JPH0226056A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH0226056A
JPH0226056A JP63176624A JP17662488A JPH0226056A JP H0226056 A JPH0226056 A JP H0226056A JP 63176624 A JP63176624 A JP 63176624A JP 17662488 A JP17662488 A JP 17662488A JP H0226056 A JPH0226056 A JP H0226056A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor layer
insulating substrate
metal wire
transistor chip
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63176624A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Komatsu
小松 孝一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP63176624A priority Critical patent/JPH0226056A/ja
Publication of JPH0226056A publication Critical patent/JPH0226056A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/541Dispositions of bond wires
    • H10W72/5445Dispositions of bond wires being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/754Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL

Landscapes

  • Bipolar Transistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置に関し、特に高周波・高利得増幅用
の半導体装置に関する。
〔従来の技術〕
周知の様に、トランジスタの接地インダクタンスとトラ
ンジスタの利得には、関係があり、接地インダクタンス
が少ない回路構成はど高い利得が得られる。従って、高
利得を得ようとする回路構成では、トランジスタの接地
インダクタンスを極力少なくする必要がある。
第2図(a)〜(C)は従来の半導体装置を説明するた
めの半導体チップの平面図と切欠側面図及びB−B’線
断面図である。
第2図(a)〜(C)に示すように、絶縁基板1の上面
に設けた導体層2の上にトランジスタチップ3のコレク
タを接続するようにマウントし、導体層2の三方を取囲
むようにして絶縁基板1の上面に導体層5を設け、トラ
ンジスタチップ3のエミッタと金属線4で接続する。次
に、導体層2の上に空間を有してまたいだ状態で導体層
5と接続したブリッジ12を設け、金属線13によりト
ランジスタチップ3のエミッタと接続する。導体層5を
挟んで導体層2と反対側の絶縁基板1の上面に導体層7
を設け、金属線6でトランジスタチップのベースと接続
する。次に、絶縁基板1の下面に導体層10を設け、絶
縁基板1を貫通して設けたスルーホール11により導体
層5と導体層10を電気的に接続する。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の半導体装置は、トラジスタチップをマウ
ントした導体層の上をまたいでブリッジをマウントし、
ブリッジとトランジスタのエミッタを金属線で接続し、
絶縁基板の下面に設けた導体層とスルーホールを介して
接続し、接地していた。このため、トランジスタのエミ
ッタの接地インダクタンスが大きくなり、半導体装置の
利得が低下するという問題点があった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体装置は、絶縁基板の上面に設けた素子載
置用の第1の導体層と、前記第1の導体層にコレクタを
接続してマウントされたトランジスタチップと、前記第
1の導体層の周囲を取囲んで前記絶縁基板の上面に設け
且つ前記トランジスタチップのエミッタと金属線で接続
した第2の導体層と、前記第2の導体層の一方の外側の
前記絶縁基板の上面に設け且つ前記トランジスタチップ
のベースと金属線で接続した第3の導体層と、前記第2
の導体層の他方の外側の前記絶縁基板の上面に設け且つ
前記第1の導体層と金属線で接続した第4の導体層と、
前記絶縁基板の下面に設けた第5の導体層と、前記絶縁
基板を貫通して設け前記第2の導体層と前記第5の導体
層とを電気的に接続するスルーホールとを備えている。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図(a)〜(C)は本発明の一実施例を説明するた
めの半導体チップの平面図と切欠側面図及びA−A’線
断面図である。
第1図(a)−、−(C)に示すように、絶縁基板1の
上面に設けた素子載置用の第1の導体層2と、導体層2
にコレクタを接続してマウントされたトランジスタチッ
プ3と、導体層2の周囲を取囲んで絶縁基板1の上面に
設け且つトランジスタチップ3のエミッタと金属線4で
接続した第2の導体層5と、導体層5の一方の外側の絶
縁基板1の上面に設け且つトランジスタチップ3のベー
スと金属線6で接続した第3の導体M7と、導体層5の
他方の外側の絶縁基板1の上面に設け且つ導体層2と金
属線8で接続した第4の導体層9と、絶縁基板1の下面
に設けた第5の導体層10と、絶縁基板1を貫通して設
け導体層5と導体層10とを電気的に接続するスルーホ
ール11とを備えて半導体装置を構成する。
〔発明の効果〕
以上説明した様に本発明は、トランジスタチップをマウ
ントした第1の導体層と第1の導体層の周囲を取囲む第
2の導体層を設けてトランジスタチップのエミッタと第
2の導体層とを金属線で接続することにより、エミッタ
の接地インダクタンスを低減させ、半導体装置の利得を
向上させるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(C)は本発明の一実施例を説明するた
めの半導体チップの平面図と切欠側面図及びA−A’線
断面図、第2図(a)〜(C)は従来の半導体装置を説
明するための半導体チップの平面図と切欠側面図及びB
−B’線断面図である。 1・・・絶縁基板、2・・・導体層、3・・・トランジ
スタチップ、4・・・金属線、5・・・導体層、6・・
・金属線、7・・・導体層、8・・・金属線、9.10
・・・導体層、11・・・スルーホール、12・・・ブ
リッジ、13・・・金属線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 絶縁基板の上面に設けた素子載置用の第1の導体層と、
    前記第1の導体層にコレクタを接続してマウントされた
    トランジスタチップと、前記第1の導体層の周囲を取囲
    んで前記絶縁基板の上面に設け且つ前記トランジスタチ
    ップのエミッタと金属線で接続した第2の導体層と、前
    記第2の導体層の一方の外側の前記絶縁基板の上面に設
    け且つ前記トランジスタチップのベースと金属線で接続
    した第3の導体層と、前記第2の導体層の他方の外側の
    前記絶縁基板の上面に設け且つ前記第1の導体層と金属
    線で接続した第4の導体層と、前記絶縁基板の下面に設
    けた第5の導体層と、前記絶縁基板を貫通して設け前記
    第2の導体層と前記第5の導体層とを電気的に接続する
    スルーホールとを備えたことを特徴とする半導体装置。
JP63176624A 1988-07-14 1988-07-14 半導体装置 Pending JPH0226056A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63176624A JPH0226056A (ja) 1988-07-14 1988-07-14 半導体装置

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JP63176624A JPH0226056A (ja) 1988-07-14 1988-07-14 半導体装置

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JPH0226056A true JPH0226056A (ja) 1990-01-29

Family

ID=16016833

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63176624A Pending JPH0226056A (ja) 1988-07-14 1988-07-14 半導体装置

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JP (1) JPH0226056A (ja)

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