JPH02263208A - 2次元工具軌跡生成方法 - Google Patents
2次元工具軌跡生成方法Info
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- JPH02263208A JPH02263208A JP8458389A JP8458389A JPH02263208A JP H02263208 A JPH02263208 A JP H02263208A JP 8458389 A JP8458389 A JP 8458389A JP 8458389 A JP8458389 A JP 8458389A JP H02263208 A JPH02263208 A JP H02263208A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、数値制御工作機械により加工領域を加工す
るために、工具を移動させる工具軌跡を生成する2次元
工具軌跡生成方法に関する。
るために、工具を移動させる工具軌跡を生成する2次元
工具軌跡生成方法に関する。
数値制御工作機械によって加工領域を加工するための2
次元工具軌跡を生成する方法としては、例えば特開昭6
2−221003号に見られるように、加工領域に対応
した画像を入力し、その画像データに現れる加工領域の
輪郭線を抽出し、その輪郭線から加工領域の内側に向っ
て径の異なる複数の工具で加工させる工具凹加工領域を
、径が小さい工具に対応するものから順に形成し、各々
の工具凹加工領域に対応する工具のオフセット量とオー
バラップ量に基づいてそれぞれの工具に対応した一筆書
き状の2次元工具軌跡を生成する方法があった。
次元工具軌跡を生成する方法としては、例えば特開昭6
2−221003号に見られるように、加工領域に対応
した画像を入力し、その画像データに現れる加工領域の
輪郭線を抽出し、その輪郭線から加工領域の内側に向っ
て径の異なる複数の工具で加工させる工具凹加工領域を
、径が小さい工具に対応するものから順に形成し、各々
の工具凹加工領域に対応する工具のオフセット量とオー
バラップ量に基づいてそれぞれの工具に対応した一筆書
き状の2次元工具軌跡を生成する方法があった。
このような従来の2次元工具軌跡生成方法によっても、
線画の混在した領域画を扱うことは可能であるが、輪郭
画素データの追跡により算出した閉ループデータを元に
輪郭工具軌跡のスムージングを行なうので、線画部にお
いても領域画部と同様に工具半径分のオフセット処理を
行なっている。
線画の混在した領域画を扱うことは可能であるが、輪郭
画素データの追跡により算出した閉ループデータを元に
輪郭工具軌跡のスムージングを行なうので、線画部にお
いても領域画部と同様に工具半径分のオフセット処理を
行なっている。
そのため、線画部が工具径より細い場合、オフセット処
理を行なうと工具軌跡が生成できなくなる。また、オフ
セット処理を行なって残った画素(オフセット処理部に
は処理済みマークを付けるので、そのマークが付加され
ていない画素)が、線画部において1画素幅しか残らな
い場合もある。
理を行なうと工具軌跡が生成できなくなる。また、オフ
セット処理を行なって残った画素(オフセット処理部に
は処理済みマークを付けるので、そのマークが付加され
ていない画素)が、線画部において1画素幅しか残らな
い場合もある。
輪郭工具軌跡は、このマークが付加されていない画素の
輪郭を追跡して工具通過画素どするため、線画部におい
ては他の輪郭軌跡又は1回の輪郭軌跡において、同一画
素上を複数回方向の異なる工具軌跡が通過することにな
る。
輪郭を追跡して工具通過画素どするため、線画部におい
ては他の輪郭軌跡又は1回の輪郭軌跡において、同一画
素上を複数回方向の異なる工具軌跡が通過することにな
る。
ここで求まる輪郭データは、隣接する輪郭データの存在
する方向を示す単位ベクトルのデジタルデータであるた
め、これらのデータから実際の工具軌跡を生成するため
にスムージング処理が行なわれる。
する方向を示す単位ベクトルのデジタルデータであるた
め、これらのデータから実際の工具軌跡を生成するため
にスムージング処理が行なわれる。
このスムージング処理においては、輪郭データからその
場所に最適と思われる直線又は曲線を算出するため、同
一画素列(輪郭画素データの連なり)であっても、それ
より離れた周囲のデータを参照して線分を決定するため
、同一線分が求まるとは限らない。
