JPH02275734A - 光ファイバの製造方法 - Google Patents
光ファイバの製造方法Info
- Publication number
- JPH02275734A JPH02275734A JP1094773A JP9477389A JPH02275734A JP H02275734 A JPH02275734 A JP H02275734A JP 1094773 A JP1094773 A JP 1094773A JP 9477389 A JP9477389 A JP 9477389A JP H02275734 A JPH02275734 A JP H02275734A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- thickness
- coating layer
- resin
- measuring device
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/12—General methods of coating; Devices therefor
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、均一な肉厚を有する被覆層が得られる、光フ
ァイバの製造方法に関するものである。
ァイバの製造方法に関するものである。
「従来の技術」
光ファイバの線引き工程について、第３図を用いて説明
する。
する。
図中符号ｌは、光フアイバ母材を示す。光フアイバ母材
１は、加熱炉２により加熱される。この加熱された先フ
ァイバ母材ｌは溶融紡糸され、さらにキャプスタンロー
ラ３により引き出されることにより光ファイバ裸線４が
形成される。光ファイバ裸線４は、光フアイバ冷却装置
５にて冷却された後、先ファイバ外径測定器６により外
径をＡｌ１定される。この測定値は、図示しない外径制
御装置に送られ、外径制御装置は、この測定値からキャ
プスタンローラの速度を制御することにより光ファイバ
裸線４の外径を一定に保つ。さらに、光ファイバ裸線４
は、コーティングダイス７を通過することによりその表
面に樹脂からなる樹脂層が形成される。この樹脂層は樹
脂硬化装置８にて硬化されることにより一次被覆層とな
り、光フアイバ素線９が形成される。この光フアイバ素
線９は、キャプスタンローラ３により巻き取り機１０に
送られ、巻き取られる。
１は、加熱炉２により加熱される。この加熱された先フ
ァイバ母材ｌは溶融紡糸され、さらにキャプスタンロー
ラ３により引き出されることにより光ファイバ裸線４が
形成される。光ファイバ裸線４は、光フアイバ冷却装置
５にて冷却された後、先ファイバ外径測定器６により外
径をＡｌ１定される。この測定値は、図示しない外径制
御装置に送られ、外径制御装置は、この測定値からキャ
プスタンローラの速度を制御することにより光ファイバ
裸線４の外径を一定に保つ。さらに、光ファイバ裸線４
は、コーティングダイス７を通過することによりその表
面に樹脂からなる樹脂層が形成される。この樹脂層は樹
脂硬化装置８にて硬化されることにより一次被覆層とな
り、光フアイバ素線９が形成される。この光フアイバ素
線９は、キャプスタンローラ３により巻き取り機１０に
送られ、巻き取られる。
ここで、上記光フアイバ素線９の一次被覆層の肉厚は、
コーティングダイス７のダイス径により設定される他、
線引き速度、光ファイバ裸線の温度、樹脂の粘度、コー
ティング圧力などにより変化するものである。従来、こ
の−次被覆層の肉厚の制御は、ダイス径の変更および線
引き速度の加減等により調整していた。
コーティングダイス７のダイス径により設定される他、
線引き速度、光ファイバ裸線の温度、樹脂の粘度、コー
ティング圧力などにより変化するものである。従来、こ
の−次被覆層の肉厚の制御は、ダイス径の変更および線
引き速度の加減等により調整していた。
「発明か解決しようとする課題」
ところが、ダイス径を変更して一次被覆層を制御させる
場合は、ダイス径の加工に時間がかかるため応答性が非
常に悪く、さらに、肉厚の微調整には不向きである。ま
た、線引き速度を加減して一次被覆層を制御する場合は
、応答性もよく、また微調整も可能であるが、線引き速
度を変化させなければならないため、生産性、加工性等
の面で問題が生じる。すなわち、線引き速度を下げた場
合は、生産性に問題が生じ、線引き速度を上げた場合は
、コーティングダイス７において、光フアイバ裸線４上
に樹脂が付着しにくく、また、樹脂硬化装置８における
硬化が不充分となる問題が生じる。
場合は、ダイス径の加工に時間がかかるため応答性が非
常に悪く、さらに、肉厚の微調整には不向きである。ま
た、線引き速度を加減して一次被覆層を制御する場合は
、応答性もよく、また微調整も可能であるが、線引き速
度を変化させなければならないため、生産性、加工性等
の面で問題が生じる。すなわち、線引き速度を下げた場
合は、生産性に問題が生じ、線引き速度を上げた場合は
、コーティングダイス７において、光フアイバ裸線４上
