JPH0226626A - 微細分散された成分を含む液体を直交作業でろ過する際にフィルタ被覆層の形成を防止するかまたはフィルタ被覆層を分解する方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野： 本発明は処理する液体全フィルタ表面と液体不透過性ギ
ャップ制限体の間の狭い貫流ギャップを通して導く、微
細に分布する成分を含む液体を直交流作業でろ過する際
にフィルタ被覆層（フィルタケーキ層）を防止または分
解する方法、装置およびフィルタモジュールに関する。

従来の技術： 限外ろ過の１つの公知装置（西独公開特許公報第２６　
５３　８７５号参照）によれば被覆層形成を避けるため
ギャップ高さをできるだけ小さく維持し、それによって
形成されるフィルタ被覆層もできるだけ小さく維持する
ことが提案されている。これは構造的にはフィルタ媒体
を支持する２つのフィルタ板の間に弾性的不透過性圧力
クツ７ヨンが配置され、これがそれぞれギャップ状フィ
ルタ室の１つの壁を形成することによって達成される。

圧力クツションくこの場合液体貫流の間、その表面の圧
力状態に応じて変形する圧力平衡体を形成する。それに
よって液体に到る所で同じ局部的流れ抵抗が発生する。

しかし実際にに一定範囲に優先的流路が形成され、被覆
層の過大な形成を部分的にしか制限し得ないＣとが明ら
かになった。

直交流法で作業するフィルタ要素の場合、ミクロ多孔性
フィルタ膜上に形成するフィルタ被覆層を部分的に、フ
ィルタ要素をろ板側からろ液または洗浄媒体で負荷し、
フィルタ被覆層を洗い流子Ｃとによって除去する方法も
常用される（西独公開特許公報第３４　４１　２４９号
参照）。これは本来のろ過作業の間、つねにろ過と逆洗
の間に丁でに得たろ液と交換しなければならず、逆洗工
程自体は中性洗浄媒体による全体的洗浄の際にしか採算
がとれない結果となる。

両方の逆洗の場合においてそれゆえフィルタ要素は本来
のろ過方向と反対にも負荷てれる。

管状フィルタの場合形成された被覆層を、管状フィルタ
がろ液室を自由に貫通し、その断面がろ板側の過圧で可
逆的に可撓性にかつ不規則につぶれることによって分解
することも公知である（西独公開特許公報第３４　１１
　４７１号参照）。と（にこの脈動的つぶれによってフ
ィルタ要素は強（負荷され、それによって破壊が生じう
る。

直交流法によるろ過は飲料工業で次第に重要性を増して
きた。ろ過する液体は多少によらず微細に分布した成分
で負荷されている。、澄まされていないワインを直交流
法によりろ過する場合、フィルタ膜は高い流速によって
被覆形成を遅延させようとしてもフィルタ被覆層により
迅速かつ強力に被覆される。

循環する発酵汁から試料を採取する際この問題が発生す
る。直交流法によりフィルタ要素を介して導く発酵汁に
フィルタ膜を非常に迅速にフィルタ被覆層で被覆する。

ろ板側で取出す発酵ろ液にしたがってしばしば発酵汁の
実際の状態上反映しない。それほろ液中に含まれる培養
細胞からなる細胞が被覆層に沿って導かれる実際の発酵
汁から得られたものでなく、丁でに〕イルタ被覆層に存
在した古い細胞または損傷した細胞であるからである。

発明が解決しようとする課題： それゆえ本発明の課題はフィルタ装置全直交流法で作業
する際、簡単な手段でフィルタ要素を傷めないようにフ
ィルタ被覆層の分解または防止を可能にすることである
。

課題を解決するための手段： この目的μ本発明によりギャップ制限体をフィルタ表面
に対する相対運動によって形成されるフィルタ被覆層と
周期的にけ着するように面接触させ、フィルタ被覆層を
フィルタ表面から、貫流ギャップの活性化およびフィル
タ表面とギャップ制限表面の貫流によって洗いながら除
去することによって解決される。

