JPH02256148A - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
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- JPH02256148A JPH02256148A JP1077353A JP7735389A JPH02256148A JP H02256148 A JPH02256148 A JP H02256148A JP 1077353 A JP1077353 A JP 1077353A JP 7735389 A JP7735389 A JP 7735389A JP H02256148 A JPH02256148 A JP H02256148A
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- electrode
- electrodes
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- ion implantation
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- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 title claims description 10
- 230000005405 multipole Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007943 implant Substances 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
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- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、多重極偏向電極部で偏向されたイオンビー
ムを基板上に走査させ、その基板にイオンを注入するイ
オン注入装置に関するものである。
ムを基板上に走査させ、その基板にイオンを注入するイ
オン注入装置に関するものである。
(従来の技術)
従来のイオン注入装置は、第7図に示されるように、1
個の物体よりなる棒状のアルミニュウム製電極1aを等
間隔で8本配設した第1の8電極偏向電極部1の後方に
、同じく1個の物体よりなる棒状のアルミニュウム製電
極2aを等間隔で8本配設した第2の8電極偏向電極部
2を配設し、そして、その第2の8電極偏向電極部2の
後方に基板3を配設して、第1の8電極偏向電極部1で
X方向(水平方向)及びY方向(垂直方向)に偏向され
たイオンビーム4を第2の8電極偏向電極部2で更にX
方向(水平方向)及びY方向(垂直方向)に偏向して、
第1の8電極偏向電極部1に入るイオンビーム4の流れ
方向と、第2の8電極偏向電極部2より出るイオンビー
ム4とが平行になるようにしていた。
個の物体よりなる棒状のアルミニュウム製電極1aを等
間隔で8本配設した第1の8電極偏向電極部1の後方に
、同じく1個の物体よりなる棒状のアルミニュウム製電
極2aを等間隔で8本配設した第2の8電極偏向電極部
2を配設し、そして、その第2の8電極偏向電極部2の
後方に基板3を配設して、第1の8電極偏向電極部1で
X方向(水平方向)及びY方向(垂直方向)に偏向され
たイオンビーム4を第2の8電極偏向電極部2で更にX
方向(水平方向)及びY方向(垂直方向)に偏向して、
第1の8電極偏向電極部1に入るイオンビーム4の流れ
方向と、第2の8電極偏向電極部2より出るイオンビー
ム4とが平行になるようにしていた。
上記のような第1の8電極偏向電極部1おいて、アルミ
ニュウム製電極1aの支持の仕方は第8図に示されるよ
うに、アルミニュウム製電極1aが所定の間隔をあけて
筒状真空容器5に取付けられた2本の絶縁支持棒6によ
って支持されている。
ニュウム製電極1aの支持の仕方は第8図に示されるよ
うに、アルミニュウム製電極1aが所定の間隔をあけて
筒状真空容器5に取付けられた2本の絶縁支持棒6によ
って支持されている。
筒状真空容器5には絶縁体7が取付けられ、その絶縁体
7には電極導入端子8が固定され、そして、その電極導
入端子8の一端とアルミニュウム製電極1aとはリード
線9を介して電気的に接続されている。
7には電極導入端子8が固定され、そして、その電極導
入端子8の一端とアルミニュウム製電極1aとはリード
線9を介して電気的に接続されている。
なお、第2の8電極偏向電極部2の構造は、第1の8電
極偏向電極部1の構造と同様につき、その説明を省略す
る。
極偏向電極部1の構造と同様につき、その説明を省略す
る。
(発明が解決しようとする課題)