に樹脂が付着しにくく、また、樹脂硬化装置８における
硬化が不充分となる問題が生じる。
「課題を解決するための手段」
本発明においては、被覆層の肉厚制御を、光ファイバの
温度を変動さけて行うことにより上記問題を解決するよ
うにした。
温度を変動さけて行うことにより上記問題を解決するよ
うにした。
「作用」
光ファイバの温度をヒータ等により変化させることによ
り、コーティングダイスにおける光フアイバ表面の樹脂
の付着量が変化する。すなわち、光ファイバの表面温度
が低い場合は、光フアイバ表面に付着する樹脂量が多く
なり、被覆層の肉厚も厚くなる。また、表面温度が高い
場合は、光フアイバ表面に付着する樹脂量が少なくなり
被覆層の肉厚も薄くなる。
り、コーティングダイスにおける光フアイバ表面の樹脂
の付着量が変化する。すなわち、光ファイバの表面温度
が低い場合は、光フアイバ表面に付着する樹脂量が多く
なり、被覆層の肉厚も厚くなる。また、表面温度が高い
場合は、光フアイバ表面に付着する樹脂量が少なくなり
被覆層の肉厚も薄くなる。
以下、本発明の光ファイバの製造方法について詳しく説
明する。
明する。
第１図は、本発明の光フアイバ製造方法の一例を示すも
のである。図中符号１は、光フアイバ母材を示す。光フ
アイバ母材１は、カーボン抵抗炉等の加熱炉２により加
熱される。この加熱された光フアイバ母材ｌは溶融紡糸
され、さらにキャプスタンローラ３により引き出される
ことにより光ファイバ裸線４を形成する。この光ファイ
バ裸線４は、光フアイバ冷却装置５にて冷却され、−次
被覆層制御用ヒータ（以下、制御用ヒータと略称する。
のである。図中符号１は、光フアイバ母材を示す。光フ
アイバ母材１は、カーボン抵抗炉等の加熱炉２により加
熱される。この加熱された光フアイバ母材ｌは溶融紡糸
され、さらにキャプスタンローラ３により引き出される
ことにより光ファイバ裸線４を形成する。この光ファイ
バ裸線４は、光フアイバ冷却装置５にて冷却され、−次
被覆層制御用ヒータ（以下、制御用ヒータと略称する。
）ｌｌにて、必要に応じて加熱された後、光フアイバ外
径測定器６により外径を測定される。
径測定器６により外径を測定される。
この測定値は、図示しない外径制御装置に送られ、外径
制御装置は、この測定値からキャプスタンローラ３の速
度を制御することにより光ファイバ裸線４の外径を一定
に保つ。さらに、光ファイバ裸線４は、コーティングダ
イス７を通過することによりその表面に樹脂からなる樹
脂層が形成され、この樹脂層は樹脂硬化装置８にて硬化
されることにより一次被覆層となり、光フアイバ素線９
が形成される。光フアイバ素線９は、−次被覆層肉厚測
定器（以下、肉厚測定器と略称する。）１２により、光
フアイバ裸線４上に形成された一次被覆層の肉厚が測定
される。さらに、この光フアイバ素線９は、キャプスタ
ンローラ３により巻き取り機１０に送られ、巻き取られ
る。
制御装置は、この測定値からキャプスタンローラ３の速
度を制御することにより光ファイバ裸線４の外径を一定
に保つ。さらに、光ファイバ裸線４は、コーティングダ
イス７を通過することによりその表面に樹脂からなる樹
脂層が形成され、この樹脂層は樹脂硬化装置８にて硬化
されることにより一次被覆層となり、光フアイバ素線９
が形成される。光フアイバ素線９は、−次被覆層肉厚測
定器（以下、肉厚測定器と略称する。）１２により、光
フアイバ裸線４上に形成された一次被覆層の肉厚が測定
される。さらに、この光フアイバ素線９は、キャプスタ
ンローラ３により巻き取り機１０に送られ、巻き取られ
る。
本発明の特徴は、上記工程において光ファイバ裸線４の
温度を調整することにより、−次被覆層の肉厚を制御す
るところにある。以下、この−次被覆層の肉厚制御機構
について説明する。
温度を調整することにより、−次被覆層の肉厚を制御す
るところにある。以下、この−次被覆層の肉厚制御機構
について説明する。
まず、肉厚測定器１２が、先ファイバ素線上の一次被覆
層の肉厚を測定する。肉厚測定器１２は、この測定値を
、−次被覆層肉厚制御装置（以下、肉厚制御装置と略称
する。）１３に送る。次に、肉厚制御装置■３は、この
測定値を、予め設定された一次被覆層の肉厚の設定値と
比較する。測定値が設定値より大きい場合は、肉厚制御
装置Ｉ３は、制御用ヒータ１１の出力を上げて、光ファ
イバ裸線４の表面温度を上昇させる。光ファイバ裸線４
の表面温度が上がると、コーティングダイス７内におい
て、先ファイバ裸線４の表面に付着する樹脂量が減少し
、これに伴って一次被覆層の肉厚も減少し、設定値に近
くなる。また、測定値が設定値より小さい場合は、肉厚
制御装置１３は、制御用ヒータ１■の出力を下げて、光
ファイバ裸線４の表面温度を下降させろ。光ファイバ裸
線４の表面温度が下がると、コーティングダイス７内に
おいて、光ファイバ裸線４の表面に付着する樹脂量が増
加し、これに伴って一次被覆層の肉厚ら増加し、設定値
に近くなる。
層の肉厚を測定する。肉厚測定器１２は、この測定値を
、−次被覆層肉厚制御装置（以下、肉厚制御装置と略称