作用： 外側から供給されるろ過膜べき液体の流れにこの場合貫
流ギャップ内で周期的に中断され、または液体流は外側
からギャップ縮小期の関連延される。ギャップ縮小期ま
たは新たなギャップ拡大期にベンチュリ管原理によりギ
ャップ内の流速が上昇し、比較的平滑で不透過性のギャ
ップ制限体表面がフィルタ被覆層に付着するように面接
触する際、被覆層に多孔性フィルタ要素から剥離するの
で、両効果により所望の洗い流し過程が達成される。フ
ィルタ被覆層の剥離はフィルタ要素のフィルタ被覆層側
表面が細孔であるほど強力になるので、とくに限外ろ過
膜およびマイクロろ過膜全使用する際とくに効果的なフ
ィルタ被覆層の分解またはその防止が達成される。

ギャップ制限体はと（に流体密の薄膜として形成され、
この膜はフィルタ要素と反対側の室へ液体もしくに圧縮
ガス供給により、またはギャップ形成のための真空によ
ってほぼ０〜１０００μｍの程度に調節することができ
る。

薄膜および処理する液体の流れ案内の前記運動過程を脈
動的に実施する場合、フィルタ被覆層の分解は乱流によ
ってさらに促進される。

フィルタ要素は多孔性の剛性フィルタ要素たとえばセラ
ミックもしくにがラスフィルタでよ（、または薄膜状に
形成した可撓性フィルタ、ミクロ多孔性もしくは透析蒸
発のための比較的ち密なフイルメシートでもよい。

不透過性ギャップ制限体にフィルタ要素を包囲するケー
シングの可動壁によって形成することができる。壁はぎ
スト／状に動（板、しかしとくに包囲するケーシングに
周縁で密に固定したグラスチックの薄膜であってもよい
。

液体ポンプ、ガスポンプおよび弁を使用しながらろ過装
置に配置した制御装置により、丁でに収得したろ板金ろ
板側からフィルタ膜を通して保持液回路に供給するよう
に再使用する必要なく、はぼ連続的なろ過作業が可能で
ある。

実施例： 次に本発明の実施例２図面により説明する。

第１〜４図のフィルタ装置はろ液のための接続口６を五
するケーシング下部１、処理する液体Ｆ１．Ｆｌ’　の
ための半径方向に相対する接続口４．５を有するケーシ
ング中間部３、およびガスもしくは液体の形の加圧媒体
Ｐまたは真空Ｖのための接続ロアを有するケーシング下
部２からなる。ケーシング下部２とケーシング中間部３
の間の周縁に液密の平滑薄膜ＦＭが密に固定され、その
背面何は接続ロＴｔｌ−介して流体を負荷することがで
き、かつ多孔膜ＰＭの形の本来のフィルタ表面に対し平
行に動くＣとができる。この多孔膜ＰＭｉケー７／グ中
間部３とケーシング下部１の間に配置され、その下面す
なわちろ板側に平らな多孔性排出層８によって支持され
る。薄膜ＦＭおよび多孔膜ＰＭに常用法で１周するシー
ルリングによりまたは溶接によりケージング部材１〜３
に対し離れた流体室を形成するようにシールされる。２
つの膜ＦＭとＰＭの間に比較的挟込貫流ギャップＳＰが
形成てれ、このギャップに本発明により薄膜ＦＭの負荷
によってろ過作業の間Ｄ〜１０００μｍの程度に調節可
能である。

フィルタ装置は発酵槽２０の試料採取装置の一部である
。この目的で処理する液体、この場合発酵汁Ｆ１のため
の接続口４に導管１１、逆止弁１０およびポンプ９を介
して発酵槽２０へ接続される。濃縮されたまたはてれて
いない発酵汁Ｆ　１’のための接続口５は導管１８、弁
１９および導管１７を介して循環的に同様発酵槽２０へ
接続される。ろ液Ｆ２のための接続口６．３方弁１３、
導管１２および弁１６に同様発酵槽２０へ通ずる導管１
７に接続される。３方弁１３により中間に殺菌フィルタ
を配置したバイパス導管１５を介して発酵ろ液のための
試料採取部が形成される。圧力−真空形成器２１は導管
２２に介して接続ロアに液体またはガス状加圧媒体Ｐ／
Ｖを供給する。