場所に最適と思われる直線又は曲線を算出するため、同
一画素列(輪郭画素データの連なり)であっても、それ
より離れた周囲のデータを参照して線分を決定するため
、同一線分が求まるとは限らない。
そのため、線画部において同一の位置を通過しない工具
軌跡を生成してしまう場合があり、一定幅の加工が困難
になる場合があった。
軌跡を生成してしまう場合があり、一定幅の加工が困難
になる場合があった。
また、同じ線画部を複数本の工具軌跡が通過することに
なるため、加工効率を低下させる原因にもなっていた。
なるため、加工効率を低下させる原因にもなっていた。
この発明は、このような従来の2次元工具軌跡生成方法
における問題を解決して、線画領域を含む任意の加工領
域に対する最適な2次元工具軌跡を効率よく生成し、線
画部の加工を容易にすると共に加工効率も高められるよ
うにすることを目的とする。
における問題を解決して、線画領域を含む任意の加工領
域に対する最適な2次元工具軌跡を効率よく生成し、線
画部の加工を容易にすると共に加工効率も高められるよ
うにすることを目的とする。
この発明は上記の目的を達成するため、描画機上に描画
された原画を画素データとして読み取り。
された原画を画素データとして読み取り。
その画素データより加工する領域を認識して、数値制御
工作機械にその領域を加工させるための工具の移動軌跡
を生成する2次元工具軌跡生成方法において、その認識
した領域を予め最大線画幅として指定された線幅まで細
線化し、細線化できた領域を線画部、細線化できなかっ
た領域を領域両部として分離し、それぞれ各領域に適し
た工具軌跡を生成するようにしたものである。
工作機械にその領域を加工させるための工具の移動軌跡
を生成する2次元工具軌跡生成方法において、その認識
した領域を予め最大線画幅として指定された線幅まで細
線化し、細線化できた領域を線画部、細線化できなかっ
た領域を領域両部として分離し、それぞれ各領域に適し
た工具軌跡を生成するようにしたものである。
この発明によれば、加工領域を線画部と領域両部とに分
離して工具軌跡を生成するので、線画領域を含む任意の
加工領域に対する最適な2次元工具軌跡を効率よく生成
することができ、そのデータを使用して数値制御工作機
械によって加工することにより、線画部の加工を容易に
すると共に加工効率も高めることができる。
離して工具軌跡を生成するので、線画領域を含む任意の
加工領域に対する最適な2次元工具軌跡を効率よく生成
することができ、そのデータを使用して数値制御工作機
械によって加工することにより、線画部の加工を容易に
すると共に加工効率も高めることができる。
以下、この発明の実施例を図面に基づいて具体的に説明
する。
する。
第2図は、この発明を実施するデータ処理装置の構成を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
このデータ処理装置は、キーボード19画像読取部2.
データ処理部3.メモリ49表示制御部5及び画面表示
部6によって構成されている。
データ処理部3.メモリ49表示制御部5及び画面表示
部6によって構成されている。
キーボード1は、加工領域読み取りの指示や工具軌跡生
成の指示等を入力する各種のキーを備えている。
成の指示等を入力する各種のキーを備えている。
画像読取部2は、描画機上に描画された原画を画素デー
タとして読み取ってデータ処理部3に送る。これは、描
画機からの直接入力による場合と、描画機から出力され
た原画をイメージスキャナによって読み取って入力する
場合とがある。
タとして読み取ってデータ処理部3に送る。これは、描
画機からの直接入力による場合と、描画機から出力され
た原画をイメージスキャナによって読み取って入力する
場合とがある。
データ処理部3は、CPU、ROM、RAM等からなる
マイクロコンピュータによって構成され。
マイクロコンピュータによって構成され。
画像読取部2から受は取った画素データより加工する領
域を認識して細線化処理を行ない、その結果により加工
領域を線画領域と領域面領域とに分離してスムージング
処理等を行なって、それぞれ各領域に適した工具軌跡を
生成することによって。
域を認識して細線化処理を行ない、その結果により加工
領域を線画領域と領域面領域とに分離してスムージング
処理等を行なって、それぞれ各領域に適した工具軌跡を
生成することによって。
数値制御工作機械にその領域を加工させるための2次元
工具軌跡を生成する。
工具軌跡を生成する。
メモリ4は、データ処理部3で生成された加工領域の2
次元工具軌跡のデータ等を格納する。
次元工具軌跡のデータ等を格納する。
表示制御部5は1画像読取部2で読み取った原画の画素
データやデータ処理部3によって処理中のデータ、およ
び生成された2次元工具軌跡等を、CRT等による画面
表示部6に表示させる。
データやデータ処理部3によって処理中のデータ、およ
び生成された2次元工具軌跡等を、CRT等による画面
表示部6に表示させる。
次に、第1図のフローチャートにより、上記のデータ処
理部3による2次元工具軌跡生成処理について説明する
。
理部3による2次元工具軌跡生成処理について説明する
。
ステップ1では画像読取部2から受は取った画素データ
より加工する領域を認識して、その領域を予め最大線画
幅として指定された線幅まで細線化処理を行なう。
より加工する領域を認識して、その領域を予め最大線画
幅として指定された線幅まで細線化処理を行なう。
ステップ2ではその細線化処理によって細線化できなか
った領域を、領域両部(領域加工対象部)として復元し
、ステップ3でその領域両部のデータをメモリ4にセー
ブする。
った領域を、領域両部(領域加工対象部)として復元し
、ステップ3でその領域両部のデータをメモリ4にセー
ブする。
一方、ステップ4では細線化できた領域を線画部として
確定(領域両部と分離)する。
確定(領域両部と分離)する。
そして、ステップ5でその各線画部の領域両部との接続
条件を判定して、その結果をセーブする。
条件を判定して、その結果をセーブする。
次いで、ステップ6で線画部の細線化処理を行ない、ス
テップ7で1本で表現できる線画部を統合し、ステップ
8でその線画部のスムージング処理を行なう。
テップ7で1本で表現できる線画部を統合し、ステップ
8でその線画部のスムージング処理を行なう。
ステップ9で線画部が終了したか否かを判断して、終了
するまでステップ7.8を繰り返し、終了するとステッ
プ10へ進んで領域両部をメモリ4からリストアして、
ステップ11で領域両部の工具軌跡を生成し、ステップ
12で線画部のデータとの接続(ステップ5においてセ
ーブした接続条件に基づく)を行なって、処理を終了す
る。
するまでステップ7.8を繰り返し、終了するとステッ
プ10へ進んで領域両部をメモリ4からリストアして、
ステップ11で領域両部の工具軌跡を生成し、ステップ
12で線画部のデータとの接続(ステップ5においてセ
ーブした接続条件に基づく)を行なって、処理を終了す
る。
次に、上記の各処理についてさらに詳細に説明するが、
先ずステップ1の細線化処理について、第3図及び第4
図を参照して説明する。
先ずステップ1の細線化処理について、第3図及び第4
図を参照して説明する。
この処理は、線画部と領域両部を分離するための処理で
あり、この例では第3図(a)に示す図形を原画として
、予め決めておいた線幅の最大値(画素数:第4図に示
す例では3画素)の1/2回(端数切り上げ:3画素の
場合は2回)だけ、輪郭画素からの4、連結距離を付加
していく処理を行ない、第3図(b)に斜線を施して示
す輪郭図形を求める。
あり、この例では第3図(a)に示す図形を原画として
、予め決めておいた線幅の最大値(画素数:第4図に示
す例では3画素)の1/2回(端数切り上げ:3画素の
場合は2回)だけ、輪郭画素からの4、連結距離を付加
していく処理を行ない、第3図(b)に斜線を施して示
す輪郭図形を求める。
なお、4連結距離の付加方法については公知であるが、
ここで第10図を参照して簡単に説明する。
ここで第10図を参照して簡単に説明する。
まず、第10図(a)に示すように、上下左右4近傍の
何れかに白画素を持つ全ての黒画素(輪郭画素)に距離
1を付加する。
何れかに白画素を持つ全ての黒画素(輪郭画素)に距離
1を付加する。
同様にして、同図(b)に示すように、距離1が付加さ
れた画素を4近傍の何れかに持つ全ての黒画素に距離2
を付加する。
れた画素を4近傍の何れかに持つ全ての黒画素に距離2
を付加する。
さらに、同図(c)に示すように、距l12が付加され
た画素を4近傍の何れかに持つ全ての黒画素に距離3を
付加する。このような処理を繰り返して、対象画素の全
てに距離を付加すると処理を終了する。
た画素を4近傍の何れかに持つ全ての黒画素に距離3を
付加する。このような処理を繰り返して、対象画素の全
てに距離を付加すると処理を終了する。
したがって、このようにして各黒画素に付加された距離
は、輪郭画素から上下左右何れかの方向に進んで、何回
目にその黒画素に到達できるかを示す。
は、輪郭画素から上下左右何れかの方向に進んで、何回
目にその黒画素に到達できるかを示す。
第4図(a)は第3図(a)の一部を拡大して画素で示
し、4連結距離の付加を2回行なった状態であり、距離
1が付加された画素を○で、距離2が付加された画素を
Δで、距離が付加されていない黒画素を・でそれぞれ示
している。
し、4連結距離の付加を2回行なった状態であり、距離
1が付加された画素を○で、距離2が付加された画素を
Δで、距離が付加されていない黒画素を・でそれぞれ示
している。
次に、第1図のステップ2による領域両部の復元処理に
ついて説明する。
ついて説明する。
ステップ1の処理で距離を付加されなかった画素、すな
わち第4図(a)に・で示す黒画素をもとに、ステップ
1の処理で距離2を付加されたΔで示す画素の内、・で
示される黒画素を4近傍の何れかにもつ画素を同図(b
)に示すように復元する。
わち第4図(a)に・で示す黒画素をもとに、ステップ
1の処理で距離2を付加されたΔで示す画素の内、・で
示される黒画素を4近傍の何れかにもつ画素を同図(b
)に示すように復元する。
次に、第4図(b)の画素Pのように、他のΔで示され
た画素と等距離にあるが復元されなかった画素を、4近
傍に・画素があり且つ等距離マークの付加された画素(
6画素)がないことを条件に、同図(c)に示すように
復元する。
た画素と等距離にあるが復元されなかった画素を、4近
傍に・画素があり且つ等距離マークの付加された画素(
6画素)がないことを条件に、同図(c)に示すように
復元する。
このような復元処理を輪郭画素まで行なうと、第4図(
d)に示すようになる。
d)に示すようになる。
しかし、線画部との接続部においては輪郭画素まで復元
されず、高い値の距離を示す画素Qが露出するため、こ
の画素Q及びこの画素Qを中心に4近傍にある復元され
ていない画素を、その4近傍に復元された・画素があれ
ば領域部として復元して、同図(f)に示すようにする
。
されず、高い値の距離を示す画素Qが露出するため、こ
の画素Q及びこの画素Qを中心に4近傍にある復元され
ていない画素を、その4近傍に復元された・画素があれ
ば領域部として復元して、同図(f)に示すようにする
。
そして、この復元された領域両部の・画素をメモリ4に
セーブする(第1図のステップ3)、この領域両部は、
第3図(Q)に示すようになる。
セーブする(第1図のステップ3)、この領域両部は、
第3図(Q)に示すようになる。
次に、線画部の確定を行ない(第1図のステップ4)、
第3図(d)に示すような線画部を求めるが、領域両部
の復元時と同様に、第5図(a)に示すように端点に高
い値の距離を示すΔ画素Rが露出する。
第3図(d)に示すような線画部を求めるが、領域両部
の復元時と同様に、第5図(a)に示すように端点に高
い値の距離を示すΔ画素Rが露出する。
そのため、この画素Rを中心に8近傍にある黒画素に4
連結距離1を付加して(0画素にする)。
連結距離1を付加して(0画素にする)。
第5図(b)に示すように線画部として復元する。
この際、端点中央部の画素Rには他の画素と区別できる
マークを付加する。
マークを付加する。
そして、4連結距離が付加されていない画素をクリアす
ることにより、第3図(d)に示す線画部のみが残って
確定される。
ることにより、第3図(d)に示す線画部のみが残って
確定される。
次に、第1図のステップ5で領域両部と線画部の接続条
件の判定を行なう。
件の判定を行なう。
そこで、第6図に示すように、線画部における先の処理
で区別できるマークを付加した画素Rから、4連結距離
2を付加されているΔ画素の配列方向に直交線Aを引き
、この線Aに最も近い輪郭画素B、B’ を求める。
で区別できるマークを付加した画素Rから、4連結距離
2を付加されているΔ画素の配列方向に直交線Aを引き
、この線Aに最も近い輪郭画素B、B’ を求める。
この画素B、B’ を中心に、それぞれある長さの輪郭
追跡を行なって原画の輪郭を推測し、接線ベクトルC,
D (第6図では画素B側のみを示す)を求める。そし
て、この2つのベクトルの内積(なす角度)から、この
点が折曲点になるかどうかを判定し、その判定結果をセ
ーブする。
追跡を行なって原画の輪郭を推測し、接線ベクトルC,
D (第6図では画素B側のみを示す)を求める。そし
て、この2つのベクトルの内積(なす角度)から、この
点が折曲点になるかどうかを判定し、その判定結果をセ
ーブする。
したがって、線画部の端点と領域両部との接続条件とし
ては、第7図(a)〜(g)に示す7種類の関係のいず
れかが求まる。なお、第7図において、直線は線画部を
示し、0はスムーズ、×は折曲点を持つことを、Δは開
放端をそれぞれ示す。
ては、第7図(a)〜(g)に示す7種類の関係のいず
れかが求まる。なお、第7図において、直線は線画部を
示し、0はスムーズ、×は折曲点を持つことを、Δは開
放端をそれぞれ示す。
次に、第1図のステップ6で全ての線画部について細線
化処理を行なうが、その方法については公知の細線化法
(例えばHildichの細線化法等)を用いればよい
ので、ここでは説明を省略する。
化処理を行なうが、その方法については公知の細線化法
(例えばHildichの細線化法等)を用いればよい
ので、ここでは説明を省略する。
次いで、第1図のステップ7〜9で線画部の工具軌跡を
生成する。その際、線の端点どうじが近く、中間に短い
領域部を含む場合は、その端点どうじを接続して線画部
を統合しくステップ7)、工具軌跡での工具のジャンプ
回数を減らす。
生成する。その際、線の端点どうじが近く、中間に短い
領域部を含む場合は、その端点どうじを接続して線画部
を統合しくステップ7)、工具軌跡での工具のジャンプ
回数を減らす。
ステップ8における線画部のスムージング処理は、領域
データの輪郭スムージングとは異なり、細線データから
細線ベクトルを求め、このベクトルどうしの接線角から
直線化あるいは円弧による曲線化により、線画部のスム
ージングを行なう。
データの輪郭スムージングとは異なり、細線データから
細線ベクトルを求め、このベクトルどうしの接線角から
直線化あるいは円弧による曲線化により、線画部のスム
ージングを行なう。
次に、第1図のステップ10において、ステップ3でセ
ーブした領域両部の画素データをメモリ4から読み出し
て、ステップ、11で領域切削対象部の工具軌跡を作成
する。この処理は、前述した特開昭62−221003
号公報に記載されているような方法によって行なうこと
ができる。
ーブした領域両部の画素データをメモリ4から読み出し
て、ステップ、11で領域切削対象部の工具軌跡を作成
する。この処理は、前述した特開昭62−221003
号公報に記載されているような方法によって行なうこと
ができる。
そして、ステップ12において、ステップ11で作成し
た工具軌跡の輪郭部と、先に作成した細線部の工具軌跡
とを、第7図に示した各接続条件の関係から接続する処
理を行なう。
た工具軌跡の輪郭部と、先に作成した細線部の工具軌跡
とを、第7図に示した各接続条件の関係から接続する処
理を行なう。
第7図(a)の場合は、線画部の工具軌跡の端点と領域
両部の輪郭工具軌跡に、第8図(a)に破線で示すよう
に短い自由曲線を定義して、全てスムーズに接続する。
両部の輪郭工具軌跡に、第8図(a)に破線で示すよう
に短い自由曲線を定義して、全てスムーズに接続する。
第7図(b)の場合は、線画部の工具軌跡と領域両部の
輪郭工具軌跡との接続部のスムーズ化は行なわず、第8
図(b)に示すようにそのまま接続する。
輪郭工具軌跡との接続部のスムーズ化は行なわず、第8
図(b)に示すようにそのまま接続する。
第7図(Q)の場合は、線画部の工具軌跡を領域両部の
輪郭工具軌跡とスムーズに接続できる第8図(Q)に破
線で示す位置まで平行移動(移動方向を矢印で示す)し
、その後線画部の工具軌跡の延長を行なう。
輪郭工具軌跡とスムーズに接続できる第8図(Q)に破
線で示す位置まで平行移動(移動方向を矢印で示す)し
、その後線画部の工具軌跡の延長を行なう。
第7図(d)の場合は、線画部の工具軌跡を領域両部の
輪郭工具軌跡とスムーズに接続できる第8図(d)に破
線で示す位置まで回転し、その後線画部の工具軌跡の延
長を行なう。
輪郭工具軌跡とスムーズに接続できる第8図(d)に破
線で示す位置まで回転し、その後線画部の工具軌跡の延
長を行なう。
第7図(e)、(f)、(g)の場合は、それぞれ上記
(a)、(c)、(b)の場合と同様である。
(a)、(c)、(b)の場合と同様である。
但し、これらの接続は線画部工具軌跡が1本の直線とし
て判定された場合であり、複数本の直線あるいは曲線(
円弧部)を含むと判定された場合には、(、)〜(g)
の場合と同様に取扱う。
て判定された場合であり、複数本の直線あるいは曲線(
円弧部)を含むと判定された場合には、(、)〜(g)
の場合と同様に取扱う。
また、1本の線画部工具軌跡が全てが曲線と判定された
場合は、その工具軌跡を移動することなく、第7図(a
)〜(g)の関係のうちスムーズに接続と判定された位
置にのみ、自由曲線を定義して領域両部の輪郭工具軌跡
とスムーズに接続する。
場合は、その工具軌跡を移動することなく、第7図(a
)〜(g)の関係のうちスムーズに接続と判定された位
置にのみ、自由曲線を定義して領域両部の輪郭工具軌跡
とスムーズに接続する。
このようにして、線画部を含む加工領域の2次元工具軌
跡を作成することにより、予め人手による領域両部と線
画部の分離を行なうことなく、自動的に各領域に最適の
工具軌跡を生成することができる。第9図はこのように
して生成した工具軌跡の一例を示す。
跡を作成することにより、予め人手による領域両部と線
画部の分離を行なうことなく、自動的に各領域に最適の
工具軌跡を生成することができる。第9図はこのように
して生成した工具軌跡の一例を示す。
以上説明してきたように、この発明によれば、線画領域
を含む任意形状に描画された原画を読み取るだけで、自
動的に線画部と領域両部とを分離して、その線画部及び
領域両部を加工するために最適な2次元工具軌跡データ
を生成することができるので、工具軌跡生成のための労
力を大幅に削減することができ、そのデータを使用して
数値制御工作機械によって加工することにより、線画部
の加工を容易にすると共に加工効率を高めることができ
る。
を含む任意形状に描画された原画を読み取るだけで、自
動的に線画部と領域両部とを分離して、その線画部及び
領域両部を加工するために最適な2次元工具軌跡データ
を生成することができるので、工具軌跡生成のための労
力を大幅に削減することができ、そのデータを使用して
数値制御工作機械によって加工することにより、線画部
の加工を容易にすると共に加工効率を高めることができ
る。
第1図は第2図のデータ処理部3による2次元工具軌跡
生成処理のフロー図、 第2図はこの発明を実施するデータ処理装置の構成を示
すブロック図、 第3図はこの実施例による原画の加工領域を領域両部と
線画部に分離する処理の説明図、第4図及び第5図は同
じくその一部を拡大して画素で示す説明図、 第6図は線画部と領域両部との接続条件の判定処理の説
明図、 第7図は各種の異なる接続条件の説明図、第8図は線画
部と領域両部との接続処理の説明図、第9図はこの実施
例によって生成した工具軌跡の一例を示す図、 第10図は4連結距離の付加方法の説明図である。 1・・・キーボード 2・・・画像読取部3・・
・データ処理部 4・・・メモリ5・・・表示制御
部 6・・・画面表示部筒1 図 第2図 M3図 第5図 oooo・ oooo。 、第4図 ooΔΔ0 00・・0 (C) ・・・・・ ・・・・・・・ ・・・・・・・・ ・・・・・ ・・ iI7図 第8図 第9図 第10図 (α) oooooooooo。 000 L OL L 0000 011 ・ 1 ・・ L 100 0目・・・・・・10 001L ・・・・・ 10 00001 ・・・ t o。 00000 L I L 000oooooo
oooo。 (b) oooooooooo。 000 L OI L 00000 1 L
I Z ・・ 2 z 100o○ 1 z ・・
・ 210 QQQLIZ ′l 2LOO 00000L L 1 000 oooooooooo。 (C) 00o00oOoOo0 000 10 L L 0000 Q1tLLZZLLOO QI L LZ332ZLQ oootttzztQQ 00000 L L L 000ooooooo
ooo。
生成処理のフロー図、 第2図はこの発明を実施するデータ処理装置の構成を示
すブロック図、 第3図はこの実施例による原画の加工領域を領域両部と
線画部に分離する処理の説明図、第4図及び第5図は同
じくその一部を拡大して画素で示す説明図、 第6図は線画部と領域両部との接続条件の判定処理の説
明図、 第7図は各種の異なる接続条件の説明図、第8図は線画
部と領域両部との接続処理の説明図、第9図はこの実施
例によって生成した工具軌跡の一例を示す図、 第10図は4連結距離の付加方法の説明図である。 1・・・キーボード 2・・・画像読取部3・・
・データ処理部 4・・・メモリ5・・・表示制御
部 6・・・画面表示部筒1 図 第2図 M3図 第5図 oooo・ oooo。 、第4図 ooΔΔ0 00・・0 (C) ・・・・・ ・・・・・・・ ・・・・・・・・ ・・・・・ ・・ iI7図 第8図 第9図 第10図 (α) oooooooooo。 000 L OL L 0000 011 ・ 1 ・・ L 100 0目・・・・・・10 001L ・・・・・ 10 00001 ・・・ t o。 00000 L I L 000oooooo
oooo。 (b) oooooooooo。 000 L OI L 00000 1 L
I Z ・・ 2 z 100o○ 1 z ・・
・ 210 QQQLIZ ′l 2LOO 00000L L 1 000 oooooooooo。 (C) 00o00oOoOo0 000 10 L L 0000 Q1tLLZZLLOO QI L LZ332ZLQ oootttzztQQ 00000 L L L 000ooooooo
ooo。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 描画機上に描画された原画を画素データとして読み
取り、その画素データより加工する領域を認識して、数
値制御工作機械にその領域を加工させるための工具の移
動軌跡を生成する2次元工具軌跡生成方法において、 前記認識した領域を予め最大線画幅として指定された線
幅まで細線化し、細線化できた領域を線画部、細線化で
きなかつた領域を領域画部として分離し、それぞれ各領
域に適した工具軌跡を生成することを特徴とする2次元
工具軌跡生成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8458389A JP2824271B2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 2次元工具軌跡生成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8458389A JP2824271B2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 2次元工具軌跡生成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02263208A true JPH02263208A (ja) | 1990-10-26 |
| JP2824271B2 JP2824271B2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=13834697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8458389A Expired - Fee Related JP2824271B2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 2次元工具軌跡生成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2824271B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105955191A (zh) * | 2016-04-22 | 2016-09-21 | 江苏大学 | 一种基于图像特征数据进行路径规划的方法 |
-
1989
- 1989-04-03 JP JP8458389A patent/JP2824271B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105955191A (zh) * | 2016-04-22 | 2016-09-21 | 江苏大学 | 一种基于图像特征数据进行路径规划的方法 |
| CN105955191B (zh) * | 2016-04-22 | 2018-06-26 | 江苏大学 | 一种基于图像特征数据进行路径规划的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2824271B2 (ja) | 1998-11-11 |
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|---|---|---|---|
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