JPH0364045A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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Publication number
JPH0364045A
JPH0364045A JP1199443A JP19944389A JPH0364045A JP H0364045 A JPH0364045 A JP H0364045A JP 1199443 A JP1199443 A JP 1199443A JP 19944389 A JP19944389 A JP 19944389A JP H0364045 A JPH0364045 A JP H0364045A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
integrated circuit
semiconductor integrated
ground
ground line
circuit device
Prior art date
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Pending
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JP1199443A
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English (en)
Inventor
Manabu Shibata
学 柴田
Takaharu Morishige
森重 隆春
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Microcomputer Engineering Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH0364045A publication Critical patent/JPH0364045A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • H10W72/931Shapes of bond pads
    • H10W72/932Plan-view shape, i.e. in top view

Landscapes

  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体集積回路装置に適用して有効な技術に
関するもので、特にB1−CMOSゲートアレイの如き
半導体集積回路装置に利用して有効な技術に関するもの
である。
[従来の技術] B1−CMOSゲートアレイ技術に関しては例えば「日
経エレクトロニクスJ 1985年8月■2日、p18
7〜p208に開示されている。
ところで、かかるゲートアレイの如きセミカスタム半導
体集積回路装置において、複数個のI/Oセルと外部パ
ッドとを各々1対1に対応させた構成が考えられた。
この1対1に対応するI/Oセルと外部パッドとを複数
備える半導体集積回路装置の一例を示したのが第2図で
ある。
同図において、符号3はゲートアレイで構成される内部
回路を示しており、この内部回路3にはBi−CMOS
回路等が形成されている。符号1は図示されないリード
に接続される外部パッドを、2は工/○セル(外部イン
ターフェイス回路)をそれぞれ示しており、これら工/
○セル2,2〜2と外部パッド1.1〜1とは各々1対
1に対応するよう配置されている。該外部パッド1とI
/Oセル2とはアルミニウム等からなる配線4により接
続されており、I/Oセル2上には破線で示されるグラ
ンドライン6が形成されている。I/Oセル2とこのグ
ランドライン6とはコンタクト部/Oにより接続されて
おり、グランドライン6上にはグランドライン用コン9
91部8が形成されている。このグランドライン用コン
991部8は配線4aを介してグランド電位に接続され
る(グランド電位をなす)グランドライン用外部バッド
7に接続されている。
従って、上記工/○セル2を駆動すると、電流はI/O
セル2からコンタクト部/O、グランドライン6、グラ
ンドライン用コンタク1部8.配線4aを通ってグラン
ドライン用外部パッド7に流れ、外部のグランド電位に
流出するようになっている。
ここで、最近においては、外部パッド1に大きな負荷を
なすパスライン等を接続するようになってきており、開
動力を増大しなければならなくなってきた。
従って、第2図の右側に示されるように、1個の外部パ
ッド1aに2個以上のI/Oセル(第2図においては2
個)2,2aをパラレル配線5により接続し出力を上げ
るようにして駆動力の増大を図ることが試みられた。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記半導体集積回路装置においては以下
の問題点がある。
すなわち、開動力の増大を図るべく一体化したI/Oセ
ル2及び2aからグランドライン用外部バッド7に向か
って急峻な電流が流れ込むことになり、グランドインピ
ーダンス(インダクタンス成分十抵抗成分)が大きくな
るといった問題点がある。特にこの一体化したI/Oセ
ル2及び2a上のグランドライン6に対するコンタクト
部/Oと、グランドライン用外部バッド7に接続される
グランドライン用コン991部8との間の距離が第2図
に示されるように長い場合には、距離に比例してインダ
