JPH02276242A - 拡散炉装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は拡散炉装置に関する。

〔従来の技術〕

従来、半導体装置の製造に用いられる拡散炉装置は、拡
散炉を冷却するためのラジェター用のファンの回転数は
常に一定であり、従って冷却後の排気風量も常に一定で
あった。そのため、拡散炉のヒーター温度の変化により
、冷却後の排気温度はかなり変動していた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の拡散炉装置は、排気風量が常に一定で排
気温度が変動するために、室内に排気する場合は、室温
が極部的に変動するため室内全体の温度管理が難しくな
るという問題が生じていた。又、排気された空気を室外
に排気するシステムでは、排気温度の高低にかかわらず
常に同一の風量を室外に捨てるために、捨てた分だけク
リーンエアを精製せねばならず、むだが生じていた。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の拡散炉装置は、拡散炉ヒーター部からの放熱を
ファンにより強制的にラジェターを通過させ冷却する機
構を持つ拡散炉装置において、ラジェター通過後の空気
の温度またはラジェターからの排水の温度に応じて前記
ファンの回転数を制御するものである。

〔実施例〕

第１図は本発明の第１の実施例の模式図である。

半導体基板処理用の炉芯管１の回りにはヒーター２が巻
かれ、炉芯管１を加熱出来る様に構成さている。又ヒー
ター２の外周部には、冷却用の空気１０が矢印の方向へ
と流れる様な構造となっている。冷却水３は矢印方向に
流れ、途中に熱交換用のラジェター４が取付けられてい
る。空気１０はファン５によって炉体外部より装置内に
入り、ラジェター４を通過して冷却水により冷やされ、
ダクト６から排出される。

またファン５の前にはラジェター通過後の空気の温度を
測定出来る温度計７が取付けられており、この温度の信
号を出力することによりファン回転数コントローラ８の
演算機能がその温度に応じた最適な回転数でファンを制
御し、ダクト６への排気量を調整する。

このように構成された第１の実施例によれば、排出され
る空気の温度により排気量が調整されるため、従来に比
べ排気量を少くすることができる。

第２図は本発明の第２の実施例の模式図である。

この第２の実施例ではラジェターより排出された冷却水
３の水温を水温計９により測定し、その水温に応じてフ
ァン５の回転数を制御するように構成しである。

この第２の実施例では、冷却水の水温に応じてファンの
回転数を制御するために、第１の実施例の場合と比べ応
答性は悪いが、ファンの回転数の増減が極端でなくなる
ため、ファン５の負荷を低減できる利点がある。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は、ファンの回転数をラジェ
ター通過後の空気の温度またはラジェターからの排水の
温度に応じて制御することにより、排気温度及び排気風
量を制御出来るという効果がある。従って室内の温度管
理が容易になると゛共に、クリーンエアの精製量を少く
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明の第１及び第２の実施例の模
式図である。 ｌ・・・炉芯管、２・・・ヒーター　３・・・冷却水、
４・・・ラジェター、５・・・ファン、６・・・排気ダ
クト、７・・・温度計、８・・・ファン回転数コントロ
ーラ、９・・・水温計、１０・・・空気。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 拡散炉ヒーター部からの放熱をファンにより強制的にラ
   ジエターを通過させ冷却する機構を持つ拡散炉装置にお
   いて、ラジエター通過後の空気の温度またはラジエター
   からの排水の温度に応じて前記ファンの回転数を制御す
   ることを特徴とする拡散炉装置。