JPH02250958A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPH02250958A JPH02250958A JP1070829A JP7082989A JPH02250958A JP H02250958 A JPH02250958 A JP H02250958A JP 1070829 A JP1070829 A JP 1070829A JP 7082989 A JP7082989 A JP 7082989A JP H02250958 A JPH02250958 A JP H02250958A
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- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- crucible
- deposition material
- pressure
- inert gas
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は真空蒸着装置に関するものである。
従来の技術
真空蒸着装置において、基板の入れ換えや内部のメンテ
ナンスのために真空容器中に大気を導入する時、いわゆ
るリークする時、蒸着材料が大気と接触することによっ
て大気中の酸素や水分と反応あるいはそれらを吸着して
汚染され、高品質の薄膜が形成できないという課題があ
った。
ナンスのために真空容器中に大気を導入する時、いわゆ
るリークする時、蒸着材料が大気と接触することによっ
て大気中の酸素や水分と反応あるいはそれらを吸着して
汚染され、高品質の薄膜が形成できないという課題があ
った。
この課題に対応するために従来は例えば特開昭63−2
70457号公報に示されているように真空容器に大気
を導入する時、蒸着材料が大気に接触しないように、蒸
着材料を真空雰囲気に保持する手段が設けられていた。
70457号公報に示されているように真空容器に大気
を導入する時、蒸着材料が大気に接触しないように、蒸
着材料を真空雰囲気に保持する手段が設けられていた。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記従来の方法では蒸着材料の大気から
の汚染に対しては有効であるが、次に示す第3図におい
て説明する課題に対して有効ではない。
の汚染に対しては有効であるが、次に示す第3図におい
て説明する課題に対して有効ではない。
イ
第3図において、蒸着が終了してるつぼ1に収入
納された蒸着材料2はるつぼ内壁3に接触°する部分か
ら凝固を始める。蒸着材料2が高融点金属等の場合には
通常るつは1には焼結したセラミックスが用いられる。
ら凝固を始める。蒸着材料2が高融点金属等の場合には
通常るつは1には焼結したセラミックスが用いられる。
焼結したセラミックスの表面はるので、蒸着材料2はそ
の凹凸4に入り込んだ状態で凝固することになる。蒸着
材料2は温度低下による収縮を始める。そうするとるつ
ぼ1の凹凸4に入り込んだ蒸着材料2はるつぼ内壁3を
引きはがしながら蒸着材料2の中央部に引き寄せられて
第3図口のように蒸着材料2のるつぼ1と接触していた
面にはるつぼ材料の破断片6が付着することになる。
の凹凸4に入り込んだ状態で凝固することになる。蒸着
材料2は温度低下による収縮を始める。そうするとるつ
ぼ1の凹凸4に入り込んだ蒸着材料2はるつぼ内壁3を
引きはがしながら蒸着材料2の中央部に引き寄せられて
第3図口のように蒸着材料2のるつぼ1と接触していた
面にはるつぼ材料の破断片6が付着することになる。
また、仮にるつぼ10表面が滑らかであっても蒸着材料
2とるつぼ1との化学的な親和力等によってもこのよう
な引きはがしが発生することがある。蒸着のために再び
蒸着材料2を加熱溶融すると、セラミックスは通常金属
よりも軽いので蒸着材料2の表面に第3図ハのように前
記破断片6が浮くことになる。
2とるつぼ1との化学的な親和力等によってもこのよう
な引きはがしが発生することがある。蒸着のために再び
蒸着材料2を加熱溶融すると、セラミックスは通常金属
よりも軽いので蒸着材料2の表面に第3図ハのように前
記破断片6が浮くことになる。
そうすると実効的に蒸着材料2の蒸発面積が小さくなっ
て成膜速度が低下したり、あるいは電子ビーム蒸着の場
合には、破断片6に電子ビームが当り、破断片6が蒸発
して薄膜に不純物として入り込み、薄膜の品質を劣化さ
せる等、従来の方法では対応できない大きな課題があっ
た。
て成膜速度が低下したり、あるいは電子ビーム蒸着の場
合には、破断片6に電子ビームが当り、破断片6が蒸発
して薄膜に不純物として入り込み、薄膜の品質を劣化さ
