JPH0227438B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、表面処理などの製造工程で中間製品
や完成品の表面の水分や汚れ等を効果的に除去し
たり、表面に潤滑油を均一に塗布する事の出来る
表面処理装置の改良に関し、さらに詳述すれば、
第１発明にあつては、装置本体Ｂを貫通するよう
に形成したパスラインＣに被表面処理材２を挿通
して一方向に送給し、パスラインＣの導入孔３部
分にて被表面処理材２の送給方向に流体７のジエ
ツト噴流を吹き付けて被表面処理材２の表面処理
を行うと同時にジエツト噴流の流れによつて導入
孔３を負圧にし、導入孔３より装置本体Ｂ内に外
気を流入させて導入孔３をシールし、然る後パス
ラインＣの導出孔４部分にて被表面処理材２の送
給方向と逆方向に流体７のジエツト噴流を吹き付
けて被表面処理材２の表面処理を再度行うと同時
にジエツト噴流の流れによつて導出孔４を負圧に
し、導出孔４より装置本体Ｂ内に外気を流入させ
て導出孔４をシールし、装置本体Ｂ内でジエツト
噴流を急激に膨張させた後、装置本体Ｂ外に流体
７を導出する事を特徴とする表面処理方法に係る
ものであり、第２発明にあつては、装置本体Ｂの
内部にジエツト噴流膨張空間１を設け、装置本体
Ｂの外面に開口せる導入孔３と導出孔４とを装置
本体Ｂに設け、ジエツト噴流膨張空間１と導入孔
３との間及びジエツト噴流膨張空間１と導出る孔
４との間にジエツト噴流通過孔５をそれぞれ形成
して装置本体Ｂを貫通するパスラインＣを構成
し、ジエツト噴流通過孔５を通つてジエツト噴流
膨張空間１に向かつて流体７が噴出するようにジ
エツト噴流通過孔５と導入孔３との境界及びジエ
ツト噴流通過孔５と導出孔４との境界に流体噴出
孔８をそれぞれ形成し、ジエツト噴流膨張空間１
より装置本体Ｂの外面に開口せる排出孔９を装置
本体Ｂの穿設して成ることを特徴とする表面処理
装置Ａに係るものである。

ドラムに巻き取られた線材や帯材に例えば鍍金
処理のような表面処理を行う場合や僅かの塵あい
も嫌う精密部品材料として使用する場合には、鍍
金処理を行う前や精密部品材料として製品に組み
込む前に入念な酸洗工程またはアルカリ洗い工程
や水洗工程乃至トリクレンや洗剤などによる洗浄
工程があつてその表面を清浄にし、且つ、次工程
に入る前に表面の処理液や水を十分除去・乾燥し
ておく必要があり、又、そのまま製品として出荷
したり、次工程で冷間引き抜きする場合には表面
に均一に潤滑油や防錆油を塗布したり、粉体塗装
を行う場合には塗装用の粉体を均一に付着させね
ばならない。このような用途に用いられる表面処
理装置の例として特公昭58−44153号公報に記載
のようなエゼクタ効果を利用したものがある。こ
の場合、エゼクタ効果利用のためのジエツト噴流
が線材送給方向に対して逆向きの方向にのみ噴出
されるだけであるから線材の送給方向に対して順
方向には剥離しやすいスケールは前記ジエツト噴
流にて剥離されないと言う問題点があり、又、ジ
エツト噴流の供給方向が一方向だけであるから逆
向きのジエツト噴流にて相殺されるという事がな
く、ジエツト噴流が長く伸びて装置形状が大きく
なると言う問題点があつた。

本発明は掛かる従来技術の問題点に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、微細な表
面の付着物も瞬時に除去し、極めて清浄度の高い
表面とすることができ、しかも表面処理と乾燥を
同時且つ連続的におこなうことができ、又は、表
面に潤滑油や防錆油並びに粉体を均一に塗布する
ことが出来、更に表面処理剤が外部に漏れず完全
にクローズドループで表面処理を行うことができ
る、しかも装置形状がコンパクトな表面処理方法
とその装置を提供するにある。

以下、本発明を図示実施例に従つて詳述する。
第２図は本発明の第１実施例で、被表面処理材２
が線材の場合である。Ｔ字管１０の両側にはガイ
ド外筒１１をはめ込んであり、第１袋ナツト１２