従来のイオン注入装置において、第1及び第2の8電極
偏向電極部1.2のガス放出のため、これらを室温より
約100°C程加熱して、ベーキング処理を行うときに
は、室温で800 mmのアルミニュウム製電極1a、
2aはアルミニュウムの線膨張係数が3.3X 10−
5/℃であるので、熱膨張によりそれぞれ2.6mmだ
け伸びようとする。
偏向電極部1.2のガス放出のため、これらを室温より
約100°C程加熱して、ベーキング処理を行うときに
は、室温で800 mmのアルミニュウム製電極1a、
2aはアルミニュウムの線膨張係数が3.3X 10−
5/℃であるので、熱膨張によりそれぞれ2.6mmだ
け伸びようとする。
しかしながら、従来のイオン注入装置は上記のように第
1及び第2の8電極偏向電極部1.2の各アルミニュウ
ム製電極1a、2aがそれぞれ筒状真空容器5に所定の
間隔をおいて取付けられた2本の絶縁支持棒6によって
支持されているので、アルミニュウム製電極1a、2a
の熱膨張による伸びが制約される。
1及び第2の8電極偏向電極部1.2の各アルミニュウ
ム製電極1a、2aがそれぞれ筒状真空容器5に所定の
間隔をおいて取付けられた2本の絶縁支持棒6によって
支持されているので、アルミニュウム製電極1a、2a
の熱膨張による伸びが制約される。
そのため、従来のイオン注入装置は、アルミニュウム製
電極1a、2aが熱応力等により塑性変形して、アルミ
ニュウム製電極]、a、2aが8電極偏向電極部1.2
における電場の分布状況が変化し、イオンビーム4の偏
向が悪くなる等の問題が起きた。
電極1a、2aが熱応力等により塑性変形して、アルミ
ニュウム製電極]、a、2aが8電極偏向電極部1.2
における電場の分布状況が変化し、イオンビーム4の偏
向が悪くなる等の問題が起きた。
この発明の目的は、従来の問題を解決して、電極が熱膨
張によって伸びたとしても、その伸びを吸収して、電極
に塑性変形を起こさせないイオン注入装置を提供するこ
とにある。
張によって伸びたとしても、その伸びを吸収して、電極
に塑性変形を起こさせないイオン注入装置を提供するこ
とにある。
(課題を達成するための手段)
上記目的を達成するために、この発明は、筒状真空容器
内に複数の棒状の電極を所定の間隔で配設した多重極偏
向電極部で偏向したイオンビームを基板上に走査させ、
基板にイオンを注入するイオン注入装置において、上記
複数の電極の各々が、少なくとも複数の電極片を、その
端部に形成された切欠き部で長尺方向に隙間をもって重
ねることにより形成されていることを特徴とするもので
ある。
内に複数の棒状の電極を所定の間隔で配設した多重極偏
向電極部で偏向したイオンビームを基板上に走査させ、
基板にイオンを注入するイオン注入装置において、上記
複数の電極の各々が、少なくとも複数の電極片を、その
端部に形成された切欠き部で長尺方向に隙間をもって重
ねることにより形成されていることを特徴とするもので
ある。
(作用)
この発明においては、多重極偏向電極部のガス放出のた
め、多重極偏向電極部を室温より加熱して、ベーキング
処理を行う場合、多重極偏向電極部の各電極のそれぞれ
の電極片の端部に形成された切欠き部が長尺方向に隙間
をもって重ねられているので1、電極片に熱膨張による
伸びがあったときには、その伸びの長尺方向の隙間で吸
収されるようになる。
め、多重極偏向電極部を室温より加熱して、ベーキング
処理を行う場合、多重極偏向電極部の各電極のそれぞれ
の電極片の端部に形成された切欠き部が長尺方向に隙間
をもって重ねられているので1、電極片に熱膨張による
伸びがあったときには、その伸びの長尺方向の隙間で吸
収されるようになる。
(実施例)
以下、この発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。
明する。
第1の8電極偏向電極部1、第2の8電極偏向電極部2
a及び基板3の配置は、従来の装置を示す第7図と同様
につきその説明を省略する。
a及び基板3の配置は、従来の装置を示す第7図と同様
につきその説明を省略する。
第1図はこの発明の第1実施例を示しており、同図にお
いて、第1の8電極偏向電極部1の筒状真空容器5の外
周壁に所定の長さの2つの電極取付用ポート部10a、
10bが所定の間隔をおいて筒状真空容器5の外側に延
びるように溶着され、そして、各電極取付ボート部10
a、10bには絶縁体7a、7bを介して電圧導入棒L
la、11bが筒状真空容器5内に延びるように取付け
られている。各電圧導入棒11a、llbの先端にはア
ルミニュウム製の電極片12a、12bが取付けられて
いる。電極片12aの電極片12b側の端部には切欠き
部12a1が形成され、また電極片12bの電極片12
a側の端部にも切欠き部12 b lが形成され、各切
欠き部12 a + 12b、が長尺方向に隙間を
