ蓄えられていた
電荷が急峻な電流となってチップ内部1の電源配線8b
に流れ込む。すると、LSI外部のインダクタンス4L
#、抵抗4R’により上記急峻な電流の変化率に比例し
たノイズ電圧が電源配線8bに発生するようになり、こ
のノイズ電圧が他のLowレベルを出力している出力端
子3aを介して外部回路9に伝播されるので、該半導体
装置の誤動作が引き起こされることとなる。
力端子6,7がHil<hからLowレベルへ変化する
と、外部負荷容量6c、7cにそれぞれ蓄えられていた
電荷が急峻な電流となってチップ内部1の電源配線8b
に流れ込む。すると、LSI外部のインダクタンス4L
#、抵抗4R’により上記急峻な電流の変化率に比例し
たノイズ電圧が電源配線8bに発生するようになり、こ
のノイズ電圧が他のLowレベルを出力している出力端
子3aを介して外部回路9に伝播されるので、該半導体
装置の誤動作が引き起こされることとなる。
この出力端子3aにおけるノイズ電圧の状態を示した図
が第7図であり、同図に示されるように、そのノイズ電
圧は非常に大きく、無視できないノイズが発生している
ことが示されている。囚に、LSI外部におけるインダ
クタンス、抵抗の値は以下のとおりである。4L’ =
10.24nH,4R’ =0.135Ω。
が第7図であり、同図に示されるように、そのノイズ電
圧は非常に大きく、無視できないノイズが発生している
ことが示されている。囚に、LSI外部におけるインダ
クタンス、抵抗の値は以下のとおりである。4L’ =
10.24nH,4R’ =0.135Ω。
しかもこのノイズは、近年において望まれる半導体装置
の高速化、バス幅増加(ビット数の増加)による高性能
化に伴う電流量の増加によりさらに大きくなる傾向にあ
るので問題である。
の高速化、バス幅増加(ビット数の増加)による高性能
化に伴う電流量の増加によりさらに大きくなる傾向にあ
るので問題である。
そこで近年においては、例えば、アドレスバス、データ
バス等に供給する電源配線を分離し、一方にノイズが発
生しても他方にノイズが発生しないようにしたり、バッ
ファの前段にプリバッファを入れたり、ゲート幅を小さ
くし電流量を少なくするようにして上記ノイズの低減を
図っていた。
バス等に供給する電源配線を分離し、一方にノイズが発
生しても他方にノイズが発生しないようにしたり、バッ
ファの前段にプリバッファを入れたり、ゲート幅を小さ
くし電流量を少なくするようにして上記ノイズの低減を
図っていた。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記ノイズ対策においては以下の問題点
がある。
がある。
すなわち、電源配線を分離する方法においては、電位差
が生じ易くなり静電耐圧が低下してしまうという問題が
ある。
が生じ易くなり静電耐圧が低下してしまうという問題が
ある。
また、バッファの前段にプリバッファを入れたり、ゲー
ト幅を小さくし電流量を少なくするようにする方法にお
いては、電流の駆動能力が落ち該半導体装置の動作スピ
ードが低下してしまうという問題がある。
ト幅を小さくし電流量を少なくするようにする方法にお
いては、電流の駆動能力が落ち該半導体装置の動作スピ
ードが低下してしまうという問題がある。
本発明は係る問題点に鑑みなされたものであって、静電
耐圧及び動作スピードを低下させることなくLSI外部
におけるノイズを低減し、誤動作を防止し得る半導体装
置を提供することを目的としている。
耐圧及び動作スピードを低下させることなくLSI外部
におけるノイズを低減し、誤動作を防止し得る半導体装
置を提供することを目的としている。
[課題を解決するための手段]
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、下記のとおりである。
を説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、LSI内部に、該LSI内部における電圧降
下を大きくするためのインダクタンス成分及び抵抗成分
を付加したものである。
下を大きくするためのインダクタンス成分及び抵抗成分
を付加したものである。
[作用ゴ
上記した手段によれば、LSI内部にインダクタンス成
分及び抵抗成分を付加するようにしたので、該LSI内
部における電圧降下が大きくなり、相対的にLSI外部
における電圧降下が小さくなるという作用により、LS
I外部におけるノイズ電圧が低減されるようになり、静
電耐圧及び動作スピードを低下させることなくLSI外
部におけるノイズを低減して誤動作を防止するという上
記目的が達成されることになる。
分及び抵抗成分を付加するようにしたので、該LSI内
