JPH02258773A - 環状テルペン化合物の製造方法 - Google Patents

環状テルペン化合物の製造方法

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JPH02258773A
JPH02258773A JP1080595A JP8059589A JPH02258773A JP H02258773 A JPH02258773 A JP H02258773A JP 1080595 A JP1080595 A JP 1080595A JP 8059589 A JP8059589 A JP 8059589A JP H02258773 A JPH02258773 A JP H02258773A
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chlorosulfonic acid
acid
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Takayuki Oritani
折谷 隆之
Kyohei Yamashita
恭平 山下
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Kuraray Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明により提供される化合物はマツコラ鯨よシ産し、
貴重な動物性香料として知られる物質又はその合成原料
である。
〔従来の技術〕
従来、下記−綴代 (式中、n、AおよびRは式(U)におけるのと同じ意
味を表す。) (式中、nは1もしくは2を表し、AけCH2もしくは
C=Oを表し、′RはAがCH2を表すときは水素原子
もしくは炭素数1〜4のアシル基全表し、AがC=Oを
表すときは水素原子もしくは炭素数1〜4のアルキル基
を表す。) で示される化合物(以下化合物(II)と記す)、又は
下記一般式 (式中、nおよびAは式(n)におけるのと同じ意味を
表す。) で示される化合物(以下化合物(III)と記す)から
、下記一般式 (式中、n、AおよびRは式(II)Ki?けるのと同
じ意味を表す。) で示される環状テルペン化合物(以下化合物(1)と記
す)1!−製造する方法とし、ては、ニトロゾロ/せン
溶媒中−80〜−85℃の低温下で100重量フルオロ
スルホン酸と反応させる方法が知られている。 (Kh
im、Pr1r、5oedin 1989  in p
r@ss )〔発明が解決しようとする課題〕 従来の方法は工業的に実施するVCVi危険で高価なフ
ルオロスルホン酸を大過剰に使用するため、コスト面及
び安全性の面から大きな欠点がある。
〔課題全解決するための手段〕 本発明によれば、化合物(n)もしくは化合物<m>を
クロルスルホン酸と反応させた後、水で処理することに
より、経済的、かつ安全に化合物(1)を製造すること
ができる。
化合物(I)、(II)及び(II)において、RはA
がC1(2を表すときは水素原子もしくは炭素数1〜4
のアシル基を表し、Aがc=o′5r表すときは水素原
子もしくは炭素数1〜4のアルキル基を表す。
アシル基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基及びブタノイル基などがある。アルキル
基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロ♂
ル基、イソプロピル基、n−プチル基、イソブチル基な
どがある。
本発明において、使用されるクロルスルホン酸の量は化
合物(n)あるいは化合物(III)に対して通常1〜
5倍モルである。反応温度は通常−100〜O℃の範囲
から選ばれるが、好ましくは−30〜−80℃である。
クロルスルホン酸との反応は通常、溶媒の存在下に行わ
れる。用いられる溶媒は、反応条件下で化合物(It)
或いは化合物(III)と均一に混ざり合い、不活性で
あれば特に制限はないが、好ましい溶媒としては、ニト
ロメタン、ニトロゾロ・ヂンなどのニトロアルカン類、
ジクロルメタン、トリクロロエタンなどの塩素化炭化水
素、インゾロビルエーテル、テトラヒドロ7ランなどの
エーテル類があげられる。クロルスルホン酸との反応の
後、水で処理することによシ、化合物(I)を得ること
ができる。水で処理する際の条件は特に制限はないが、
発熱による温度上昇を押さえるために通常、用い九クロ
ルスルホン酸の5重量倍以上の水を用い、0℃付近の温
度で処理するのが好ましい。
以下に本発明の実施例を示す。
実施例1 4.8.12−トリメチル−3,7,11−トリデカト
リエン酸1.2Iの2−ニトロプロノ臂ン2−溶液を窒
素雰囲気下において、−70℃に冷却したクロルスルホ
ン!4.C1’の2−二トロプロパン18ゴ溶液に2分
間で滴下し次。20分間攪拌後、反応液を氷50yに注
ぎ、エーテル抽出した。
エーテル層を重曹水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を留去し念。得られた油状物質をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーによりevin、(±)−
・ノルアンプレノリド(下記構造式)このものをn−へ
キサンより再結晶し、(±)−9−apl−ノルアンプ
レノリド(下記構造式)を得た。融点93〜94℃ 実施例2 4.8.12−)リメチル−3,7,11−)リデカト
リエンー1−オール400m9のニトロプロ・せン1 
ml溶液全窒素雰囲気下において、−60〜70℃に冷
却し念クロルスルホン酸1.0gの2−ニトロプロ・9
720m1溶液に滴下し念。2時間攪拌後、反応液を氷
50.9に注ぎ、エーテル抽出し念。エーテル層を重曹
水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去した。得られた油状物質全シリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより分離し、アンブロックス画分として3
20〜を得た。このものをガスクロマトグラフィーによ
シ分析したところ下記構造式a:b=4:96の混合物
