JPS6230875A - バツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置 - Google Patents

バツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置

Info

Publication number
JPS6230875A
JPS6230875A JP16751185A JP16751185A JPS6230875A JP S6230875 A JPS6230875 A JP S6230875A JP 16751185 A JP16751185 A JP 16751185A JP 16751185 A JP16751185 A JP 16751185A JP S6230875 A JPS6230875 A JP S6230875A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
evaporation
evaporation source
vacuum
evaporating source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP16751185A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0215628B2 (ja
Inventor
Takeo Kato
丈夫 加藤
Yoshio Sunaga
芳雄 砂賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP16751185A priority Critical patent/JPS6230875A/ja
Publication of JPS6230875A publication Critical patent/JPS6230875A/ja
Publication of JPH0215628B2 publication Critical patent/JPH0215628B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、バッチ式真空蒸着′IA所用蒸発源収納装置
に関するものである。
[従来の技術] 従来、バッチ式真空蒸着装置としては種々の型式のもの
が提案されており、例えば、実公昭49−18121号
公報、特公昭43− 11370号公報、特公昭5B−
3032号公報および待合ll35B−17829号公
報等に記載のものを公知例としてあげることができる。
これらの公知の装置はいずれも真空容器から成る蒸着室
内に被処理物と蒸発源とを対向させて配置し、真空中で
物質を加熱して蒸発さV、その蒸気を被処理物上に凝縮
させて7Ii膜を形成するように構成されている。
[発明が解決しようとする問題点] ところで、このようなバッチ式真空蒸着装置においては
、蒸着作業が終了すると、蒸着室を人気に開放して被処
理物の入れ換えを行なう必要がある。この場合、蒸着作
業終了直後に大気を導入すると、蒸発源は、急冷される
ため損(セすることがある。このため蒸着作業終了後、
蒸発源がある程度冷却されるまで蒸着室を大気に開放す
るのを待つ必要がある。その結果、1バツヂ当りに要す
る時開が長くなり、生産性が悪い。
また、蒸着作業終了毎に蒸発源が大気中に晒されるので
、酸化等が起こり、消耗が早く、メンテナンス費用が増
大する傾向があった。
−力、蒸着室と蒸発源室とを別個に設け、これらの画室
を大口径のバルブで仕切り、蒸発源室を常に真空状態に
保持し、蒸着室のみを大気圧にするようにした二室式真
空蒸着装δも提案されているが、蒸着室内の被処理物と
蒸発源室内の蒸発源とは対抗させて位置決めしなければ
ならないため、装−置の構成が自ずと制限を受け、しか
も蒸着室と蒸発源室との間に大口径のバルブを設ける必
要があるので、蒸着室内の被処理物と蒸発源室内の蒸発
源との距離についても制約を受けることになる。
そこで、本発明は、上述のような従来技術の問題点を解
決して、1バッチ当りの作業時間を大幅に短縮でき、し
かも蒸発源を毎回大気に晒さずにしかも不要な蒸発や汚
染を防ぐことのできるバッチ式真空蒸着装置用蒸発源収
納装置を提供することを目的としている。
し問題点を解決するための手段] 上記の目的を達成づるために、本発明によるバッチ式真
空蒸着装置用魚介源収納V;、置は、内部に基板と蒸発
源とを挿間し、上記蒸発源から蒸発させた蒸着物質蒸気
を上記基板上に凝縮させで蒸4を行なうようにした真空
蒸着室と、上記真空蒸着室に仕切弁を介して連結し、真
空を維持できるようにした蒸発源収納室と、上記蒸発源
収納室内で上記蒸発源の蒸発と汚染を防止するキャリア
ガスを上記蒸発源収納室内に導入するキャリアガス導入
装置とを有し、上記真空蓋6室と上記蒸発源収納室どの
間で上記蒸発源を移動できるようにしたことを特徴とし
ている。
[作    用] 本発明によるバッチ式真空、R着装置用蒸発源収納装置
においては、真空蒸着室に仕切弁を介して連結して別個
に蒸発源収納室が設(プられ、蒸着処理中蒸発源はキャ
リアガス雰囲気中の蒸発源収納室から真空蒸着室内の被
処理物に対向覆る位冒に搬入され、蒸着処理終了後の被
処理物の取出し時には再び蒸発源収納室内に収納され、
キャリアガス導入装置によって導入された不活性ガス雰
囲気内に保持される。
[実 施 例] 以下、添附図面を参照して本発明の実施例について説明
する。
第1図には本発明の一実施例によるバッチ式真空蒸首装
口用蒸発源収納装置の要部を概略的に示し、1は蒸発源
収納室で、その内側に断熱材1aが施されており、従っ
て保温室を構成している。
この蒸発源収納室1は仕切バルブ2を介して真空蒸着室
3に連結されている。蒸発源収納室1内には蒸発源4を
搬送するための搬送ローラ5が一平面上に配列されてお
り、各搬送ローラ5は、第2図に示すように、外部の駆