部における電圧降下が大きくなり、相対的にLSI外部
における電圧降下が小さくなるという作用により、LS
I外部におけるノイズ電圧が低減されるようになり、静
電耐圧及び動作スピードを低下させることなくLSI外
部におけるノイズを低減して誤動作を防止するという上
記目的が達成されることになる。
[実施例]
以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。
第1図には本発明に係る半導体装置の実施例の回路図が
示されている。その概要を説明すれば次のとおりである
。
示されている。その概要を説明すれば次のとおりである
。
同図において、点線で示される符号1はチップ内部を示
している。このチップ内部1には電源配線8及びこの電
源配線8に連設される電源配線8aが配設されており、
チップ上には電源配IIa8゜8aに接続される多数の
ポンディングパッド2゜2a、2b、2cが形成されて
いる。上記ポンディングパッド2,2aは電源配線8に
、一方、ポンディングパッド2b、2cは電源配線8a
にそれぞれ接続されている。上記ポンディングパッド2
には出力端子(L o wレベル出力ピン)3を介して
外部回路9が接続されている。ポンディングパッド2b
、2cにはHighからLowレベルへ変化する出力端
子6,7がそれぞれ接続されており、その間には外部負
荷容量6c、7cがそれぞれ介装された状態となってい
る。ポンディングパッド2aにはVss(グランド)端
子4が接続されており、その間にはインダクタンス4L
、抵抗4Rがそれぞれ介装された状態となっている。
している。このチップ内部1には電源配線8及びこの電
源配線8に連設される電源配線8aが配設されており、
チップ上には電源配IIa8゜8aに接続される多数の
ポンディングパッド2゜2a、2b、2cが形成されて
いる。上記ポンディングパッド2,2aは電源配線8に
、一方、ポンディングパッド2b、2cは電源配線8a
にそれぞれ接続されている。上記ポンディングパッド2
には出力端子(L o wレベル出力ピン)3を介して
外部回路9が接続されている。ポンディングパッド2b
、2cにはHighからLowレベルへ変化する出力端
子6,7がそれぞれ接続されており、その間には外部負
荷容量6c、7cがそれぞれ介装された状態となってい
る。ポンディングパッド2aにはVss(グランド)端
子4が接続されており、その間にはインダクタンス4L
、抵抗4Rがそれぞれ介装された状態となっている。
このインダクタンス4L、抵抗4RはLSI外部のボン
ディングワイヤやパッケージのリード等により構成され
るものである。上記電源配線8,8a間、すなわち出力
端子61,7とVss(グランド)端子4とを繋ぐ電源
配線部分には、本発明の特徴をなすLSI内部1の電圧
降下を大きくするためのノイズキャンセラ5が介装され
ている。このノイズキャンセラ5はインダクタンス5L
、抵抗5Rにより構成されており、該ノイズキャンセラ
5は、本実施例においては、第2図に示されるようにL
SI内部1の電源配1IA10(メタル1層目)をハツ
チングで示される引き回し部分11を有するように引き
回すことにより構成されている。
ディングワイヤやパッケージのリード等により構成され
るものである。上記電源配線8,8a間、すなわち出力
端子61,7とVss(グランド)端子4とを繋ぐ電源
配線部分には、本発明の特徴をなすLSI内部1の電圧
降下を大きくするためのノイズキャンセラ5が介装され
ている。このノイズキャンセラ5はインダクタンス5L
、抵抗5Rにより構成されており、該ノイズキャンセラ
5は、本実施例においては、第2図に示されるようにL
SI内部1の電源配1IA10(メタル1層目)をハツ
チングで示される引き回し部分11を有するように引き
回すことにより構成されている。
この引き回し部分11は、LSI内部1の電源配線を電
気的接続に必要な幅、長さとは無関係にあるインダクタ
ンス、抵抗成分を有するまで延長、配線することにより
形成されており(詳しくは後述)、電源配線1oと同層
に形成されている。
気的接続に必要な幅、長さとは無関係にあるインダクタ
ンス、抵抗成分を有するまで延長、配線することにより
形成されており(詳しくは後述)、電源配線1oと同層
に形成されている。
このように構成されているので、出力端子6゜7がHi
ghからLowレベルへ変化すると、外部負荷容jt
6cy7cにそれぞれ蓄えられていた電荷が急峻な電流
となってチップ内部1の電源配線8aに流れ込む。ここ
で、本実施例においてはノイズキャンセラ5が介装され
該ノイズキャンセラ5において電圧が降下されるように
なっているので、電源配線8における電流変化率はノイ