クタンス成分及び抵抗成分が大きくなるので、グランド
ライン6において大きなノイズを発生することになると
共に、グランド電位が浮いてしまい(上昇してしまい)
正常な動作を期待できなくなってしまう。
ここで、電流の速度を遅くし急峻な電流がグランドライ
ン用外部バッド7に流れ込まないようにして上記問題点
に対処することも考えられるが。
高速性が劣ってしまうので、特にBi−0M08回路を
含む半導体集積回路装置等に対しては好ましくない。
本発明は係る問題点に鑑みなされたものであって、高速
性を維持したままで駆動力を増大することができ、しか
もその際にグランドラインにおけるノイズ低減をし得る
と共に、グランド電位の浮きを防止し正常な動作を可能
にする半導体集積回路装置を提供することを目的として
いる。
[課題を解決するための手段] 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、1対1に対応するI/Oセルと外部パッドと
を複数備える半導体集積回路装置において、1個の外部
パッドに2個以上のI/Oセルをパラレルに接続する場
合に5分岐側のI/Oセルに対応する空きパッドと前記
各I/Oセルのグランド側が接続されるグランドライン
とを長さを短くすべく接続し、該空きパッドの電位をグ
ランド電位とするようにしたものである。
[作用] 上記した手段によれば、1個の外部パッドに2個以上の
I/Oセルをパラレルに接続する場合に、分岐側のI/
Oセルに対応する空きパッドと前記各I/Oセルのグラ
ンド側が接続されるグランドラインとを長さを短くすべ
く接続し、該空きパッドの電位をグランド電位とするよ
うにしたので、高速性を維持したままで開動力を増大し
ても、−体化したI/Oセルからの急峻な電流はこの分
岐グランド電位に流れ、グランドインピーダンスを小さ
くできるという作用により、高速性を維持したままで駆
動力を増大し、しかもその際にグランドラインにおける
ノイズ低減をし得ると共に、グランド電位の浮きを防止
し正常な動作を可能にするという上記目的が達成される
ことになる。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。
第1図には本発明に係る半導体集積回路装置の実施例が
示されている。その概要を説明すれば次のとおりである
同図において、符号3はゲートアレイで構成される内部
回路を示しており、この内部回路3にはBi−0M08
回路等が形成されている。符号1は図示されないリード
に接続される外部パッドを、2はI/Oセル(外部イン
ターフェイス回路)をそれぞれ示しており、これらI/
Oセル2,2〜2と外部パッド1,1〜1とは各々1対
1に対応するよう配置されている。該外部パッド1と工
/Oセル2とはアルミニウム等からなる配線4により接
続されており、I/Oセル2上には破線で示されるグラ
ンドライン6が形成されている。I/Oセル2とこのグ
ランドライン6とはコンタクト部/Oにより接続されて
おり、グランドライン6上にはグランドライン用コンタ
ク1部8が形成されている。このグランドライン用コン
タク1部8は配線4aを介してグランド電位に接続され
る(グランド電位をなす)グランドライン用外部パッド
7に接続されている。一方、図における右側においては
、11!動力の増大を図るべく1個の外部パッド1aに
2個のI/Oセル2,2aがパラレル配線5により接続
されている。この分岐側のI/Oセル2a上のグランド
ライン6にはグランドライン用追加コン991部/Oa
が形成されており、このグランドライン用追加コン99
1部/Oaはアルミニウム等からなる配線9を介して該
工/Oセル2aに対応する空きパッドllaに接続され
ている。この空きパッドllaは図示されないグランド
電位に接続されており、その電位はグランド電位と同電
位となっている。
従って、一体化したI/Oセル2,2aからの急峻な電
流はコンタクト部/O、グランドライン6、一体化した
I/Oセル2,2aに近いグランドライン用追加コン9
91部/Oa、配線9を通って空きパッドllaの方に
大半が流れて外部のグランド電位に流出することになり
、従来のグランドライン用外部パッド7側にはほとんど
流れなくなる。
ここで、本実施例においては、駆動力を増すべく一体化
したI/Oセル2及び2a上のグランドライン6に対す
るコンタクト部/Oと、空きバッドllaに接続される
グランドライン用追加コン991部/Oaとの間の距離
は極めて短くなっており、インダクタンス成分及び抵抗
成分が可能な限り小さくされているので、一体化したI
/Oセル2,2aから急峻な電流が生じても、グランド
ライン6におけるノイズは低く抑えられ、グランド電位
の浮きも防止されるようになっている。
なお1本実施例においては、a動力の増大を図るべく1
個の外部パッド1aに2個のI/Oセル2.2aをパラ
レル配線5により接続するようにしているが、本実施例
は1個の外部パッドに3個以上のI/Oセルを接続する
場合においても同様に適用可能であり、その場合には、
分岐側のI/Oセルに対応する空きパッドと各1/Oセ
ルのグランド側が接続されるグランドライン6とを長さ
を短くすべく全部接続し、上記全ての空きパッドをグラ
ンド電位に接続するようにしても良いし。
一部の空きパッドのみを各I/Oセルのグランド側が接
続されるグランドライン6に長さを短くすべく接続する
ようにしても良い。
このように構成される半導体集積回路装置によれば次の
ような効果を得ることができる。
すなわち、1個の外部パッド1aに2個以上のI/Oセ