動系6(図面にはそのうちの一つだけを示す)を介して
駆動制御されIJる。図面には示してないが、真空蒸着
室3内にも搬送ローラ5と同様な搬送[]−ラが上記搬
送ローラ5の平面と実質的に同一の平面上に同じ向きで
配列される。蒸発源収納室1内の上部には二つのヒータ
7が長手方向に沿って設けられ、電1〜端子8を介して
外部電源(図示してない)に接続され、また各ヒータ7
と組み合わせて蒸発源収納室1の土壁には温度制御用の
熱電対9(一方のみを第1図に示す)が設けられている
。これらのヒータ7および熱電対9の作用により、蒸発
源4の温度は一定温度に維持され得る。一方、蒸発源収
納室1内の下部にはキャリアガス導入装置1oが配設さ
れており、このキャリアガス導入装置1oは外部の図示
してない適当なキャリアガス供給源に連結され、不活性
ガスを蒸発源収納v1内に供給して蒸発源4内の蒸発物
質の蒸発を抑えると共に蒸発源4を周囲からの汚染から
保護する。また蒸発源収納室1は、その上部に設けた排
気口11を介して活気系に連結され、常に所定の真空レ
ベルに維持され得る。
このように構成した図示装置の動作においCは、真空蒸
着室3内において被処理物(図示してない)に対する所
要の蒸着作業が終了するど、まず、真空蒸着室3と蒸発
源収納室1との間の仕切バルブ2を開き、蒸発源収納室
1 J3よび真空蒸着室3内の搬送ローラ5を外部の駆
動系6により駆動して真空蒸着室3内に位置している蒸
発源4を高温真空状態に保たれた蒸発源収納室1へ搬出
する。しかる(股、仕切バルブ2を閉じ、真空蒸着室3
を大気に開放して真空蒸着室3内の蒸着処理の終った?
!11198理物を取り出す。その後、処理すべき別の
被98埋物を真空蒸着室3内に装着し、再び真空蒸着室
3内を排気する。排気終了後、仕切バルブ2を開き、搬
送ローラ5を逆方向に駆動して高温状態に保たれている
蒸発源4を真空蒸着室3内に搬入し、仕切バルブ2を閉
じて蒸着作業を再開する。
このようなΩ)作を繰返すことによって−・連の蒸着作
業を行なうことができる。
なお、図示実施例では、キャリアガス導入管10は蒸発
源収納室1の下部に配設されているが、代りに蒸発源収
納室1の上部または左右両側部に設けてもよく、ヒータ
7についてもその数および位置を適宜変更することかで
きる。また、搬送ローラの代りに他の適当な搬送機構、
例えばベルト式やチェーン式等の搬送手段を使用しても
よい。
また図示実施例では、−・つの蒸発源が使用されている
が、当然処11′l! ll的に応じて複数個の蒸発源
を用いてもよく、また蒸発源の型式についでし種々の型
式のものに対して同様に適用Cきる。さらに各部の動作
は、自動的に制御しても手動ぐ制御してもよい、。
L発明の効果] 以上、説明してきたように、本発明によれば、内部に基
板と蒸発源とを挿置し、上記蒸発源から蒸発させた蒸着
物質然気を上記基板上に凝縮さμて蒸着を行なうように
した真空蒸着室と、上記[′!空蒸着室に仕切弁を介し
′C連結し、真空を維持できるようにした蒸発源収納室
と、上記蒸発源収納室内で上記蒸発源の蒸発と汚染を防
止するキャリアガスを上記蒸発源収納室内に導入するキ
ャリアガス導入装置とを有し、上記真空蒸着室と上記蒸
発源収納室との間で上記蒸発源を移動できるように構成
しているので、蒸着終了後従来行なわれていた蒸発源の
冷却を省くことができ、1バッチ当りの作業時間が短か
くなり、その分生産性を向上させることができる。また
、蒸発源が蒸着終了毎に大気に晒されず、キャリアガス
雰囲気中に保たれるので、常に安定した品質で蒸着を行
なうことができしかも蒸発源の消耗を従来の1/1o程
度に押えることができ、それにより、ランニングコス1
へを低減できるだけでなく、メンテナンス時間も大幅に
短縮できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す概略断面図、第2図は
第1図の装置の横断面図である。 図中、1:蒸発源収納室、1a:断熱材、2:仕切バル
ブ、3:真空蒸着室、4:蒸発源、5:搬送ローラ、1
0:キャリアガス導入装置。 晃2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 内部に基板と蒸発源とを挿置し、上記蒸発源から蒸発さ
    せた蒸着物質蒸気を上記基板上に凝縮させて蒸着を行な
    うようにした真空蒸着室と、上記真空蒸着室に仕切弁を
    介して連結し、真空を維持できるようにした蒸発源収納
    室と、上記蒸発源収納室内で上記蒸発源の蒸発と汚染を
    防止するキャリアガスを上記蒸発源収納室内に導入する
    キャリアガス導入装置とを有し、上記真空蒸着室と上記
    蒸発源収納室との間で上記蒸発源を移動できるようにし
    たことを特徴とするバッチ式真空蒸着装置用蒸発源収納
    装置。
JP16751185A 1985-07-31 1985-07-31 バツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置 Granted JPS6230875A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16751185A JPS6230875A (ja) 1985-07-31 1985-07-31 バツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16751185A JPS6230875A (ja) 1985-07-31 1985-07-31 バツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6230875A true JPS6230875A (ja) 1987-02-09
JPH0215628B2 JPH0215628B2 (ja) 1990-04-12