にてＴ字管１０に嵌着してあり、Ｔ字管１０内で
ガイド外筒１１に挟まれた空間がジエツト噴流膨
張空間１である。ジエツト噴流膨張空間１に付い
て説明すれば、円筒状でも良いが、角筒状であつ
ても良いもので有り、又、内壁に螺旋溝３１を形
成してジエツト噴流膨張空間１に於いて積極的に
旋回気流３２を形成するようにしてもよい。又、
ジエツト噴流の拡散に合わせてジエツト噴流膨張
空間１の形状を断面楕円形や碗状又はロート状に
形成してもよいものである。更に、ジエツト噴流
膨張空間１の形状は実施例図では小さいものであ
るが、勿論これに限られず直径や長さを大きくと
り、大容量にしてジエツト噴流膨張空間１内の気
圧又は水圧が高くなり過ぎないようにし、一方の
ジエツト噴流の圧力が高く、他方のジエツト噴流
の圧力が弱い場合に、弱い方のジエツト噴流がジ
エツト噴流膨張空間１内の気圧又は水圧に負けて
逆流することを防止するようにしてもよいもので
ある。図中Ｔ字管１０の下方に延びている部分が
ジエツト噴流膨張空間１から外面に開口する排出
孔９である。ガイド外筒１１の外側半分に内筒挿
入孔１３を穿設してあり、この内筒挿入孔１３に
ガイド内筒１４が螺進・螺退自在に螺着されてい
る。内筒挿入孔１３の孔底１５は摺鉢状に形成さ
れており、孔底１５よりＴ字管１０内へ通ずるジ
エツト噴流通過孔５をガイド外筒１１の中心に穿
設してある。尚、ジエツト噴流通過孔５の内壁に
螺旋溝を刻設してもよい。ガイド内筒１４の挿入
側端部はニードル弁１６状となつていて、ニード
ル弁１６の先端もテーパに仕上げてあり、このニ
ードル弁１６と孔底１５との間にわずかな隙間を
開成して、流体噴出孔８を形成してあり、この流
体噴出孔８と導入孔３または導出孔４とのなす角
度θは15度から60度程度の鋭角である。この流体
噴出孔８の間隙はガイド内筒１４の螺入量によつ
て調節され、調節後は調節ナツト１７を締め込ん
で固定する。ニードル弁１６は内筒挿入孔１３よ
りかなりの細径であるため、ニードル弁１６の周
囲に流体溜まり１８が生じる。又、流体噴流孔８
の他の実施例として孔底１５やニードル弁１６の
テーパー面に螺旋溝を刻設し、流体が旋回しなが
らジエツト噴流通過孔５に噴き出すようにしても
よいものである。

又、流体噴出孔８は上記のようにニードル弁１
６とテーパー状の孔底１５とで構成されるリング
状のものに限られず、小孔を多数ジエツト噴流通
過孔５の周囲に穿設しても良いものである。流体
溜まり１８には外部と通ずる流体供給孔１９を設
けてある。また、ガイド内筒１４の先端には耐摩
耗性向上のためセラミツクスノズル２０や超硬ノ
ズル２０、耐摩耗性樹脂ノズル２０を嵌め込んで
あり、第２袋ナツト２１にて固着されている。勿
論、ノズル２０の取り付けは圧入でもよい。ノズ
ル２０並びにガイド内筒１４の中心には線材の外
形形状に合わせて形成され、線材の外径より若干
太く（即ち、ジエツト噴流の流速により、導入孔
３及び導出孔４内が負圧になつて流体７が逆流し
ない程度の隙間である。）、ジエツト噴流通過孔５
より若干細径に形成された内径を有する導入孔３
と導出孔４とがそれぞれ穿設されている。流体供
給孔１９に供給される流体７には気体、液体、粉
体があり、気体の例としては、例えば空気、フロ
ン、窒素などがある。フロンや窒素は非還元性雰
囲気を形成する場合に使用されるものである。液
体の場合にはトリクレンのような洗浄用溶剤を始
め、水、洗剤や微細な研摩材を混入した研摩液や
潤滑液が用いられる。粉体の場合は非常に微細な
研摩粉が用いられ、粉体塗装の場合には微細な塗
装用粉体が用いられる。まず、本装置にて水切り
を行う場合に付いて説明する。第１図に示すよう
に、フイルタ２２を介して流体供給孔１９にコン
プレツサ２３を接続し、排出孔９をサイクロン２
４に接続する。次いで、線状の被表面処理材２を
導入孔３から導出孔４に挿通し、パスラインＢ上
を一定速度にて被表面処理材２を一方向に送給す
る。被表面処理材２の送給と同時にコンプレツサ
２３から圧縮空気を表面処理装置Ａに送り込む