であることが認められ念。
実施例3 5.9.13−)ジメチル−4,8,12−テトラデカ
トリエン酸1.3gの=トロプロノ々ン5 ml溶液を
窒素雰囲気下において、−60〜70℃に冷却L[クロ
ルスルホン酸2.65’の2−ニトロゾロ・4720m
1溶液に滴下した。20分間攪拌後。
反応液を氷50IIに注ぎ、エーテル抽出し念。エーテ
ル層をm!水で洗浄し念後、硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を留去し次。得られた油状物質をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーによシ分離し次。ベンゼン−酢酸
エチル(4:1)溶出画分として得られ念物質をn−へ
キサンより再結晶することにより、(±)−アンプレノ
リド(下記構造式)9201n9を得た。融点132〜
134℃実施例4 5.9.13−)リメチル−4,812−テトラデカト
リエノール300In9を窒素雰囲気下において、−6
0℃にてクロルスルホン酸1.3.Fの2−二トロプロ
/4’ン20rnl溶液に滴下した。20分間攪拌後、
反応液を氷50.Fに注ぎ、エーテル抽出した。エーテ
ル層を重i水で洗浄し念後、硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を留去しfc6得られた油状物質をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより分離し次。ベンゼン−酢
酸エチル(4: 1 )溶出画分としてアンプラオキシ
ドの異性体混合物180■を得た。この物質をガスクロ
マトグラフィーにより分析し、(±)−アンテラオキシ
ド82係、9− ap1体18%全含むことを確認した
。(下記構造式) %式% キセニル)−5−メチル−4−へ!テンー1−:(ル3
00ダを窒素雰囲気下eこおいて、−60℃にてクロル
スルホン酸1.3 Fの2−ニトロプロノン20x4溶
液V′c滴下した。20分間攪拌後、反応液を氷50.
Pに注ぎ、エーテル抽出し次。エーテル層を重曹水で洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した
。
得うれ九油状物IMをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより分離し念。ベンゼン−酢酸エチル(4:I)
溶出画分としてアンプラオキシドの異性体混合物195
q全得た。この物fsをガスクロマトグラフィーにより
分析し、(±)−アングラオキシド82係、9− ap
1体1体幅8係むこと全確認した。
実施例6 7− (2、6、6−)ジメチル−2−シクロヘキセニ
ル)−5−メチル−4−へブテン−1−オール3701
119を窒素雰囲気下、−70℃にてクロルスルホン酸
800 m9の・ゾクロルメタン20m1溶液に滴下し
た。30分間攪拌後1反応液を氷50yに注キ、エーテ
ル抽出した。エーテル層をtV水で洗浄した後、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られた油状物
質をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離し
念。ベンゼン−酢酸エチル(4:1)f8出両分として
アンプラオキシドの異性体混合物150■を得た。この
物質をガスクロマトグラフィーにより分析し、(±)−
アンプラオキシド11%、9− ep1体31%、10
− apl体(下記構造式)58係を含むことを実施例
7 7−(2,6,6−)ジメチル−1−シクロヘキセニル
)−5−メチル−4−ヘプテン酸1.3.9のニトロデ
ロノeン5 ml溶液を窒素雰囲気下において、−60
〜70℃に冷却したクロルスルホン酸2、6.9の2−
ニトロプロ74720m溶液に滴下した。20分間攪拌
後、反応液を氷505’に注ぎ、エーテル抽出し念。エ
ーテル層全重曹水で洗浄し念後、硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を留去した。得られ九油状物質をシリカゾル
カラムクロマトグラフィーにより分離した。ベンゼン−
酢酸エチル(4:1)溶出画分として得られ念物質ヲn
−ヘキサンよ秒再結晶することにより、(±)−アンプ
レノリド910ηを得な。
実施例8 6−(2,6,6−)ジメチル−1−シクロヘキセニル
)−4−メチル−3−ヘキサン酸1.2yの2−二トロ
デロパン2M溶液?窒素雰囲気下において、−70℃に
冷却し九クロルスルホン酸4.0Iの2−ニトロプロ8
フ18 で滴下し九。20分間攪拌後、反応液を氷501に注ぎ
、エーテル抽出した。エーテル層を重1水で洗浄し九後
、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し九。得られ
九油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り分離し、(±)−ノルアンプレノリド0.84Nを得
た。
実施例9 6−(2,6.6−)ジメチル−1−シクロヘキセニル
)−4−メチル−3−ヘキサン−1−オール500ダの
ニトロプロ・セン11n!溶液を窒素雰囲気下において
、−65℃に冷却したクロルスルホン19 1. O 
、!i’の2・−二トロプロパン20d溶ffに滴下し
几。30分間攪拌後、反応液を氷水50gに注ぎ、エー
テル抽出した。エーテル層を重曹水で洗浄し九後、硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られ九油状
物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離
し、アンブロックス画分として300■を得た。このも
のをガスクロマトグラフィーにより分析したところ(±
)−アンブロックス23%、9 − apl 体7 7
%を含ムことが確認され念。
〔発明の効果〕
本発明は、化合物(II)もしくは化合物([ff)を
反応原料に用いて経済的かつ安全に化合物(1)を製造
する方法を特徴する 特許出願人 株式会社 り ラ し 代 理 人 弁理士 本 多   堅

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、nは1もしくは2を表し、AはCH_2もしく
    はC=Oを表し、RはAがCH_2を表すときは水素原
    子もしくは炭素数1〜4のアシル基を表し、AがC=O
    を表すときは水素原子もしくは炭素数1〜4のアルキル
    基を表す。) で示される化合物、又は下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、n、AおよびRは式(II)におけるのと同じ意
    味を表す。) で示される化合物をクロルスルホン酸と反応させた後、
    水で処理することを特徴とする下記一般式▲数式、化学
    式、表等があります▼( I ) (式中、nおよびAは式(II)におけるのと同じ意味を
    表す。) で示される環状テルペン化合物の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5185470A (en) * 1991-02-19 1993-02-09 Kuraray Company, Ltd. Process for producing irone
DE4301555C1 (de) * 1993-01-21 1994-07-07 Henkel Kgaa Verfahren zur Herstellung von Norambreinolid
US5329053A (en) * 1992-09-03 1994-07-12 Givaudan-Roure Corporation Process for the manufacture of known odorants

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WO1994017053A1 (de) * 1993-01-21 1994-08-04 Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien Verfahren zur herstellung von norambreinolid
EP0680476A1 (de) * 1993-01-21 1995-11-08 Henkel Kgaa Verfahren zur herstellung von norambreinolid.

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