する。）１３に送る。次に、肉厚制御装置■３は、この
測定値を、予め設定された一次被覆層の肉厚の設定値と
比較する。測定値が設定値より大きい場合は、肉厚制御
装置Ｉ３は、制御用ヒータ１１の出力を上げて、光ファ
イバ裸線４の表面温度を上昇させる。光ファイバ裸線４
の表面温度が上がると、コーティングダイス７内におい
て、先ファイバ裸線４の表面に付着する樹脂量が減少し
、これに伴って一次被覆層の肉厚も減少し、設定値に近
くなる。また、測定値が設定値より小さい場合は、肉厚
制御装置１３は、制御用ヒータ１■の出力を下げて、光
ファイバ裸線４の表面温度を下降させろ。光ファイバ裸
線４の表面温度が下がると、コーティングダイス７内に
おいて、光ファイバ裸線４の表面に付着する樹脂量が増
加し、これに伴って一次被覆層の肉厚ら増加し、設定値
に近くなる。
第２図は、本発明の光ファイバの製造方法の他の例を示
すものである。この例は、上記例にて製造された光フア
イバ素線９上にさらに２次被覆層を形成するものである
。
すものである。この例は、上記例にて製造された光フア
イバ素線９上にさらに２次被覆層を形成するものである
。
上記例にて肉厚測定器１２を通過した光フアイバ素線９
は、樹脂硬化装置にて加熱された光フアイバ素線９を冷
却するための光フアイバ素線冷却装置１４にて冷却され
、二次被覆層制御用ヒータ１５にて、必要に応じて加熱
された後、二次被覆用コーティングダイス１６を通過す
ることによりその表面に樹脂からなる樹脂層が形成され
、この樹脂層は二次被覆層樹脂硬化装置１７にて硬化さ
れることにより二次被覆層となり、光フアイバ心線１８
が形成される。光フアイバ心線１８は、二次被覆層肉厚
測定器１９により、光フアイバ素線９上に形成された二
次被覆層の肉厚が測定される。
は、樹脂硬化装置にて加熱された光フアイバ素線９を冷
却するための光フアイバ素線冷却装置１４にて冷却され
、二次被覆層制御用ヒータ１５にて、必要に応じて加熱
された後、二次被覆用コーティングダイス１６を通過す
ることによりその表面に樹脂からなる樹脂層が形成され
、この樹脂層は二次被覆層樹脂硬化装置１７にて硬化さ
れることにより二次被覆層となり、光フアイバ心線１８
が形成される。光フアイバ心線１８は、二次被覆層肉厚
測定器１９により、光フアイバ素線９上に形成された二
次被覆層の肉厚が測定される。
さらに、この光フアイバ心線１８は、キャブスクンロー
ラ３により巻き取り機ＩＯに送られ、巻き取られる。
ラ３により巻き取り機ＩＯに送られ、巻き取られる。
この例における二次被覆層の肉厚の制御方法も、−次被
覆層における肉厚制御の方法と同じく、二次被覆層肉厚
測定器１９と、二次被覆層肉厚制御装置２０と、二次被
覆層制御用ヒータ１５とにより一定の値に制御される。
覆層における肉厚制御の方法と同じく、二次被覆層肉厚
測定器１９と、二次被覆層肉厚制御装置２０と、二次被
覆層制御用ヒータ１５とにより一定の値に制御される。
このように、本発明の光ファイバの製造方法は、−次被
覆層の肉厚の制御のみに用いられるものでなく、二次被
覆層、さらには多層の被覆層に対しても好適に用いられ
るものである。
覆層の肉厚の制御のみに用いられるものでなく、二次被
覆層、さらには多層の被覆層に対しても好適に用いられ
るものである。
なお、上記実施例においては、光ファイバ裸線４の温度
を制御用ヒータ２にて変動させたが、本発明においては
これに限られるものでなく、光ファイバの温度が調整で
きるものであれば良い。
を制御用ヒータ２にて変動させたが、本発明においては
これに限られるものでなく、光ファイバの温度が調整で
きるものであれば良い。
また肉厚測定器１２は、通常用いられている非接触型の
測定器が好適に用いられ、例えば、レーザ外径測定機等
が用いられる。肉厚制御装置１３も通常用いられる制御
装置が用いられる。
測定器が好適に用いられ、例えば、レーザ外径測定機等
が用いられる。肉厚制御装置１３も通常用いられる制御
装置が用いられる。
「実施例」
第１図に示す工程において、加熱炉２において、１２５
ｍｍφの光ファイバ裸線４を形成した。この光ファイバ
裸線４のコーティングダイス７の導入直前における温度
を測定した結果、４０°Ｃであり、また、このときの肉
厚測定器１２における光フアイバ素線９上のＵＶ樹脂か
らなる一次被覆層の肉厚は２００μｍであった。ここで
、肉厚制御装置１３を作動させて、制御用ヒータの出力
を上げたところ、コーティングダイス７の導入直前にお
ける光ファイバ裸線の温度が６０℃になり、このときの
肉厚測定器１２における一次被覆層の肉厚は１９４μｍ
となった。
ｍｍφの光ファイバ裸線４を形成した。この光ファイバ
裸線４のコーティングダイス７の導入直前における温度
を測定した結果、４０°Ｃであり、また、このときの肉
厚測定器１２における光フアイバ素線９上のＵＶ樹脂か
らなる一次被覆層の肉厚は２００μｍであった。ここで
、肉厚制御装置１３を作動させて、制御用ヒータの出力
を上げたところ、コーティングダイス７の導入直前にお
ける光ファイバ裸線の温度が６０℃になり、このときの