ろ過作業の間またほろ液取出なしの純粋の貫流の際にも
第１図による調節または第３図による狭い調節の貫流ギ
ャップＳ戸内にフィルタケーキ層ＤＳが形成されると、
第２図に示す貫流ギャップＳＰは周期的に薄膜ＦＭの負
荷によって、この膜が第６図に示すようにフィルタケー
キ層ＤＳの表面と付着して平面的に接触するように縮小
される。比較的平滑な薄膜ＦＭとフィルタケーキ層ＤＳ
Ｏ間の付着力により引続（貫流ギャップＳＰの拡大の際
、フィルタケーキ層ＤＳの界面の割れ、したがって断面
構造の弛みが発生するので、狭（なった貫流ギャップＳ
Ｐｔ通ってベンチュリ管の原理により高い流速をもって
貫流ギャップＳ戸内を流れる液体Ｆｌｕ第４図に示すよ
うに剥離したフィルタケーキ層ＤＳを洗って発酵槽回路
へ庚子。洗浄貫流の除虫ずる可撓性薄膜ＦＭの運動はフ
ィルタケーキ層ＤＳの弛みを促進するので、この層は多
孔膜ＰＭまたは剛性ろ材の孔サイズに応じて孔内の残渣
まで除去される。

排出のためのフィルタ支持層８は有利に溝の形で非常に
狭く維持され、または平面的支持フリースによって形成
されるので、多孔膜ＰＭにも波形突起または凹所が形成
されず、したがって貫流ギャップｓ　ｐＨ２つの互いに
平行に走る制限体によって形成される。

液体Ｆ１．Ｆ１’およびＦ２の流れと同調する薄膜ＦＭ
の脈動負荷によって多孔膜ＰＭはフィルタケーキ層から
自由に支持されるので、採取部１５から試料を採取する
際そのつと実際の発酵ろ液を採取することができる。こ
のためにに導管１２の弁１６を閉じるだけである。それ
ゆえ採取は敏感な培養細胞が損傷性フィルタケーキ層Ｄ
Ｓｉ通過する必要な（行われる。

第５図はほぼ円形のフィルタ装置のためのケーシング中
間部３の断面を示す。接続口４，５にこの場合多数の分
配通路４ａまたは捕集通路５ａに移行する。

第６および７図の実施例では可動壁が両側を貫流しうる
薄膜ＦＭの形で貫流ギャップを２つの部分ギャップに分
割する流れ分割器として形成され、この薄膜は貫流ギャ
ップを制限する壁（多孔膜ＰＭ）の間で可動である。薄
膜ＦＭはこの場合ケーシング部材１．２．３．３’の間
の周縁に固定され、２つの部分ギャップ内の貫流は並流
に、または付加的接続口４全備えて向流に行われる。薄
膜ＦＭはその過大サイズまたは可撓性および場合により
膨張可能性により最大で制限するギャップ壁ＰＭの間を
脈動する。薄膜ＦＭＶｘ、たとえばシリコーンからなり
、パンチカードのように突起３“によってケーシング中
間部３．３′の入口および出口４．５に固定し、かつ他
の側縁に張ることができる。

貫流室を矩形に形成する場合、薄膜ＦＭ’ｉ２つの相対
する辺にケーシング１〜３内の流し分割器として固定子
れば十分であり、その際固定位置間の膜の長さは固定位
置間の距離より少し太き（保持されるので、この場合も
膜は境界層の間で脈動することができる。接続口４．５
゜５′、　　６．’６’の遮断または絞り弁によって層
および薄膜ＦＭの位置を制限壁ＰＭの間で制御すること
ができる。

矩形に形成した貫流室の場合、矩形の膜を流入開端部の
みで流れ分割器としてケーシングに固定することも可能
である。他端で貫流ギャップ内を自由に旗のようにバタ
つく膜にそれによってケーキ層形成を防止する。

第８〜１２図の実施例によれば個々の円形要素が下側端
板にそれと結合する中心固定ボルト３０を中心にして積
重ねられ、流体接続口′Ｉｋ有するもう１つの上側端板
によって蔽われ゛、この端板自体固定ボルト３０に案内
され、固定部材によって個々の要素からなる堆積に対し
て押され、その際固定ボルト３０および（または）個個
の円形要素の周縁に固定要素４３′および４３が備えら
れ、これらは個々の要素を貫通する貫通孔を堆槓内で１
線に整列させ、かつ円周方向に正しい順序に配置するた
めに役立つ。以下に記載の実施例の場合、２つの多孔膜
ＰＭの間の薄膜ＦＭに間隔保持フレーム３３ａ、３３ｂ
または３５ａ、３５ｂを間に挟んで配置され、薄膜ＦＭ
の圧力負荷に処理する液体により１つまたは他の多孔膜
ＰＭの方向に行われるので、この液体に明らかに区別す
るため保持液Ｒ１および保持液Ｒ２と称される。