ズキャンセラ5の介装前より下がるようになる。この従
来より低くなった電流の変化率に比例したノイズ電圧が
LSI外部のインダクタンス4L、抵抗4Rにより電源
配線8に発生し、このノイズ電圧が他のLowレベルを
出力している出力端子3を介して外部回路9に伝播され
ることとなるので、外部回路9におけるノイズは従来に
比べて大幅に低減されることとなる。
ghからLowレベルへ変化すると、外部負荷容jt
6cy7cにそれぞれ蓄えられていた電荷が急峻な電流
となってチップ内部1の電源配線8aに流れ込む。ここ
で、本実施例においてはノイズキャンセラ5が介装され
該ノイズキャンセラ5において電圧が降下されるように
なっているので、電源配線8における電流変化率はノイ
ズキャンセラ5の介装前より下がるようになる。この従
来より低くなった電流の変化率に比例したノイズ電圧が
LSI外部のインダクタンス4L、抵抗4Rにより電源
配線8に発生し、このノイズ電圧が他のLowレベルを
出力している出力端子3を介して外部回路9に伝播され
ることとなるので、外部回路9におけるノイズは従来に
比べて大幅に低減されることとなる。
この出力端子3におけるノイズ電圧の状態を示した図が
第5図であり、同図に示されるように、そのノイズ電圧
は第7図に示される従来技術のそれに比べて非常に小さ
くなっており、ノイズ低減が大幅に図られていることが
示されている。因に、LSI内外におけるインダクタン
ス、抵抗の値は以下のとおりである。5L=11.84
nH,5R=8.560,4L=5.07nH,4R=
0.082Ω。
第5図であり、同図に示されるように、そのノイズ電圧
は第7図に示される従来技術のそれに比べて非常に小さ
くなっており、ノイズ低減が大幅に図られていることが
示されている。因に、LSI内外におけるインダクタン
ス、抵抗の値は以下のとおりである。5L=11.84
nH,5R=8.560,4L=5.07nH,4R=
0.082Ω。
なお、ノイズキャンセラ5の介装前に比べて0゜4ns
の遅延がみられたが、動作に大きな影響はないので問題
はない。
の遅延がみられたが、動作に大きな影響はないので問題
はない。
このように構成される半導体装置によれば次のような効
果を得ることができる。
果を得ることができる。
すなわち、LSI内部1にノイズキャンセラ(インダク
タンス成分5L及び抵抗成分5R)5を付加するように
したので、該LSI内部1における電圧降下が大きくな
り、相対的にLSI外部における電圧降下が小さくなる
という作用により、LSI外部におけるノイズ電圧が低
減されるようになり、該半導体装置の誤動作を防止する
ことが可能となる。しかも、上記構成においては、静電
耐圧及び動作スピードを低下させることはない。
タンス成分5L及び抵抗成分5R)5を付加するように
したので、該LSI内部1における電圧降下が大きくな
り、相対的にLSI外部における電圧降下が小さくなる
という作用により、LSI外部におけるノイズ電圧が低
減されるようになり、該半導体装置の誤動作を防止する
ことが可能となる。しかも、上記構成においては、静電
耐圧及び動作スピードを低下させることはない。
ここで、上記引き回し部分11に必要とされるインダク
タンス成分5L、抵抗成分5Rの値は、外部回路9にお
けるノイズが問題とならない程度にLSI内部1の電圧
を降下させる値として決定されているというのはいうま
でもない。
タンス成分5L、抵抗成分5Rの値は、外部回路9にお
けるノイズが問題とならない程度にLSI内部1の電圧
を降下させる値として決定されているというのはいうま
でもない。
なお、LSI外部のインダクタンス4L、抵抗4Rの値
を相対的にさらに小さくするようにすれば、外部回路9
におけるノイズをさらに低減することが可能である。
を相対的にさらに小さくするようにすれば、外部回路9
におけるノイズをさらに低減することが可能である。
第3図、第4図には電源配線の引き回しの他の実施例が
それぞれ示されている。
それぞれ示されている。
これら実施例の半導体装置が先の実施例のそれと違う点
は、電源配線の引き回しを電源配線の形成される配線層
以外の層において行なっている点である。すなわち、第
3図においては、メタル1層目の電源配線12にコンタ
クトホール13をコンタクトさせ、他の配線の形成され
ているメタル2層目において電源配線12の引き回し部
分14を形成しており、第4図においては、メタル1層
目の電源配線12にコンタクトホール13をコンタクト
させ、他の配線の形成されていない引き回し専用の層を
設けてこの層において電源配線12の引き回し部分15
を形成している。
は、電源配線の引き回しを電源配線の形成される配線層
以外の層において行なっている点である。すなわち、第