ル2をパラレルに接続する場合に、分岐側のI/Oセル
2aに対応する空きパッドllaと各I/Oセル2のグ
ランド側が接続されるグランドライン6とを長さを短く
すべく接続し、該空きパッドllaの電位をグランド電
位とするようにしたので、高速性を維持したままで駆動
力を増大しても、一体化した工/○セル2,2aからの
急峻な電流はこの分岐側の工/○セル2aに対応するパ
ッドllaを介して直ちにグランド電位に流れ、グラン
ドインピーダンスを小さくできるという作用により、高
速性を維持したままで駆動力を増大することができ、し
かもその際にグランドライン6におけるノイズ低減を図
ることが可能になると共に、グランド電位の浮きが防止
されて正常な動作を行なうことが可能になる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
例えば、上記実施例おいては、ゲートアレイにより構成
された半導体集積回路装置に対する適用例が述べられて
いるが、本実施例はセミカスタムタイプの半導体集積回
路装置全てに対して適用可能であり、要は複数個のI/
Oセルと外部パッドとを各々1対1に対応させている半
導体集積回路装置全てに対して適用可能である。
なお1本実施例は、高速性が維持されているので、Bi
−CMO5回路を含んでなる半導体集積回路装置に適用
すれば特に有効であるが、CMOSトランジスタを含ま
ないバイポーラトランジスタやバイポーラトランジスタ
を含まないCMOSトランジスタより構成される半導体
集積回路装置等にも同様に適用できる。
[発明の効果] 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
すなわち、l対(に対応する工/○セルと外部パッドと
を複数備える半導体集積回路装置において、1個の外部
パッドに2個以上のI/Oセルをパラレルに接続する場
合に、分岐側のI/Oセルに対応する空きパッドと各工
/○セルのグランド側が接続されるグランドラインとを
長さを短くすべく接続し、該空きパッドの電位をグラン
ド電位とするようにしたので、高速性を維持したままで
駆動力を増大しても、一体化したI/Oセルからの急峻
な電流はこの分岐側のI/Oセルに対応するパッドを介
して直ちにグランド電位に流れることから、グランドイ
ンピーダンスを小さくできるようになる。その結果、高
速性を維持したままで駆動力を増大することができ、し
かもその際にグランドラインにおけるノイズ低減を図る
ことが可能になると共に、グランド電位の浮きが防止さ
れて正常な動作を行なうことが可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る半導体集積回路装置の実施例の要
部の平面図、 第2図は本発明に先立って考えられた半導体集積回路装
置の要部の平面図である。 1、・・・外部パッド、la・・・・2個以上のI/O
セルに接続される外部パッド、2・・・・I/Oセル、
2a・・・・分岐側のI/Oセル、5・・・・パラレル
配線、6・・・・グランドライン、9・・・・空きパッ
ドとグランドラインとの接続配線、lla・・・・空き
パッド。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、1対1に対応するI/Oセルと外部パッドとを複数
    備える半導体集積回路装置において、1個の外部パッド
    に2個以上のI/Oセルをパラレルに接続する場合に、
    分岐側のI/Oセルに対応する空きパッドと前記各I/
    Oセルのグランド側が接続されるグランドラインとを長
    さを短くすべく接続し、該空きパッドの電位をグランド
    電位としたことを特徴とする半導体集積回路装置。 2、前記半導体集積回路装置はBi−CMOS回路を含
    んでなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    半導体集積回路装置。 3、前記半導体集積回路装置にはゲートアレイが形成さ
    れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載ま
    たは第2項記載の半導体集積回路装置。
JP1199443A 1989-08-02 1989-08-02 半導体集積回路装置 Pending JPH0364045A (ja)

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JP (1) JPH0364045A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04171843A (ja) * 1990-11-05 1992-06-19 Nec Ic Microcomput Syst Ltd ゲートアレイ方式lsi
JP2007181541A (ja) * 2006-01-06 2007-07-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 家庭電気製品収納庫

Cited By (2)

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JPH04171843A (ja) * 1990-11-05 1992-06-19 Nec Ic Microcomput Syst Ltd ゲートアレイ方式lsi
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