と、フイルタ２２にて過された清浄な圧縮空気
は、一旦流体溜まり１８に入り、次いで細い流体
噴出孔８から急激にジエツト噴流通過孔５に送り
込まれる。圧縮空気はジエツト噴流通過孔５内を
急激な速度で通過して被表面処理材２の表面をブ
ラツシングし、表面の水分を吹き飛ばす、一方、
導入孔３と導出孔４の部分ではジエツト噴流通過
孔５の圧縮空気の流れに引かれて負圧になり、導
入孔３と導出孔４に流れ込む外気により、この部
分でもブラツシングが起こる。特に導出孔４では
被表面処理材２と反対方向に外気が流れ、被表面
処理材２の表面を流れる外気の流速が相対的に速
くなり、水切り・乾燥効果を著しく高めるもので
ある。換言すれば、流入する外気を利用してワイ
パー効果を発揮させるものである。このようにし
て水分を含んだ圧縮空気はジエツト噴流膨張空間
１に至り、更に急膨張すると共に円筒状の壁面に
沿つて旋回して被表面処理材２の周囲に旋回気流
３２を作り出し、被表面処理材２の表面から更に
水分を奪い去る。ジエツト噴流膨張空間１の内壁
に螺旋溝３１を刻設している場合には旋回気流３
２がより積極的に形成され、水切り・乾燥効果が
より大になるものである。水分を十分含み、導入
孔３側から進んで来た旋回気流３２と導出孔４側
から進んで来た旋回気流３２はジエツト噴流膨張
空間１の中央で減速して排出孔９へと進み、水分
を分離しつつサイクロン２４内に入る。サイクロ
ン２４に入ると更に水分が分離され、乾燥空気が
外部に放出される。圧縮空気量はバルブ２９にて
調節される。ここで、ジエツト噴流膨張空間１の
容量が大なる場合には上記の旋回気流３２同士の
衝突が回避もしくは緩和され、ジエツト噴流膨張
空間１内の気圧が高くなり過ぎず、弱い方のジエ
ツト噴流が逆流するというような事がない。又、
圧縮空気をコンプレツサ２３にて流体供給孔１９
に吹き込む場合を示したが、排出孔９から吸引し
ても同様の結果が得られるものであり、場合によ
つては圧縮空気の圧入と吸引を同時に行つても良
いものである。又、流体供給孔１９からの供給は
勿論圧縮空気のみに限られるものでなく、前述の
液体や粉体を吹き込み、被表面処理材２の表面を
洗浄又は研摩若しくは油引きしても良いものであ
る。更にこれまで述べたように同種のものを流体
供給孔１９に供給するだけに止どまらず、一方の
流体供給孔１９に液体を、他方の流体供給孔１９
に気体を供給するなど異種のものを供給するよう
にしてもよいものである。この点に関し、代表例
としてトリクレンによる線材の洗浄に付いて説明
する。線材は前述同様導入孔３から導出孔４に向
けて送給されている。左右の流体供給孔１９にト
リクレンを加圧供給し、ジエツト噴流通過孔５に
噴出させる。ジエツト噴流通過孔５に噴出したト
リクレンのジエツト噴流は線材の表面を強くブラ
ツシングし、塵あい勿論油脂の単原子膜まで洗
浄・除去する。この時、線材の断面が円形でな
く、入り組んだ形状であつてもトリクレンのジエ
ツト噴流が奥部まで吹き込まれ、完全な洗浄を実
現するものである。左右の流体供給孔１９からト
リクレンを供給した場合、導出孔４側のジエツト
噴流通過孔５に於いて、線材の表面を流れるトリ
クレンの流速は相対的に速くなり、洗浄効果を大
ならしめるものである。又、ジエツト噴流通過孔
５を過ぎ、導出孔４に入ると、線材の表面は導出
孔４の負圧にて吸入された外気流にブラツシング
され、乾燥される事になる。これに対して、導入
孔３側のみにトリクレンを供給し、導出孔４側に
外気を供給する場合は、導出孔４側の外気のジエ
ツト噴流にて線材の乾燥をより完全に行うことが
出来るものである。第３図は本発明の第２実施例
で、導入孔３に表面処理剤供給孔３０を流体供給
孔１９とは別に設けた例で、流体供給孔１９には
圧縮空気を供給し、導入孔３の負圧にて表面処理
剤を吸入するようになつている。第６図は導入孔
３及び導出孔４の出口部分の他の実施例の形状
で、ジエツト噴流に合わせてブースター状に形成
した場合の断面である。第４図は本発明の第３実
施例で、ジエツト噴流膨張空間１の中央にリング