第８図および周縁詳細同第９，１０図によれげろ液支持
板３４に保持液Ｒ１の導入および導出のため周縁に分布
配置した外周の貫通孔３６および内周の貫通孔３６′、
保持液Ｒ２の導入および導出のため相当する貫通孔３８
．３８’ならびにろ液Ｆ２を導出するため貫通孔４０．
４０’および結合通路４１．４１’を有し、その際貫通
孔はシール要素４２によって完全または部分的に包囲さ
れる。ろ液支持板３４ＶＸ、多数の同心配置のフィンお
よび通路ならびに半径方向排出通路を有するので、第９
〜１２図による多孔膜ＰＭの平らな支持表面が形成され
る。

ろ液支持板３４に第１１および１２図によれば両側が多
孔膜ＰＭによって蔽われ、この膜は外周縁および内周縁
３０′（第８図）まで達する。

２つの多孔膜ＰＭｉ内側および外側間隔保持フレーム３
５ｂ、３５ａによって相当する寸法の薄膜ＦＭから離き
れ、この薄膜は保持液Ｒ２を案内するための貫通孔３８
．３８’の結合通路３９．３９”ｉｉ−有するもう１つ
の型の内側および外側間隔保持フレーム３３ｂ、３３ａ
によって隣接するもう１つの多孔膜ＰＭから離される。

第１の型の間隔保持フレーム３５ａ、３５ｂは同様貫通
孔３６．３６’の保持液Ｒ１を案内するための結合通路
３７．３７’を有する。貫通孔３６．３６′、３８．３
８’および４０．４０’にすべての要素すなわち間隔保
持フレーム３３゜３５．３３ａ＊　３３　ｂ−３５を３
５ｂｓ薄膜ＦＭ、ろ液支持板３４および多孔膜ＰＭなら
びに場合により少なくとも１つの端板を貫通する。

図示の実施例の場合、支持板３４および間隔保持フｖ−
ム３３ａ、３３ｂ、３５ａ、３５ｂに薄い金属板まｆｃ
は薄いプラスチック板である。

前者の場合シール要素４２は溝、結合通路および貫通孔
の形の他の成形部とともに腐食法で製造される。他の製
法の選択によって流路の形をたとえば簡単な半径方向通
路および凹所により簡単化することができる。薄膜ＦＭ
および多孔膜ＰＭはとい形シール要素４２によって圧縮
圧力およびこの範囲の膨れによってシールされる。

第１〜４図の実施例に記載されたフィルタケーキ層全防
止または分解する方法は、保持液Ｒ１およびＲ２の貫通
孔３６および３８への同時流入を交互に周期的に減少し
、それゆえたとえば第１１および１２図で最上部に”示
す薄膜ＦＭがＲ２の圧力上昇およびＲ１の圧力減少の陛
下へ動き、多孔膜ＰＭまたはフィルタケーキ層と接触す
ることによって実施される。Ｒ１の圧力上昇およびＲ２
の圧力低下によって同じ薄膜ＦＭに第１１および１２図
にに相当するろ液支持板３４を有するもはや図示されて
いない上の多孔膜の方向へ動（。それによってフィルタ
ケーキ層は第１の多孔膜ＰＭから剥離し、洗い流され、
その上にある多孔膜ＰＭのろ過される貫流は保持液流Ｒ
２によって貫通孔３８．３８’および結合通路３９．３
９’を介して行われる。

適当な脈動制御によってほぼ連続的なろ過作業が可能で
ある。

保持液Ｒ１′！たＨＲ２自体による圧力負荷の代りに液
体またはガス体の形の別の圧力媒体を供給することもも
ちろん可能である。そのためにはそれぞれ２つの薄膜Ｆ
Ｍが内側および外側間隔保持フレーム３５ａ、３５ｂま
たは３３ａ。

３３ｋ）によって互いに離れて保持され、この特殊な流
れ基金保持液室およびろ液室に対してシールすることを
必要とするだけである。流体流れの制御は制御装置およ
び調節弁を介して行われる。

