JPH02271302A

JPH02271302A - カラーフィルタの製造方法

Info

Publication number: JPH02271302A
Application number: JP1093892A
Authority: JP
Inventors: Toru Sasaya; 亨笹谷
Original assignee: Sanyo Electric Co Ltd
Current assignee: Sanyo Electric Co Ltd
Priority date: 1989-04-12
Filing date: 1989-04-12
Publication date: 1990-11-06

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】主栗上皇五里分夏本発明は、カラー液晶表示装置に用いられるカラーフィ
ルタの製造方法に関し、特にカラーフィルタの光遮蔽層
の製造方法に関する。

ｌ米生肢歪上記カラーフィルタの光遮蔽層は、一般に、スパッタリ
ング法或いは染色法により作成していた。

上記スパッタリング法は、ターゲットである被膜用金属
（クロム）を陰極として真空中でガス放電させる。これ
により、クロムの表面にイオンが衝突してクロムの霧が
発生し、これがガラスの表面に凝着するので、ガラスの
表面にクロム層を形成することができる。

一方、上記染色法は、ガラス基板上にスピナー法等によ
りフォトレジストを塗布した後、マスクを用いてパター
ン形成を行い、しかる後黒色の染料の水溶液に浸漬する
ことにより作製するものである。

ＩＩ＜シよ°と　る量しかしながら、上記スパッタリング法では、高電圧を必
要とする等の理由によりスパッタリング装置が複雑化す
るため、スパッタリング空間を大きくすることができな
い、このため、パネルの大型化に対応することができず
、且つ大量に処理できないので量産性に劣る。加えて、
操作が複雑となり、更に高電圧が必要となるので設置場
所が限定される。

一方、上記染色法では、十分な光遮蔽性を得るためには
光遮蔽層をカラーフィルタ部より厚くする必要が生じる
いこのため、−上記カラーフィルタに配向膜を塗布して
液晶セルを作製した場合に、液晶層のギヤツブが不均一
となって、表示ムラが生じるという課題を有していた、そこで、本発明は上記課題を考慮してなされたものであ
り、品質の向りを図ると共に、イ・産性に優れ、且つパ
ネルの大型化にも十分に対応１〜・うるカラーフィルタ
の製造方法の徒供を［１的とする。

１糧奎−解−決ｊレタだ！り乃工段］二記目的を達成するため本発明は、無電解メッキ法に
よりガラス基板上にメッキ層を作成する第１ステップと
、上記メッキ層の不要部をエツチングして光遮蔽層を形
成する第２ステップと、上記光遮蔽層形成基板上にフィ
ルタ部を形成する第３ステップとを有することを特徴と
する。

作−ｍ−、川。

上記製造方法であれば、無電解メンキ用の浴槽を用いる
だけで光遮蔽層を構成するメッキ層を作製することがで
きる。

ここで、上記浴槽は大型化が容易であるので５゜液晶パ
ネルの大型化にも十分対応することができ、且・つ−度
に大塑の処理が行うことができるので量産性に富む。

また、上記製造ｈ゛法で作製した光遮蔽層は薄くて十分
な光遮蔽性を得ることができるので、液晶セルを作製し
た場合に５．液晶層のギャップが不均一とならず、表示
ムラが生じることがない。

加えて、浴槽に浸漬するだけでよいので操作も簡単とな
り、且つ高電圧を使用しないので設置場所が限定される
とい・うこともない。

実−８施−桝本発明の一実施例を、第１図（ａ）〜（ｅ）及び第２図
（ａ）〜（ｄ）Ｇ：基づいて、以下に説明する。

本発明の方法により作製されたカラーフィルタは、第２
図（ｄ）に示すように、ガラス基板１上にニッケルから
成る多数の光内蔽層２・・・が形成されている。−に記
光酋蔽層２・・・間におけるガラス基板１トには、赤の
フィルタ部３と緑のフィルタ部４と青のフィルタ部５と
が順に設けられている。