状の仕切壁２８を設け、ジエツト噴流膨張空間１
を左右に２分したもので、旋回気流３２同士の衝
突を妨げて気流の乱れが生じないようにし、旋回
気流３２の排出をより円滑に行うようにしてあ
る。２５は面取りで、被表面処理材２を表面処理
装置Ａに通し易くするためのものである。尚、潤
滑剤の塗布のような場合には、導出孔４内に吸入
される外気にて余分の潤滑剤が剥ぎ取られ、適性
量の潤滑剤の塗布がなされるものである。又、第
３図においてガイド外筒１１にガイド中筒６を螺
入し、ガイド中筒６にジエツト噴流通過孔５を形
成しても良いものであり、この場合はジエツト噴
流通過孔５の直径の異なるガイド中筒６を多数用
意しておき、適宜取り替える事により、直径の異
なる線材にも適応出来るものである。又、表面処
理能力向上のため複数本の被表面処理材２を同時
に送給しても良いものである。この場合、被表面
処理材２間に間隙が生ずるようにし、間隙から内
部に流体７のジエツト噴流が吹き込まれるように
する必要がある。

第７，８図は本発明の第４実施例で、被表面処
理材２が帯状の場合に使用するものである。装置
本体Ｂは上半部２６と下半部２７とに分割されて
いる。この場合導入孔３、導出孔４、ジエツト噴
流通過孔５は被表面処理材２に合わせてスリツト
状に形成されている。又、ジエツト噴流膨張空間
１もこれに合わせて直方体状に形成されており、
ジエツト噴流通過孔５からジエツト噴流膨張空間
１に噴き出した圧縮空気は急膨張しつつ帯状の被
表面処理材２の上を流れ、排出孔９に流れ込む。
尚、この場合装置本体Ｂが上半部２６と下半部２
７とに分割されているので、パスラインＣ上に配
置されている被表面処理材２をそのままにして
（換言すれば、パスライン上の被表面処理材２を
途中で切断することなく）、ボルトの取り付け・
取り外しだけで被表面処理材２への着脱が可能と
なる。尚、被表面処理材２は上記のように線材や
条のみに限られず、棒材なども当然含むものであ
り、長短に拘わらず連続体であれば足る。第９図
及び第１０図は本発明の第５実施例で、装置本体
Ｂの中央に第３の流体噴出孔８を設けた例で、第
３の流体噴出孔８は被表面処理材２の送給方向に
対して斜めに配設されている。これにより、被表
面処理材２の表面に付着した流体８は流体噴出孔
８に沿つて吐き出されることになる。この場合の
流体噴出孔８の形状は、出口部分がスリツト状に
なつており、流体供給孔１９とスリツト溝８ａと
は多数の細孔８ｂで連通してある。

第１１図は本発明の第６実施例で、被表面処理
材２のスケールを完全に除去する場合である。即
ち、表面処理装置Ａの前方に表面加工装置Ｄを設
け、表面加工装置Ｄにて被表面処理材２に曲げ加
工やシヨツトピーニング加工など物理的処理を施
してスケールの表面に細かなクラツクを無数に形
成すると同時にスケールの大部分を除去する。た
だしこの第１工程ではスケールの大部分は除去さ
れるが完全には除去し得ず、スケールの一部は次
工程に持ち越される。それ故、第１工程終了品で
は精密部品への適用が困難であつた。そこで、第
１工程終了品を表面処理装置Ａに連続的に供給
し、残留スケールを完全に除去する。即ち、被表
面処理材２の表面にジエツト噴流を吹き付け、前
述の作用にてスケールのクラツクを利用してスケ
ールを吹きばすものである。ここで、第１工程の
表面加工装置Ｄは図の実施例ではベンデイングロ
ーラ（図の実施例では３本であるが、勿論これに
限られず、２本でも良いし、４本以上であつても
良く、加工度合に合わせて適宜増減する事が出来
る。）が使用されているが、勿論これに限られず、
シヨツトピーニング、サンドブラスト、ウイスカ
のシヨツトなど物理的に被表面処理材２のスケー
ルにクラツクを形成出来る方法を総て含む。又、
ベンデイングと同時乃至単独で被表面処理材２に
捩りを加え乃至は捩り加工後元に捩り戻すという
ような塑性加工を加え、スケールにクラツクを形
成しても良い。又、第２工程では高圧水を始め高
圧ガスなどを用いるが、その他塩酸や硫酸などの