２つの薄膜ＦＭの間に２つの薄膜の脈動運動のため導入
された流体にろ過する液体を必要に応じて温度調節する
ための熱交換器媒体であってもよい。

発明の効果： 前記方法に被覆層またはフィルタケーキをできるだけ早
（分解し、またはその発生を直接抑制しうる利点を有す
る。それはフィルタケーキがもはや劣化せず、したがっ
てもはや硬化しないからである。前記ろ過ユニットが小
さいポンプ能力で足り、所要エネルギーが直接フィルタ
膜へ作用することはとくにπ利である。公知法でフィル
タケーキ分解のため行われる交互のろ過作業と逆洗作業
によるフィルタ要素の連続的に変化する応力が本発明に
よれば避けられる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図に種々のろ通期の試料採取装置として発
酵槽回路に配置したフィルタ装置の垂直断面図、第５°
図はケーシング中間部の水平断面図、第６図は第７図に
よる矩形装置の６−６線断面図、第７図は第６図７−７
線断面図、第８図は円形堆積フィルタモジュールのろ腹
板の平面図、第９図および第１０図に間隔保持フレーム
の平面図、第１１図に第８図１１−１１線断面の斜視図
、第１２図に第８図１２−１２線断面の斜視図である。 １・・・ケーシング上部、２・・・ケーシング上部、３
・・・ケーシング中間部、４．５．６．７・・・接続口
、Ｆｌ、Ｆ１’・・・処理する液体、ＦＭ・・・薄膜、
ＰＭ・・・多孔膜、ＤＳ・・・フィルタ被覆層、ｓｐ・
・・貫流ギャップ、１５・・・試料採取部、２０・・・
発酵槽 Ｆｌ・・イヤノブ制限体 Ｐ！Ｊ・・・フィルタ表面 二Ｔ翫ｉδ 二ｔシｒ！Ｉ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、処理する液体をフィルタ表面とギャップ制限体の間
   の狭い貫流ギャップを通して導く、微細に分布する成分
   を含む液体を直交流作業でろ過する際にフィルタ被覆層
   を防止または分解する方法において、ギャップ制限体（
   ＦＭ）をフィルタ表面（ＰＭ）に対する相対運動によつ
   て、形成されるフィルタ被覆層（ＤＳ）とまたはフィル
   タ表面（ＰＭ）と周期的に付着するように面接触させ、
   フィルタ被覆層（ＤＳ）をフィルタ表面から貫流ギャッ
   プ（ＳＰ）の活性化およびフィルタ表面とギャップ制限
   体表面の貫流によつて洗いながら除去することを特徴と
   する微細に分布する成分を含む液体を直交流作業でろ過
   する際にフィルタ被覆層を防止または分解する方法。 ２、貫流ギャップ（ＳＰ）内の液体流れを周期的に中断
   する請求項１記載の方法。 ３、貫流ギャップ（ＳＰ）内の液体流れをギヤツプ縮小
   期の間遅くする請求項１記載の方法。 ４、処理する液体（Ｆ１）をフィルタ表面と平行する液
   体不透過性ギャップ制限体との間の狭い貫流ギャップ（
   ＳＰ）を通して導く、微細に分布する成分を含む液体を
   直交流作業でろ過する際にフィルタ被覆層を防止または
   分解する装置において、ギャップ制限体（ＦＭ）および
   これに面するフィルタ表面が互いに相対的に、貫流ギャ
   ップ（ＳＰ）内でフィルタ表面（ＰＭ）に形成されるフ
   ィルタ被覆層（ＤＳ）と接触するまで、またはフィルタ
   表面（ＰＭ）と接触するまで可動であり、かつ再び互い
   に離れうることを特徴とする微細に分布する成分を含む
   液体を直交流作業でろ過する際にフィルタ被覆層を防止
   または分解する装置。 ５、ギャップ制限体がフィルタ要素を包囲するケーシン
   グの可動壁によつて形成されている請求項４記載の装置
   。 ６、可動壁がピストン状に動く板によつて形成されてい
   る請求項４記載の装置。 ７、可動壁が包囲するケーシング内に周縁で密に固定し
   たプラスチック薄膜（ＦＭ）によつて形成されている請
   求項４記載の装置。 ８、薄膜（ＦＭ）が貫流ギャップ（ＳＰ）と反対側でガ
   ス源（Ｐ／Ｖ）または液体源によつて負荷しうる請求項
   ４記載の装置。 ９、フィルタ表面が可撓性の多孔膜（ＰＭ）によつて形
   成されている請求項４記載の装置。 １０、多孔膜（ＰＭ）がろ液側で平面的に排出可能に支