に記の構造を有するカラーフィルタは以下の如く製造さ
れる。

先ず、ガラス基板１の表面の洗浄と脱脂とを行−７た後
、ガラス基数１の表面を薬剤処理して膨潤させてガラス
基板１の表面調整を行う。これにより、ガラス基板１の
変形や成分粒子を正常に戻す（バルク状態にする）こと
ができる。次に、ガラス基板１を硫酸とクロム酸とに浸
漬１．てガラス基板１表面の親水性を向上させる９次い
で、ガラス基板ｌをフッ酸に浸漬してガラスのエツチン
グを行って、ガラス基板１の表面を多孔性にする。これ
によりガラス基板ｌにおけるコロイドやメッキの食いつ
き性能を向上させることができる。この後、ガラス基板
１０表面を完全に洗浄した後、メッキを容易に析出させ
るべく、塩化第一スズと塩酸とによりガラス基板１０表
面にスズイオ二１ｙ・吸着さ・）えて感受性付与（セン
シタイザ〜）を行う。

しかる後、塩化パラジウムと塩酸とから成る溶液にガラ
ス基板１を浸漬してパラジウムを還元析出させ活性化（
アクナベータ）を行う。次いで、上記ガラス基板ｌを十
分に水洗する。この後、無電解ニッケルメッキを行って
、第１図（ａ）に示すように、ガラス基板１上にニッケ
ルメッキ層６を形成する。上記無電解ニッケルメッキで
は酸性浴（硫酸ニッケル溶液に還元剤としての次亜リン
酸すＥ・リウムを溶解させたもの）を使用する。また、
無電解ニッケルメッキを行う際には、ｐＨや温度（９０
〜９５℃）の管理を十分に行う必要がある。

次に、第１図（ｔ））に示すよ・うに、上記ニッケルメ
ッキ層６上にホトレジス［・を塗布してレジスト層７を
形成した後、同図（ｃ）に示すように、ホトマスク８を
用いて上記レジスト層７の必要部分のみを露光する。し
かる後、レジスト層７の現像を行、って、同図（ｄ）に
示すよ・うに、レジスト層７のバク・−ンニングを行う
。この後、レジスト層７で覆われていない部位のニソゲ
ルメソギ層６のエツチングを行った後、レジスト層７の
除去を行う。これにより、同図（ｅ）に示すように、所
定の光遮蔽層２・・・が作製される。

次に、上記光遮蔽層２・・・が形成されたガラス基板１
上に、以下の工程によりカラーフィルタを形成する。

先ず、第２図（ａ）に示すように、ガラス基板１上に、
光架橋性が付与されたゼラチン等の天然タンパク質から
成る染色基質１０を塗布する。次に、同図（ｂ）に示す
ように、透光性を有するマスク１１を用いて染色すべき
部位のみ露光を行い上記染色基質１０を光硬化させた後
、その他の部分の染色基［１０のエツチングを行う、こ
れにより、同図（ｃ）に示す所定のパターンが形成され
る。この後、上記所定のパターンが形成されたガラス基
板１を赤色の染料溶液中に浸漬して、染色基質１０を染
色する。これにより、赤のフィルタ部３が形成される。

しかる後、赤のフィルタ部３と同様の方法で緑のフィル
タ部４と青のフィルタ部５とを順に形成する。これによ
り、カラーフィルタが作製される。尚、上記縁のフィル
タ部４と青のフィルタ部５とを形成するにあたっては、
赤のフィルタ部３及び緑のフィルタ部４が染色されない
ように、各フィルタに防染処理を施しておく必要がある
。

光！Ｉと砺果以上説明したように本発明によれば、液晶パネルの大型
化にも十分対応することができ、且つ一度に大量の処理
が行うことができるので量産性に富む、加えて、液晶層
のギャップが不均一とならないので表示ムラが生じず、
製品の品質を向上させることができる。更に、操作が前
便であるので操作性が向上し、且つ設置場所が限定され
ないので、流れ工程中の適所に配置することができ製造
効率を向上させることができる等の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｅ）はガラス基板上に無電解ニッケル
メッキ法により光遮蔽層を形成する場合の工程図、第２
図（ａ）〜（ｄ）は染色法によるカラーフィルタの製造
工程図である。１・・・ガラス基板、２・・・光遮蔽層、３・・・赤の
フィルタ部、４・・・緑のフィルタ部、５・・・青のフ
ィルタ部、６・・・ニッケルメッキ層。第１図特許出願人：三洋電機　株式会社

Claims

【特許請求の範囲】

（１）無電解メッキ法によりガラス基板上にメッキ層を
作成する第１ステップと、上記メッキ層の不要部をエッチングして光遮蔽層を形成
する第２ステップと、上記光遮蔽層形成基板上に種々の色のフィルタ部を形成
する第３ステップと、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。