せる等、従来の方法では対応できない大きな課題があっ
た。
そこで本発明はるつぼ内壁が引きはがされることを防止
することによって前記課題を解決し、高品質の薄膜を形
成可能な真空蒸着装置を提供することを目的とするもの
である。
することによって前記課題を解決し、高品質の薄膜を形
成可能な真空蒸着装置を提供することを目的とするもの
である。
課題を解決するだめの手段
そして上記課題を解決するため本発明は、蒸着材料を収
納するるつぼを密閉状態と開放状態とに選択的に保持可
能な密閉手段により密閉保持した状態で蒸着材料を加熱
するとともに、その密閉容器中に不活性ガスを供給する
ものである。
納するるつぼを密閉状態と開放状態とに選択的に保持可
能な密閉手段により密閉保持した状態で蒸着材料を加熱
するとともに、その密閉容器中に不活性ガスを供給する
ものである。
作 用
本発明は上記した手段により、蒸着材料の凝固収縮を防
止してるつぼ内壁が引きはがされないようにして前記課
題を解決すると共に、不活性ガスを供給して前記密閉容
器内の圧力を高くして加熱された蒸着材料の蒸発を抑制
または防止できる状態にする。したがって加熱による蒸
発材料の消耗も密閉容器の内部に蒸着材料の蒸気が付着
して汚れることも少ない。
止してるつぼ内壁が引きはがされないようにして前記課
題を解決すると共に、不活性ガスを供給して前記密閉容
器内の圧力を高くして加熱された蒸着材料の蒸発を抑制
または防止できる状態にする。したがって加熱による蒸
発材料の消耗も密閉容器の内部に蒸着材料の蒸気が付着
して汚れることも少ない。
実施例
以下本発明の一実施例を図面に従って説明する。
第1図は本発明の全体構成を示す断面図である。
第1図において10は真空容器で上部には基板11を支
持する基板取付台27が固定されている。12は蒸着材
料13を収納するるつぼで14は断熱材16で支持され
だヒータである。17は不活性ガス通路、18は真空計
、19は弁である。21は凹み21−1を形成した開閉
用の蓋で軸22に固定され、軸22の一端にはピニオン
28が固定されている。軸22は両端を軸受23により
回転可能に支持されている。ビニオン28は真空容器1
0の外側に設けたエアシリンダ24の矢印C,D方向の
往復動作によりその動作がラック26に伝達され、矢印
E、F方向に回動する。なお真空容器1oを排気する公
知の排気手段は省略しである。
持する基板取付台27が固定されている。12は蒸着材
料13を収納するるつぼで14は断熱材16で支持され
だヒータである。17は不活性ガス通路、18は真空計
、19は弁である。21は凹み21−1を形成した開閉
用の蓋で軸22に固定され、軸22の一端にはピニオン
28が固定されている。軸22は両端を軸受23により
回転可能に支持されている。ビニオン28は真空容器1
0の外側に設けたエアシリンダ24の矢印C,D方向の
往復動作によりその動作がラック26に伝達され、矢印
E、F方向に回動する。なお真空容器1oを排気する公
知の排気手段は省略しである。
次に動作について説明する。
成膜は、エアシリンダ24を矢印C方向に動作させて蓋
21を矢印E方向に開けた状態で次のように行う。ヒー
タ14に通電してるつぼ12を介して蒸着材料13を加
熱し、蒸発させて前記基板11に薄膜を形成する。蒸着
材料13が高融点金属等の蒸気圧の高い材料の場合は、
図示しないが公知の電子ビーム加熱手段を用いても、ま
た他の加熱手段であっても、またそれらとヒータ14を
併用してもよい。
21を矢印E方向に開けた状態で次のように行う。ヒー
タ14に通電してるつぼ12を介して蒸着材料13を加
熱し、蒸発させて前記基板11に薄膜を形成する。蒸着
材料13が高融点金属等の蒸気圧の高い材料の場合は、
図示しないが公知の電子ビーム加熱手段を用いても、ま
た他の加熱手段であっても、またそれらとヒータ14を
併用してもよい。
次に基板11の入れ換えやメンテナンス等で真空容器1
0をリークする時は、ヒータ14に通電して蒸着材料1
3の溶融を維持した状態で、まずエアシリンダ24を矢
印り方向に動作させ、蓋21をF方向に回転させてOり
ング20に抑圧接触させる。次に真空容器10をリーク
する。そして真空容器内が大気圧になるにつれて真空容
器内圧力が蓋21で密閉した空間26の圧力よりも高く
なり最後に蓋21は大気圧で押圧された状態になりリー
ス16に密着固定される。次に弁19を開いて溶融した
蒸着材料13と反応しないいわゆる不活性ガスを空間2
6の圧力を真空計18で計測しつつ導入し、所要圧力に
なれば弁19を閉じる。
0をリークする時は、ヒータ14に通電して蒸着材料1
3の溶融を維持した状態で、まずエアシリンダ24を矢
印り方向に動作させ、蓋21をF方向に回転させてOり