Family

ID=15851036

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16751185A Granted JPS6230875A (ja) 1985-07-31 1985-07-31 バツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6230875A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02250958A (ja) * 1989-03-23 1990-10-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 真空蒸着装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04185807A (ja) * 1990-11-21 1992-07-02 Nikken Tokushu Kogyo Kk 河川の河口附近に設ける表層水取水装置
WO2011077662A1 (ja) * 2009-12-21 2011-06-30 株式会社アルバック 真空蒸着装置及びそのメンテナンス方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02250958A (ja) * 1989-03-23 1990-10-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 真空蒸着装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0215628B2 (ja) 1990-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6487791B2 (en) Vacuum processing apparatus
JP3909888B2 (ja) トレイ搬送式インライン成膜装置
US3931789A (en) Vapor deposition apparatus
JP2600399B2 (ja) 半導体ウエーハ処理装置
JPH0522379B2 (ja)
JPS6230875A (ja) バツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置
JP3218840B2 (ja) 連続処理装置
JPH07227777A (ja) 被処理物の搬送装置および処理装置
JPS6230873A (ja) バツチ式真空蒸着装置用蒸発源収納装置
JPH0244900B2 (ja) Batsuchishikishinkujochakusochojohatsugenshunosochi
JPH05148650A (ja) 薄膜処理装置
JPH0544713Y2 (ja)
JPH04231464A (ja) インライン式成膜装置の搬送装置
JPH0610680Y2 (ja) インライン式成膜装置の搬送機構
JPH01120811A (ja) 半導体ウエハ処理装置
JPS61163270A (ja) イオン蒸着薄膜形成装置
JP2003171717A (ja) 2室型熱処理炉
JPS6381915A (ja) 処理装置
JPS62298116A (ja) 処理装置
JPH04136168A (ja) イオン処理装置
JPS6286184A (ja) プラズマエツチング装置
JPH0230759A (ja) 真空処理装置
JPS6244945A (ja) イオン注入装置
KR101393465B1 (ko) 기판 처리 장치
JPS61285712A (ja) 薄膜形成装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees