JPH0226620A - 脱硝装置のダスト除去装置 - Google Patents
脱硝装置のダスト除去装置Info
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- JPH0226620A JPH0226620A JP63173951A JP17395188A JPH0226620A JP H0226620 A JPH0226620 A JP H0226620A JP 63173951 A JP63173951 A JP 63173951A JP 17395188 A JP17395188 A JP 17395188A JP H0226620 A JPH0226620 A JP H0226620A
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- JP
- Japan
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- catalyst
- damper
- hinge type
- removing device
- dust removing
- Prior art date
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- Granted
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- 239000000428 dust Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 41
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は脱硝装置における触媒充填部のダスト付着によ
る機能低下及び圧力損失上昇を防止するためのダスト除
去装置に関する。
る機能低下及び圧力損失上昇を防止するためのダスト除
去装置に関する。
脱硝装置における触媒充填部に付着したダストを除去す
る従来の一態様を、第６図によって説明する。この態様
はガス縦流れの場合を示すもので、脱硝装置は脱硝反応
器１の中に触媒支持部材３により触媒２が支持内蔵され
ている。
る従来の一態様を、第６図によって説明する。この態様
はガス縦流れの場合を示すもので、脱硝装置は脱硝反応
器１の中に触媒支持部材３により触媒２が支持内蔵され
ている。
入口排ガス４は触媒２の上部から入シ触媒部を垂直に流
れ出口排ガス５となるが、触媒２上方でガス通路を分割
し、かつ、触媒通過ガスの分割性（触媒との間隔を極力
小さくして、分割した他方の通路のガスのもれ込みを極
力少なくする）をよくするように配置を工夫した仕切板
１１を設け、仕切板１１によって形成される各々のガス
通路内にバタフライダンパ９ １０が支点６によって支
持設置されている。なお、第６図中、点線はバタフライ
ダンパ９，１ｏがガス流れを阻止している状態を示し、
−点鎖線はバタフライダンパ９，１０の移動方向を示す
。
れ出口排ガス５となるが、触媒２上方でガス通路を分割
し、かつ、触媒通過ガスの分割性（触媒との間隔を極力
小さくして、分割した他方の通路のガスのもれ込みを極
力少なくする）をよくするように配置を工夫した仕切板
１１を設け、仕切板１１によって形成される各々のガス
通路内にバタフライダンパ９ １０が支点６によって支
持設置されている。なお、第６図中、点線はバタフライ
ダンパ９，１ｏがガス流れを阻止している状態を示し、
−点鎖線はバタフライダンパ９，１０の移動方向を示す
。
このような装置において、脱硝装置運転中に、片方はバ
タフライダンパ、例えばバタフライダンパ９、を除々に
ガス流れを阻止するように閉方向に操作し、（必らずし
も全開状態にする必要はない）、他方のガス通路のガス
流速を所要の値まで上げ、ひいては触媒孔内を通過する
ガス流速を上げて、排ガスのマスフローによシ触媒に付
着したダストを搬送除去するようにする。
タフライダンパ、例えばバタフライダンパ９、を除々に
ガス流れを阻止するように閉方向に操作し、（必らずし
も全開状態にする必要はない）、他方のガス通路のガス
流速を所要の値まで上げ、ひいては触媒孔内を通過する
ガス流速を上げて、排ガスのマスフローによシ触媒に付
着したダストを搬送除去するようにする。
一方の触媒層のダストの除去が終えたならば、バタフラ
イダンパ９を全開状態にもどし、他のバタフライダンパ
１０を上記と同様な操作をして他方の触媒層のダストを
除去するようＫする。
イダンパ９を全開状態にもどし、他のバタフライダンパ
１０を上記と同様な操作をして他方の触媒層のダストを
除去するようＫする。
排ガス自身の自浄作用としては排ガス流速を上げること
が、最も手つとり早い方法であり、本発明者のテストに
よシその効果を第５図の通シ確認している。すなわち、
触媒孔内流速を成る速度、例えば１１ｍ／秒以上にする
と触媒に付着したダストは排ガスのマスフローにより！
送除去され、流速を上げるにつれてダスト除去所要時間
は減少し効果が大きくなっていくことがわかる。
が、最も手つとり早い方法であり、本発明者のテストに
よシその効果を第５図の通シ確認している。すなわち、
触媒孔内流速を成る速度、例えば１１ｍ／秒以上にする
と触媒に付着したダストは排ガスのマスフローにより！
送除去され、流速を上げるにつれてダスト除去所要時間
は減少し効果が大きくなっていくことがわかる。
一方、触媒圧力損失は流速を上げるにつれて増大してゆ
き、この値の許容限度は個々のプラントごとの制限値に
左右される。但し、許容限度以内でのある程度の触媒圧
の損失の上昇は短時間（数分以内）であれば許容される
。
き、この値の許容限度は個々のプラントごとの制限値に
左右される。但し、許容限度以内でのある程度の触媒圧
の損失の上昇は短時間（数分以内）であれば許容される
。
しかし、上述した従来のように構成されたダスト除去装
置には次のような問題がある。
置には次のような問題がある。
■ バタフライダンパであるので、触媒と間隔をおいて
設けなくてはならぬので、ガスもれを防ぐため、触媒に
隣接し、かつ、ガス通路を分割する仕切り板が必要不可
欠である。
設けなくてはならぬので、ガスもれを防ぐため、触媒に
隣接し、かつ、ガス通路を分割する仕切り板が必要不可
欠である。
■ バタフライダンパが少なくとも２組以上必要である
■ 上記■、■に示した理由により機構が複雑でコスト
が高くなる。
が高くなる。
以上の技術水準に鑑み、本発明は構造が簡単で安価にで
きる脱硝装置のダスト除去装置を提供しようとするもの
である。
きる脱硝装置のダスト除去装置を提供しようとするもの
である。
本発明は多量のダストを含む排ガスを触媒を用いて脱硝
する装置において、触媒充填部に近接して、その上流側
又は下流側に１個または２個以上のヒンジ式ダンパを設
けてなることを特徴とする脱硝装置のダスト除去装置で
ある。
する装置において、触媒充填部に近接して、その上流側
又は下流側に１個または２個以上のヒンジ式ダンパを設
けてなることを特徴とする脱硝装置のダスト除去装置で
ある。
ヒンジ式ダンパであるので触媒充填部に近接して設ける
ことができ、そのため、仕切板を設けることが省略でき
、ヒンジ式ダンパを左または右に動かすことによってガ
ス流路を変更し、流通するガス流速を高め、触媒層に付
着したダストの除去が行われる。なお、本発明装置は触
媒として並行流型触媒を用いた時に１特に効果を奏する
。
ことができ、そのため、仕切板を設けることが省略でき
、ヒンジ式ダンパを左または右に動かすことによってガ
ス流路を変更し、流通するガス流速を高め、触媒層に付
着したダストの除去が行われる。なお、本発明装置は触
媒として並行流型触媒を用いた時に１特に効果を奏する
。
本発明でいうヒンジ式ダンパとは支点を中心に水平方向
１８０°間を移動できるダンパを云う。これに対し、従
来のバタフライダンパは支点を中心に３６０°間を移動
できるものである。
１８０°間を移動できるダンパを云う。これに対し、従
来のバタフライダンパは支点を中心に３６０°間を移動
できるものである。
本発明の種々の実施態様を第１図〜第４図によって説明
する。第１図〜第４図において第６図と同一符号は、第
６図と同一のものを意味するので説明は省略する。
する。第１図〜第４図において第６図と同一符号は、第
６図と同一のものを意味するので説明は省略する。
第１図の実施例において、７は触媒２充填層に近接して
設けられた支点６を中心として動作するヒンジ式ダンパ
で、点線は該ダンパ７の使用状態を示し、−点鎖線は該
ダンパ７の移動方向を示す。
設けられた支点６を中心として動作するヒンジ式ダンパ
で、点線は該ダンパ７の使用状態を示し、−点鎖線は該
ダンパ７の移動方向を示す。
脱硝装置運転中に該ダンパ７の羽根を交互に操作し触媒
２内を通過するガス流速を上げることＫより、触媒の全
域に付着したダストを除去する。
２内を通過するガス流速を上げることＫより、触媒の全
域に付着したダストを除去する。
第２図の実施例は第１図におけるヒンジ式ダンパ７の羽
根が使用状態でも片方のガス通路全部をカバーしない場
合を示す。こ−にダンパ７は触媒内通過ガス流速を付着
ダスト除去のための適当値に上げることが目的であシ、
通常運転時の流速がもともと大きい場合はこのようにし
てもよい。
根が使用状態でも片方のガス通路全部をカバーしない場
合を示す。こ−にダンパ７は触媒内通過ガス流速を付着
ダスト除去のための適当値に上げることが目的であシ、
通常運転時の流速がもともと大きい場合はこのようにし
てもよい。
第５図の実施例は脱硝反応器１が相対的に大型となシ、
とンジ式ダンパ７及びその駆動機構の小型化のためにヒ
ンジ式ダンパ７を複数配置した場合を示す。
とンジ式ダンパ７及びその駆動機構の小型化のためにヒ
ンジ式ダンパ７を複数配置した場合を示す。
第４図の実施例は第１図におけるヒンジ式ダンパ７を触
媒２の上流に配置した場合を示す。
媒２の上流に配置した場合を示す。
本発明によシ、ヒンジ式ダンパを触媒充填層に近接して
設けることによシ、構造が簡素化した脱硝装置用ダスト
除去装置が提供できる。
設けることによシ、構造が簡素化した脱硝装置用ダスト
除去装置が提供できる。
第１図〜第４図は発明の実施例を示す概略図、第５図は
触媒孔内ガス流速（ｍ／秒）と付着ダスト完全除去所要
時間（秒）及び触媒圧の損失（ｍＡｑ ）の関係を示す
図表、第６図は従来の脱硝装置のダスト除去装置の一態
様を示す概略図である。
触媒孔内ガス流速（ｍ／秒）と付着ダスト完全除去所要
時間（秒）及び触媒圧の損失（ｍＡｑ ）の関係を示す
図表、第６図は従来の脱硝装置のダスト除去装置の一態
様を示す概略図である。
Claims (1)
- 多量のダストを含む排ガスを触媒を用いて脱硝する装置
において、触媒充填部に近接して、その上流側又は下流
側に１個または２個以上のヒンジ式ダンパを設けてなる
ことを特徴とする脱硝装置のダスト除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173951A JPH0829222B2 (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | 脱硝装置のダスト除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173951A JPH0829222B2 (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | 脱硝装置のダスト除去装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0226620A true JPH0226620A (ja) | 1990-01-29 |
| JPH0829222B2 JPH0829222B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=15970083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63173951A Expired - Lifetime JPH0829222B2 (ja) | 1988-07-14 | 1988-07-14 | 脱硝装置のダスト除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0829222B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007061667A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Hitachi Zosen Corp | 高ダスト脱硝反応器における流速制御装置 |
| WO2014178337A1 (ja) * | 2013-05-01 | 2014-11-06 | 東京博善株式会社 | 火葬システムおよび火葬方法 |
| CN106996572A (zh) * | 2017-03-21 | 2017-08-01 | 华电电力科学研究院 | 解决scr脱硝低负荷运行积灰磨损的烟气再循环结构与方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5326263A (en) * | 1976-08-24 | 1978-03-10 | Kobe Steel Ltd | Denitrating apparatus for exhaust gas |
| JPS5658525A (en) * | 1979-10-19 | 1981-05-21 | Hitachi Ltd | Removing method of adhered dust of platelike catalyst |
| JPS60119921U (ja) * | 1984-01-23 | 1985-08-13 | 石川島播磨重工業株式会社 | 脱硝反応器のダスト除去装置 |
-
1988
- 1988-07-14 JP JP63173951A patent/JPH0829222B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5326263A (en) * | 1976-08-24 | 1978-03-10 | Kobe Steel Ltd | Denitrating apparatus for exhaust gas |
| JPS5658525A (en) * | 1979-10-19 | 1981-05-21 | Hitachi Ltd | Removing method of adhered dust of platelike catalyst |
| JPS60119921U (ja) * | 1984-01-23 | 1985-08-13 | 石川島播磨重工業株式会社 | 脱硝反応器のダスト除去装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007061667A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Hitachi Zosen Corp | 高ダスト脱硝反応器における流速制御装置 |
| WO2014178337A1 (ja) * | 2013-05-01 | 2014-11-06 | 東京博善株式会社 | 火葬システムおよび火葬方法 |
| JP5721914B2 (ja) * | 2013-05-01 | 2015-05-20 | 東京博善株式会社 | 火葬システムおよび火葬方法 |
| CN106996572A (zh) * | 2017-03-21 | 2017-08-01 | 华电电力科学研究院 | 解决scr脱硝低负荷运行积灰磨损的烟气再循环结构与方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0829222B2 (ja) | 1996-03-27 |
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