3図においては、メタル1層目の電源配線12にコンタ
クトホール13をコンタクトさせ、他の配線の形成され
ているメタル2層目において電源配線12の引き回し部
分14を形成しており、第4図においては、メタル1層
目の電源配線12にコンタクトホール13をコンタクト
させ、他の配線の形成されていない引き回し専用の層を
設けてこの層において電源配線12の引き回し部分15
を形成している。
これら引き回し部分14.15は、先の実施例と同様に
、LSI内部1の電源配線を電気的接続に必要な幅、長
さとは無関係にあるインダクタンス、抵抗成分を有する
まで延長、配線することにより形成されている。
、LSI内部1の電源配線を電気的接続に必要な幅、長
さとは無関係にあるインダクタンス、抵抗成分を有する
まで延長、配線することにより形成されている。
このように構成しても先の実施例と同様にノイズキャン
セラ5が形成でき、先の実施例と同様な効果、すなわち
静電耐圧及び動作スピードを低下させることなくLSI
外部におけるノイズを低減し、誤動作を防止するという
効果を得ることができるというのは勿論である。
セラ5が形成でき、先の実施例と同様な効果、すなわち
静電耐圧及び動作スピードを低下させることなくLSI
外部におけるノイズを低減し、誤動作を防止するという
効果を得ることができるというのは勿論である。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
例えば、上記実施例おいては、ノイズキャンセラ5はL
SI内部1の電源配線を引き回すことにより構成されて
いるが、単にLSI内部にコイルを付加するようにして
構成することも可能である。
SI内部1の電源配線を引き回すことにより構成されて
いるが、単にLSI内部にコイルを付加するようにして
構成することも可能である。
また、本実施例は多数のモジュールを備える半導体装置
の個々のモジュールに対しても適用可能であり、そのよ
うな大規模な半導体装置に適用するようにしても同様な
ノイズ低減効果が期待できるというのはいうまでもない
。
の個々のモジュールに対しても適用可能であり、そのよ
うな大規模な半導体装置に適用するようにしても同様な
ノイズ低減効果が期待できるというのはいうまでもない
。
なお、本発明は高速化、バス幅増加(ビット数の増加)
により高性能化される半導体装置に適用すれば特に有効
である。
により高性能化される半導体装置に適用すれば特に有効
である。
[発明の効果]
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
。
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
。
すなわち、LSI内部にインダクタンス成分及び抵抗成
分を付加するようにしたので、該LSI内部における電
圧降下が大きくなり、相対的にLSI外部における電圧
降下が小さくなる。その結果、静電耐圧及び動作スピー
ドを低下させることなくLSI外部におけるノイズ電圧
を低減することが可能となり、誤動作防止が図られるよ
うになる。
分を付加するようにしたので、該LSI内部における電
圧降下が大きくなり、相対的にLSI外部における電圧
降下が小さくなる。その結果、静電耐圧及び動作スピー
ドを低下させることなくLSI外部におけるノイズ電圧
を低減することが可能となり、誤動作防止が図られるよ
うになる。
第1図は本発明に係る半導体装置の実施例の回路図。
第2図は同上実施例の電源配線の引き回しの状態を示す
図、 第3図〜第4図は本発明に係る半導体装置の他の電源配
線の引き回しの状態をそれぞれ示す図、第5図は第1図
中の出力端子(Lowレベル出力ビン)におけるノイズ
波形図、 第6図は従来技術に係る半導体装置の回路図、第7図は
第6図中の出力端子(Lowレベル出力ピン)における
ノイズ波形図である。 1・・・・LSI内部、5,11,14,15・・・・
インダクタンス成分及び抵抗成分。 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 \ 第 図 84−闇 (S)
図、 第3図〜第4図は本発明に係る半導体装置の他の電源配
線の引き回しの状態をそれぞれ示す図、第5図は第1図
中の出力端子(Lowレベル出力ビン)におけるノイズ
波形図、 第6図は従来技術に係る半導体装置の回路図、第7図は
第6図中の出力端子(Lowレベル出力ピン)における
ノイズ波形図である。 1・・・・LSI内部、5,11,14,15・・・・