もって重なり、電極片12aと電極片12bとでアルミ
ニュウム製の電極1aが形成されている。電圧導入棒1
1a、11b間は導線13で接続されており、これによ
って電極片12aと電極片12bとが同電位になる。
いて、第1の8電極偏向電極部1の筒状真空容器5の外
周壁に所定の長さの2つの電極取付用ポート部10a、
10bが所定の間隔をおいて筒状真空容器5の外側に延
びるように溶着され、そして、各電極取付ボート部10
a、10bには絶縁体7a、7bを介して電圧導入棒L
la、11bが筒状真空容器5内に延びるように取付け
られている。各電圧導入棒11a、llbの先端にはア
ルミニュウム製の電極片12a、12bが取付けられて
いる。電極片12aの電極片12b側の端部には切欠き
部12a1が形成され、また電極片12bの電極片12
a側の端部にも切欠き部12 b lが形成され、各切
欠き部12 a + 12b、が長尺方向に隙間を
もって重なり、電極片12aと電極片12bとでアルミ
ニュウム製の電極1aが形成されている。電圧導入棒1
1a、11b間は導線13で接続されており、これによ
って電極片12aと電極片12bとが同電位になる。
したがって、この第1の8電極偏向電極部1のガス放出
のため、第1の8電極偏向電極部1を室温より加熱して
、ベーキング処理を行う場合、第1の8電極偏向電極部
1の各電極1aのそれぞれの電極片12a、12bの端
部の各切欠き部12al 12blが長尺方向に隙間
をもって重なっているので、各電極片12a、12bの
熱膨張による伸びは長尺方向に隙間で吸収される。その
ため、各電極片12a、12bは熱応力による塑性変形
を起こさなくなる。
のため、第1の8電極偏向電極部1を室温より加熱して
、ベーキング処理を行う場合、第1の8電極偏向電極部
1の各電極1aのそれぞれの電極片12a、12bの端
部の各切欠き部12al 12blが長尺方向に隙間
をもって重なっているので、各電極片12a、12bの
熱膨張による伸びは長尺方向に隙間で吸収される。その
ため、各電極片12a、12bは熱応力による塑性変形
を起こさなくなる。
次に、第2図は第2実施例を示している。この第2実施
例は、第1の8電極偏向電極部lの筒状真空容器5内に
配設された第3図に示される電極支持体14の内周に等
間隔で軸線方向に形成された8本の凸状断面の溝14.
aに、第4図に示される端部に各切欠き部15aをも
った凸状断面の2つの電極片15を電極支持体14の前
後より挿入して嵌合させ、各切欠き部15aを長尺方向
に隙間をもって重なりるようにしたものである。なお、
16は気抜き穴、17は真空引き口である。
例は、第1の8電極偏向電極部lの筒状真空容器5内に
配設された第3図に示される電極支持体14の内周に等
間隔で軸線方向に形成された8本の凸状断面の溝14.
aに、第4図に示される端部に各切欠き部15aをも
った凸状断面の2つの電極片15を電極支持体14の前
後より挿入して嵌合させ、各切欠き部15aを長尺方向
に隙間をもって重なりるようにしたものである。なお、
16は気抜き穴、17は真空引き口である。
次に、第5図は第3実施例を示している。この第3実施
例は、第1の8電極偏向電極部1の電極支持体14の内
周面に、端部に切欠き部18aをもった3個の電極片1
8のうち前方と後方のものをボルト19で固定する一方
、中間の電極片18を前方と後方の電極片18で保持し
て電極1aを形成し、そして、各電極片18間に導線を
兼ねたバネ20を設けたものである。
例は、第1の8電極偏向電極部1の電極支持体14の内
周面に、端部に切欠き部18aをもった3個の電極片1
8のうち前方と後方のものをボルト19で固定する一方
、中間の電極片18を前方と後方の電極片18で保持し
て電極1aを形成し、そして、各電極片18間に導線を
兼ねたバネ20を設けたものである。
次に、第6図は第4実施例を示している。この第4実施
例は、第1の8電極偏向電極部1の電極支持体14の内
周面に、端部に切欠き部21aをもった3個の電極片2
1をボルト19で固定してして電極1aを形成し、そし
て、各ボルト19を導線13で接続して、各電極片21
の電位を等しくしたものである。
例は、第1の8電極偏向電極部1の電極支持体14の内
周面に、端部に切欠き部21aをもった3個の電極片2
1をボルト19で固定してして電極1aを形成し、そし
て、各ボルト19を導線13で接続して、各電極片21
の電位を等しくしたものである。
なお、上記第1実施例から第4実施例までは第1の8電
極偏向電極部1について説明しているが、第2の8電極
偏向電極部もこれらと同様である。
極偏向電極部1について説明しているが、第2の8電極
偏向電極部もこれらと同様である。
また、第1実施例から第4実施例までは8本の電極1a
が使用さているが、電極1aの数はいかなる数であって