ング20に抑圧接触させる。次に真空容器10をリーク
する。そして真空容器内が大気圧になるにつれて真空容
器内圧力が蓋21で密閉した空間26の圧力よりも高く
なり最後に蓋21は大気圧で押圧された状態になりリー
ス16に密着固定される。次に弁19を開いて溶融した
蒸着材料13と反応しないいわゆる不活性ガスを空間2
6の圧力を真空計18で計測しつつ導入し、所要圧力に
なれば弁19を閉じる。
空間26へ導入する不活性ガスの圧力が高くなるにつれ
て蒸着材料13の蒸発は抑制され、蒸着材料13の蒸気
圧よりも高くなるとその蒸発は完全に抑止される。通常
その蒸気圧は蒸着材料13の種類や加熱温度によシ異な
るが、10−5Torr〜10Torrであるから空間
26の圧力が大気圧よりも高くなって蓋21が開くこと
はない。
て蒸着材料13の蒸発は抑制され、蒸着材料13の蒸気
圧よりも高くなるとその蒸発は完全に抑止される。通常
その蒸気圧は蒸着材料13の種類や加熱温度によシ異な
るが、10−5Torr〜10Torrであるから空間
26の圧力が大気圧よりも高くなって蓋21が開くこと
はない。
したがって、蒸着材料13は凝固収縮を起こさないので
従来のように、るつぼ12の内壁を引きはがすことはな
い。また、蒸着材料13が空間26へ蒸発して蒸着材料
13が消耗したり、蓋21に膜が付着して汚れる等の不
都合が発生することも少ない。
従来のように、るつぼ12の内壁を引きはがすことはな
い。また、蒸着材料13が空間26へ蒸発して蒸着材料
13が消耗したり、蓋21に膜が付着して汚れる等の不
都合が発生することも少ない。
次に本発明の他の実施例について説明する。
第1図と共通する構成要素には同一番号を付し、説明を
省略する。
省略する。
前記実施例においてはるっぽ12を密閉するための手段
の一要素に回動式の蓋21を用いたがスライド式の蓋で
あってもよい。
の一要素に回動式の蓋21を用いたがスライド式の蓋で
あってもよい。
第2図において、3oは公知のゲートバルブ31により
仕切られた副室である。32はエアシリンダ33とハー
ス16の連結棒である。蒸着はゲートバルブ31を開い
た状態で、エアシリンダ33によりハース16を真空容
器10内の破線状態まで持ち上げて行い、真空容器1o
をリークする時はエアシリンダ33によりハース16を
副室3゜内の実線位置まで下げ、ゲートバルブ31を閉
じて前記と同様ヒータ14で蒸着材料13を加熱し、不
活性ガスを導入すればよい。このような構成にすると真
空容器10内にハース16が残らないので真空容器10
内のメンテナンス等を容易に行えるという利点がある。
仕切られた副室である。32はエアシリンダ33とハー
ス16の連結棒である。蒸着はゲートバルブ31を開い
た状態で、エアシリンダ33によりハース16を真空容
器10内の破線状態まで持ち上げて行い、真空容器1o
をリークする時はエアシリンダ33によりハース16を
副室3゜内の実線位置まで下げ、ゲートバルブ31を閉
じて前記と同様ヒータ14で蒸着材料13を加熱し、不
活性ガスを導入すればよい。このような構成にすると真
空容器10内にハース16が残らないので真空容器10
内のメンテナンス等を容易に行えるという利点がある。
以上において蒸着材料の混同収縮を防止するための加熱
手段はヒータ14としたが、それに限るものではなく誘
導加がであっても電子ビーム加熱であってもよい。
手段はヒータ14としたが、それに限るものではなく誘
導加がであっても電子ビーム加熱であってもよい。
発明の効果
以上、述べたように本発明によれば真空容器内をリーク
する時に蒸着材料を加熱しながらるつぼを密閉すると共
に不活性ガスを供給し、密閉容器内を加熱された蒸着材
料の蒸発を抑制または抑止することにより、蒸着材料の
凝固収縮によるるつぼ内壁の引きはがしを防止すること
ができる。その結果、るつぼ内壁より引きはがされた破
断片による蒸着材料の汚染を防止して安定した高品質の
薄膜を形成することができる。
する時に蒸着材料を加熱しながらるつぼを密閉すると共
に不活性ガスを供給し、密閉容器内を加熱された蒸着材
料の蒸発を抑制または抑止することにより、蒸着材料の
凝固収縮によるるつぼ内壁の引きはがしを防止すること
ができる。その結果、るつぼ内壁より引きはがされた破
断片による蒸着材料の汚染を防止して安定した高品質の
薄膜を形成することができる。
第1図は本発明の一実施例の一部断面正面図、第2図は
本発明の他の実施例の一部断面正面図、第3図は従来例
を説明するための断面を示す正面図である。 1o・・・・・・真空容器、11・・・・・・基板、1
2・・・・・・るつぼ、13・・・・・・蒸着材料、1
4・・・・・・ヒータ、17・・・・・・不活性ガス通