インダクタンス成分及び抵抗成分。 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 \ 第 図 84−闇 (S)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、LSI内部に、該LSI内部における電圧降下を大
きくするためのインダクタンス成分及び抵抗成分を付加
したことを特徴とする半導体装置。 2、前記インダクタンス成分及び抵抗成分は、LSI内
部の電源配線を引き回すことにより構成されることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 3、前記電源配線の引き回しは、該電源配線の形成され
る配線層以外の層において行なわれることを特徴とする
特許請求の範囲第2項記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1070623A JPH02250371A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1070623A JPH02250371A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02250371A true JPH02250371A (ja) | 1990-10-08 |
Family
ID=13436931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1070623A Pending JPH02250371A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02250371A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6600181B2 (en) | 2000-06-21 | 2003-07-29 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit and designing method thereof |
| US6677781B2 (en) | 2001-06-15 | 2004-01-13 | Denso Corporation | Semiconductor integrated circuit device |
| JP2007059924A (ja) * | 2006-09-22 | 2007-03-08 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
| WO2013018134A1 (ja) * | 2011-08-03 | 2013-02-07 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | センサ装置 |
| JPWO2013018134A1 (ja) * | 2011-08-03 | 2015-02-23 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | センサ装置 |
-
1989
- 1989-03-24 JP JP1070623A patent/JPH02250371A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6600181B2 (en) | 2000-06-21 | 2003-07-29 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit and designing method thereof |
| US6677781B2 (en) | 2001-06-15 | 2004-01-13 | Denso Corporation | Semiconductor integrated circuit device |
| JP2007059924A (ja) * | 2006-09-22 | 2007-03-08 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
| WO2013018134A1 (ja) * | 2011-08-03 | 2013-02-07 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | センサ装置 |
| JPWO2013018134A1 (ja) * | 2011-08-03 | 2015-02-23 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | センサ装置 |
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