もよい。更に、電極片の数は2個以上であればいかなる
数であってもよい。
が使用さているが、電極1aの数はいかなる数であって
もよい。更に、電極片の数は2個以上であればいかなる
数であってもよい。
(発明の効果)
この発明によれば、多重極偏向電極部のガス放出のため
、多重極偏向電極部を室温より加熱して、ベーキング処
理を行う場合、多電極偏向電極部の各電極のそれぞれの
電極片の端部に形成された切欠き部が長尺方向に隙間を
もって重ねられているので、電極片に熱膨張による伸び
があったときには、その伸びの長尺方向の隙間で吸収さ
れるようになり、電極に塑性変形が起こらなくなる。
、多重極偏向電極部を室温より加熱して、ベーキング処
理を行う場合、多電極偏向電極部の各電極のそれぞれの
電極片の端部に形成された切欠き部が長尺方向に隙間を
もって重ねられているので、電極片に熱膨張による伸び
があったときには、その伸びの長尺方向の隙間で吸収さ
れるようになり、電極に塑性変形が起こらなくなる。
第1図はこの発明の第1実施例の断面図、第2図は第2
実施例の斜視図、第3図は第2実施例に用いられる電極
支持体の斜視図、第4図は第2実施例に用いられる電極
片の斜視図、第5図は第3実施例の断面図、第6図は第
4実施例の断面図である。第7図は従来の装置を示す斜
視図、第7図は従来の装置の電極の支持の仕方を示す断
面図である。 図中、 1・・・・・第1の8電極偏向電極部 1a・・・・・電極 2・・・・・第2の8電極偏向電極部 3・・・・・基板 4 ・ ・ ・ ・ ・ 5 ・ ・ ・ ・ ・ 12a ・ ・ ・ ・ 12b ・ ・ ・ 12a ・ ・ ・ ・ 12b2・ ・ ・ ・ 15・ ・ ・ ・ ・ 15a ・ ・ ・ ・ 18・・・・・ 18a ・ ・ ・ ・ 13・ ・ ・ ・ ・ 21・ ・ ・ ・ ・ 21a ・ ・ ・ ・ イオンビーム 筒状真空容器 電極片 電極片 切欠き部 切欠き部 電極片 切欠き部 電極片 切欠き部 導線 電極片 切欠き部
実施例の斜視図、第3図は第2実施例に用いられる電極
支持体の斜視図、第4図は第2実施例に用いられる電極
片の斜視図、第5図は第3実施例の断面図、第6図は第
4実施例の断面図である。第7図は従来の装置を示す斜
視図、第7図は従来の装置の電極の支持の仕方を示す断
面図である。 図中、 1・・・・・第1の8電極偏向電極部 1a・・・・・電極 2・・・・・第2の8電極偏向電極部 3・・・・・基板 4 ・ ・ ・ ・ ・ 5 ・ ・ ・ ・ ・ 12a ・ ・ ・ ・ 12b ・ ・ ・ 12a ・ ・ ・ ・ 12b2・ ・ ・ ・ 15・ ・ ・ ・ ・ 15a ・ ・ ・ ・ 18・・・・・ 18a ・ ・ ・ ・ 13・ ・ ・ ・ ・ 21・ ・ ・ ・ ・ 21a ・ ・ ・ ・ イオンビーム 筒状真空容器 電極片 電極片 切欠き部 切欠き部 電極片 切欠き部 電極片 切欠き部 導線 電極片 切欠き部
Claims (1)
- 1、筒状真空容器内に複数の棒状の電極を所定の間隔で
配設した多重極偏向電極部で偏向したイオンビームを基
板上に走査させ、基板にイオンを注入するイオン注入装
置において、上記複数の電極の各々が、少なくとも複数
の電極片を、その端部に形成された切欠き部で長尺方向
に隙間をもって重ねることにより形成されていることを
特徴とするイオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1077353A JPH02256148A (ja) | 1989-03-29 | 1989-03-29 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1077353A JPH02256148A (ja) | 1989-03-29 | 1989-03-29 | イオン注入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02256148A true JPH02256148A (ja) | 1990-10-16 |
Family
ID=13631549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1077353A Pending JPH02256148A (ja) | 1989-03-29 | 1989-03-29 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02256148A (ja) |
-
1989
- 1989-03-29 JP JP1077353A patent/JPH02256148A/ja active Pending
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