洗浄用酸を用いても良い。この場合、第２工程は
クローズドシステムであるから洗浄用酸の蒸発の
心配がなく、それ故通常より濃度の高い洗浄用酸
を使用する事が出来る。ただし、洗浄用酸を用い
る場合は、表面処理装置Ａの後方に更に表面処理
装置Ａと同一構造の洗浄装置Ｅを設置する事にな
る。このようにして被表面処理材２の脱スケール
を完全に行い、精密部品用としての仕様を満足さ
せる。

第１発明は、叙上のように装置本体を貫通する
ように形成したパスラインに被表面処理材を挿通
して一方向に送給し、パスラインの導入孔部分に
て被表面処理材の送給方向に流体のジエツト噴流
を吹き付けて被表面処理材の表面処理を行うと同
時にジエツト噴流の流れによつて導入孔を負圧に
し、導入孔より装置本体内に外気を流入させて導
入孔をシールし、然る後パスラインの導出孔部分
にて被表面処理材の送給方向と逆方向に流体のジ
エツト噴流を吹き付けて被表面処理材の表面処理
を再度行うと同時にジエツト噴流の流れによつて
導出孔を負圧にし、導出孔より装置本体内に外気
を流入させて導出孔をシールし、装置本体内でジ
エツト噴流を衝突させて急激に膨張させた後、装
置本体内に流体を導出するので、まず第１に順方
向のジエツト噴流と逆方向のジエツト噴流とで方
向を違えて２度表面処理を行うものであり、洗浄
工程にあつては一方向では取れないような汚れで
も完全に除去することができ、塗布工程では余分
の流体が剥ぎ取られて均一な塗布層を形成でき、
更に上記のように第２に導入孔並びに導出孔をシ
ールしてあるので、流体が外部に漏れず、クロー
ズドループで作業ができ、作業環境を清浄に保つ
ことができるという利点も兼ね備えており、加え
て順方向のジエツト噴流と逆方向のジエツト噴流
とを装置本体内で衝突させて急激に膨張させ、そ
の勢いを相殺した後装置本体外に流体を導出する
ので装置形状を非常にコンパクトに出来だけでな
く、前述のようにジエツト噴流膨張空間での勢い
が非常に弱められるために流体の漏れがなくな
り、シール効果と合わせてクローズド化が完全に
なると言う利点がある。

又、第２発明にあつては、装置本体の外面に開
口せる導入孔と導出孔とを装置本体に設け、導入
孔と導出孔に続けてジエツト噴流通過孔を形成
し、ジエツト噴流通過孔と導入孔との境界及びジ
エツト噴流通過孔と導出孔との境界に流体噴出孔
をそれぞれ形成し、ジエツト噴流通過孔内を急激
な速度で通過し、装置本体の奥部に向かつて噴き
出す流体は、ジエツト噴流通過孔内で激しく被表
面処理材の表面をブラツシングし、表面の水分や
汚れを吹き飛ばし、表面を清浄にすると同時に導
出孔の部分にて吸入外気と接触し、表面の液体分
を蒸発させることが出来、一工程で表面の洗浄と
乾燥とが連続的に行えるという利点があり、又、
潤滑剤の塗布にあつては導出孔の部分にて余分な
潤滑油や防錆油が剥ぎ取られ、均一な塗布が行え
るという利点がある。又、導入孔と導出孔の部分
では内径寸法がジエツト噴流通過孔より小さいた
め、ジエツト噴流通過孔内の流体の流れに引かれ
て負圧になり、導入孔と導出孔に流れ込む外気に
より、この部分でも表面のブラツシングが起こる
ものであり、表面の清浄度や乾燥度を向上させる
事が出来るという利点がある。更に装置本体の内
部にジエツト噴流通過孔より内径寸法の大きなジ
エツト噴流膨張空間を設けてあるので、汚れや水
分を含んだ流体はジエツト噴流膨張空間に至り、
更に急膨張すると共に壁面に沿つて旋回して被表
面処理材の周囲に旋回気流を作り出し、被表面処
理材の表面から更に流体分を奪い去るという利点
がある。又、導入孔側と導出孔側の両方からジエ
ツト噴流膨張空間に流体が噴き出すようになつて
いるため、導入孔側から進んで来た旋回気流と導
出孔側から進んで来た旋回気流は流速を下げて排
出孔へと進み、空気と流体分との効果的な分離が
行なわれると同時に互いに反対方向のジエツト噴
流を衝突させて流速を減少させる事が出来るため
に装置形状をコンパクトに出来るという利点もあ
る。その他導入孔側と導出孔側のジエツト噴流の