   持されている請求項４記載の装置。 １１、多孔膜（ＰＭ）が限外ろ過膜である請求項４記載
   の装置。 １２、多孔膜（ＰＭ）がミクロろ過膜である請求項４記
   載の装置。 １３、フィルタ表面が透過性透析蒸発膜によつて形成さ
   れている請求項４記載の装置。 １４、接続口（４、５、６）を有するケーシングによつ
   て包囲され、ケーシング部材（１、２、３）の間に周縁
   が密に挟まれる透過性フィルタ膜（ＰＭ）を有し、この
   膜が１面に処理する液体（Ｆ１）の貫流面、他面にろ液
   （Ｆ２）を導出するための排出面を形成し、透過性フィ
   ルタ膜（ＰＭ）の貫流面がそれとほぼ平行にギャップ制
   限体によつて蔽われている、微細に分布する成分を含む
   液体を直交流作業でろ過するフィルタモジュールにおい
   て、ギャップ制限体が周縁でケーシング部材（２、３）
   に支持される可撓性薄膜（ＦＭ）によつて形成され、こ
   の薄膜が貫流面と反対側で加圧媒体によつて透過性膜の
   貫流面との距離を限定的に変化しうることを特徴とする
   微細に分布する成分を含む液体を直交流作業でろ過する
   フイルタモジユール。 １５、周縁でケーシング部材の間に固定した透過性膜（
   ＰＭ）および薄膜の間に貫流ギャップ（ＳＰ）を制限す
   る１周する間隔保持フレーム（３３ａ、３３ｂ、３５ａ
   、３５ｂ）が配置され、このフレームが流れを案内する
   流路（３６〜４０および３６′、３８′、４０′）を有
   する請求項１４記載のフィルタモジュール。 １６、２つの透過性膜（ＰＭ）の間に流路（３６、３８
   、４０、４１、３６′、３８′、４０′、４１′）を有
   する排出可能の支持板（３４）が配置されている請求項
   １４または１５記載のフィルタモジュール。 １７、２つの薄膜（ＦＭ）の間に貫流ギャップ（ＳＰ）
   を制限する１周する間隔保持フレーム（３３ａ、３３ｂ
   、３５ａ、３５ｂ）が配置されている請求項１４から１
   ６までのいずれか１項記載のフィルタモジュール。 １８、多数の透過性膜（ＰＭ）、薄膜（ＦＭ）、間隔保
   持フレーム（３３ａ、３３ｂ、３５ａ、３５ｂ）および
   排出可能のフィルタ支持板（３４）が互いに積重ねて流
   れ室を形成する１つのユニットに密封結合され、その流
   路（３６、３８、４０、４１、３６′、３８′、４０′
   、４１′）が導管を介して流体を負荷しうる請求項１４
   から１７までのいずれか１項記載のフィルタモジュール
   。 １９、流れ室を形成する堆積したユニットが中心の固定
   ボルト（３０）を中心に配置され、堆積ユニットがその
   両端で端板によつて蔽われ、その少なくとも１つが固定
   ボルト（３０）に可動に案内され、その少なくとも１つ
   が流体室に流体を供給するための導管接続口を有する請
   求項１４から１８までのいずれか１項記載のフィルタモ
   ジュール。 ２０、可動壁が貫流ギャップを２つの部分ギャップに分
   割する流れ分割体によつて形成され、この分割体が両側
   を貫流しうる膜の形を有し、かつフィルタ要素（ＰＭ）
   の貫流ギャップを制限する壁の間を動きうる請求項１４
   から１８までのいずれか１項記載のフィルタモジュール
   。 ２１、貫流室が矩形に形成され、矩形の薄膜（ＦＭ）が
   流入側の端部においてのみ流れ分割体としてケーシング
   に固定され、その他端が貫流ギャップ内で旗のように自
   由にバタつきうる請求項１４から１８までのいずれか１
   項記載のフィルタモジュール。 ２２、貫流室が矩形に形成され、矩形の薄膜（ＦＭ）が
   流入側および流出側の端部でのみ流れ分割体としてケー
   シングに固定され、固定部の間の膜の長さが固定部間の
   距離より少し大きく支持されている請求項２０記載のフ
   ィルタモジュール。 ２３、液体流れの案内とギャップ縮小および拡大を互い
   に同調させる制御装置（９・・・・・・２２）が配置さ
   れている請求項４記載の装置。 ２４、液体流れの案内とギャップ縮小および拡大を互い
   に同調させ、かつろ液試料を閉鎖した液体回路から採取
   するための制御装置が配置されている請求項４記載の装
   置。