路、18・・・・・・真空計、19・・・・・・弁、2
o・・・・・・oリング、21・・・・・・蓋。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名蕗 図 第 図 (イ)
本発明の他の実施例の一部断面正面図、第3図は従来例
を説明するための断面を示す正面図である。 1o・・・・・・真空容器、11・・・・・・基板、1
2・・・・・・るつぼ、13・・・・・・蒸着材料、1
4・・・・・・ヒータ、17・・・・・・不活性ガス通
路、18・・・・・・真空計、19・・・・・・弁、2
o・・・・・・oリング、21・・・・・・蓋。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名蕗 図 第 図 (イ)
Claims (2)
- (1)真空容器と、前記真空容器中に設けられた基板及
びるつぼと、前記るつぼに収納された蒸着材料を加熱し
て蒸着せしめ前記基板に薄膜を形成する第1の加熱手段
と、前記るつぼを密閉状態と開放状態とに選択的に保持
可能な密閉手段と、前記るつぼが前記密閉手段により密
閉保持されている状態で前記蒸着材料を加熱する第2の
加熱手段と、前記密閉容器中に不活性ガスを供給する手
段とから成る真空蒸着装置。 - (2)第1と第2の加熱手段を同一加熱手段として成る
請求項1記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1070829A JPH02250958A (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1070829A JPH02250958A (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02250958A true JPH02250958A (ja) | 1990-10-08 |
Family
ID=13442858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1070829A Pending JPH02250958A (ja) | 1989-03-23 | 1989-03-23 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02250958A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011077662A1 (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置及びそのメンテナンス方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6230875A (ja) * | 1985-07-31 | 1987-02-09 | Ulvac Corp | バツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置 |
| JPS63270457A (ja) * | 1987-04-24 | 1988-11-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜形成装置 |
-
1989
- 1989-03-23 JP JP1070829A patent/JPH02250958A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6230875A (ja) * | 1985-07-31 | 1987-02-09 | Ulvac Corp | バツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置 |
| JPS63270457A (ja) * | 1987-04-24 | 1988-11-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜形成装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011077662A1 (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置及びそのメンテナンス方法 |
| JP5619028B2 (ja) * | 2009-12-21 | 2014-11-05 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置及びそのメンテナンス方法 |
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