流速を変えたり、異種の流体を供給して乾燥度や
清浄度の向上を図つたりすることも出来れば、ジ
エツト噴流膨張空間に排出孔を設けてあるので、
排出孔から吸引することによりジエツト噴流を作
り出すことも出来れば、流体供給孔に流体を圧送
すると同時に導出孔から吸引して、より強力なジ
エツト噴流を作り出す事もできるという利点があ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の１実施例のフロー図、第２図
は本発明の第１実施例の縦断面図、第３図は本発
明の第２実施例の縦断面図、第４図は本発明のジ
エツト噴流膨張空間の第３実施例の部分縦断面
図、第５図は本発明のジエツト噴流膨張空間の内
壁に螺旋溝を刻設した場合の縦断面図、第６図は
本発明のジエツト噴流通過孔の出口部分の第２実
施例の縦断面図、第７図は本発明の第４実施例の
縦断面図、第８図は第７図の正面図、第９図は本
発明の第５実施例の縦断面図、第１０図は第９図
の平面図、第１１図は本発明の第６実施例のフロ
ー図である。 Ａは表面処理装置、Ｂは装置本体、Ｃはパスラ
イン、１はジエツト噴流膨張空間、２は被表面処
理材、３は導入孔、４は導出孔、５はジエツト噴
流通過孔、６はガイド中筒、７は流体、８は流体
噴出孔、９は排出孔、θは流体噴出孔と導入孔ま
たは導出孔とのなす角度である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 装置本体を貫通するように形成したパスライ
   ンに被表面処理材を挿通して一方向に送給し、パ
   スラインの導入孔部分にて被表面処理材の送給方
   向に流体のジエツト噴流を吹き付けて被表面処理
   材の表面処理を行うと同時にジエツト噴流の流れ
   によつて導入孔を負圧にし、導入孔より装置本体
   内に外気を流入させて導入孔をシールし、然る後
   パスラインの導出孔部分にて被表面処理材の送給
   方向と逆方向に流体のジエツト噴流を吹き付けて
   被表面処理材の表面処理を再度行うと同時にジエ
   ツト噴流の流れによつて導出孔を負圧にし、導出
   孔より装置本体内に外気を流入させて導出孔をシ
   ールし、装置本体内でジエツト噴流を急激に膨張
   させた後、装置本体外に流体を導出する事を特徴
   とする表面処理方法。 ２ 装置本体内で急激に膨張せるジエツト噴流を
   螺旋気流として成る事を特徴とする特許請求の範
   囲第１項に記載の表面処理方法。 ３ 装置本体の内部にジエツト噴流膨張空間を設
   け、装置本体の外面に開口せる導入孔と導出孔と
   を装置本体に設け、ジエツト噴流膨張空間と導入
   孔との間及びジエツト噴流膨張空間と導出孔との
   間にジエツト噴流通過孔を形成して装置本体を貫
   通するパスラインを構成し、ジエツト噴流通過孔
   を通つてジエツト噴流膨張空間に向かつて流体が
   噴出するようにジエツト噴流通過孔と導入孔との
   境界及びジエツト噴流通過孔と導出孔との境界に
   流体噴出孔をそれぞれ形成し、ジエツト噴流膨張
   空間より装置本体の外面に開口せる排出孔を装置
   本体に穿設して成ることを特徴とする表面処理装
   置。 ４ ジエツト噴流膨張空間の内壁に螺旋溝を刻設
   してなる事を特徴とする特許請求の範囲第３項に
   記載の表面処理装置。 ５ ジエツト噴流通過孔に螺旋溝を刻設してなる
   事を特徴とする特許請求の範囲第３項に記載の表
   面処理装置。 ６ 流体噴出孔に螺旋溝を刻設してなる事を特徴
   とする特許請求の範囲第３項に記載の表面処理装
   置。 ７ ジエツト噴流通過孔の出口近傍を出口に近付
   く程その内径を次第に大に形成してなる事を特徴
   とする特許請求の範囲第３項に記載の表面処理装
   置。 ８ ジエツト噴流膨張空間の内径を、その入り口
   から奥部に行くに連れて次第に大に形成してなる
   事を特徴とする特許請求の範囲第３項に記載の表
   面処理装置。