肉厚測定器１２における一次被覆層の肉厚は１９４μｍ
となった。
「発明の効果」
以上説明したように、本発明は、光ファイバの線引き工
程において、光ファイバの温度をヒータ等により変動さ
せることにより、コーティングダイスにおける光フアイ
バ表面への樹脂の付着虫を変化させ、これにより被覆層
の肉厚の制御を行うことを特徴とする光フアイバ製造方
法であるので、ヒータ等と肉厚測定器と制御装置とを工
程に組み込むことだけで、光ファイバの生産性、品質等
に影響を与えることなく、応答性、精度共に良好な被覆
層の肉厚の制御が行える。
程において、光ファイバの温度をヒータ等により変動さ
せることにより、コーティングダイスにおける光フアイ
バ表面への樹脂の付着虫を変化させ、これにより被覆層
の肉厚の制御を行うことを特徴とする光フアイバ製造方
法であるので、ヒータ等と肉厚測定器と制御装置とを工
程に組み込むことだけで、光ファイバの生産性、品質等
に影響を与えることなく、応答性、精度共に良好な被覆
層の肉厚の制御が行える。
第１図は本発明の光フアイバ製造方法を用いた線引き工
程の一例を示す概略説明図、第２図は本発明の光フアイ
バ製造方法を用いた線引き工程の他の例を示す概略説明
図、第３図は従来の線引き工程を示す概略説明図である
。 ４ ・・・・ 光ファイバ裸線、 １１ ・・・・ 制御用ヒータ、 １２ ・・・・肉厚測定器、 １３ ・・・・ 肉厚制御装置。
程の一例を示す概略説明図、第２図は本発明の光フアイ
バ製造方法を用いた線引き工程の他の例を示す概略説明
図、第３図は従来の線引き工程を示す概略説明図である
。 ４ ・・・・ 光ファイバ裸線、 １１ ・・・・ 制御用ヒータ、 １２ ・・・・肉厚測定器、 １３ ・・・・ 肉厚制御装置。
Claims (1)
- 光ファイバの線引き工程において、光ファイバの温度を
変動させることにより、被覆層の肉厚を制御することを
特徴とする光ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1094773A JPH02275734A (ja) | 1989-04-14 | 1989-04-14 | 光ファイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1094773A JPH02275734A (ja) | 1989-04-14 | 1989-04-14 | 光ファイバの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02275734A true JPH02275734A (ja) | 1990-11-09 |
Family
ID=14119417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1094773A Pending JPH02275734A (ja) | 1989-04-14 | 1989-04-14 | 光ファイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02275734A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023083734A (ja) * | 2021-12-06 | 2023-06-16 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS597655A (ja) * | 1982-07-05 | 1984-01-14 | Nisshin Steel Co Ltd | 低接触圧サポ−トロ−ル装置 |
| JPS6374938A (ja) * | 1986-09-16 | 1988-04-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 被覆光フアイバの外径制御方法 |
-
1989
- 1989-04-14 JP JP1094773A patent/JPH02275734A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS597655A (ja) * | 1982-07-05 | 1984-01-14 | Nisshin Steel Co Ltd | 低接触圧サポ−トロ−ル装置 |
| JPS6374938A (ja) * | 1986-09-16 | 1988-04-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 被覆光フアイバの外径制御方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023083734A (ja) * | 2021-12-06 | 2023-06-16 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
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